技术特征：
技术总结
本发明涉及薄膜制造技术领域，尤其涉及一种脉冲激光沉积系统及其薄膜制备方法。所述脉冲激光沉积系统包括激光器、真空腔、基片加热台、抽真空设备和气氛气体通入设备，还包括靶材挡板、厚度测试模块、薄膜参数测试模块和计算机设备，所述计算机设备用于设置薄膜制备参数并对应控制薄膜制备环境、以及根据所述厚度测试模块测试的薄膜的沉积速率和所述薄膜参数测试模块测试的已沉积薄膜的参数数据调整薄膜的制备参数。通过控制基片加热台和靶材转盘转动而切换基片和靶材，并根据测试的薄膜沉积速率和已沉积薄膜的参数数据调整优化膜的制备参数，降低了薄膜制备的时间和成本，提升了薄膜制备的工作效率和控制便捷性。
技术研发人员：胡凯;代瑞娜;张晓军;陈志强;方安安;姜鹭;潘恒;王岩;王峻岭
受保护的技术使用者：深圳市矩阵多元科技有限公司
技术研发日：2018.10.09
技术公布日：2019.03.19