技术特征：
技术总结
本发明公开一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置，包括沉积真空室，沉积真空室两端连接放卷真空室和收卷真空室，放卷真空室内设置有放卷辊，放卷辊连接有放卷磁流体，放卷磁流体通过放卷磁粉离合器连接有放卷伺服电机；收卷真空室内设置有收卷辊，收卷辊连接有收卷磁流体，收卷磁流体通过收卷磁粉离合器连接有收卷伺服电机；放卷辊和收卷辊上用于缠绕基带；沉积真空室上下两侧分别交错设置有多个热电偶和加热器；沉积真空室上设置有匀气座；沉积真空室、放卷真空室和收卷真空室上分别开设有抽气口。本发明还提供一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置的工作方法，在上述装置的基础上采用该方法后使原子层沉积简单方便，效率高。
技术研发人员：张跃飞;屠金磊
受保护的技术使用者：北京工业大学
技术研发日：2018.11.13
技术公布日：2019.02.01