本实用新型属于真空镀膜技术领域，特别涉及一种纳米真空镀膜装置。
背景技术：
目前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光经过镜片的能量损耗。又如于某些滤光组件表面镀上一层滤光膜制成滤光片，其可过滤掉一预定波段的光。一般地，镀膜方法主要包括蒸镀法、离子镀膜法、射频磁控溅镀、化学气相沉积法等。
蒸镀装置通常包括一个蒸镀腔室、一个用于承载待镀膜工件的伞形基板及一个位于该伞形基板正下方的用于承载膜料的坩埚。传统的蒸镀方法是将待镀膜基材放置于伞形基板上，然后使气态或离子态的膜料沉积于待镀膜基材上表面形成薄膜。然而，一般蒸镀装置内用于承载膜料的坩埚距离该伞形基板每一个点的距离不完全相等，导致沉积速率不均等，所以会产生膜厚不均匀的现象，影响镀膜质量。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于：针对现有技术的不足，而提供一种镀膜均匀、不影响质量的镀膜装置。
为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：
提供一种纳米真空镀膜装置，包括机架、控制器、升华炉、分解炉、真空通道、真空镀膜缸体、冷凝井和真空泵，所述升华炉和所述分解炉均设置于所述机架内，所述控制器分别与所述升华炉、所述分解炉、所述真空镀膜缸体、所述冷凝井和所述真空泵连接，所述真空通道的一端与所述升华炉的输出端连接，所述真空通道的另一端穿过所述分解炉与所述真空镀膜缸体连通，所述真空镀膜缸体通过所述冷凝井与所述真空泵连接。
优选地，所述控制器包括控制柜和控制屏，所述控制柜安装于所述机架内部，且所述控制柜位于所述升华炉和所述分解炉的下方，所述控制屏设置于所述机架的上方，且所述控制屏和所述控制柜电连接。
优选地，所述升华炉包括升华炉腔、进料口和出料口，所述进料口和所述出料口设置于所述升华炉腔的两端，升华炉腔的外壁设置有多个加热片。
优选地，所述进料口的入口处密封安装有原料门。
优选地，所述真空镀膜缸体包括产品放置缸体、缸体盖、移动装置和锁紧松开装置，所述产品放置缸体设置于所述移动装置，所述缸体盖与所述锁紧松开装置连接，所述缸体盖盖接于所述产品放置缸体，所述产品放置缸体设置有真空涂膜腔，所述真空涂膜腔内部放置有产品放置架。
优选地，所述移动装置包括固定座和移动轮，所述移动轮设置于所述固定座的底部，所述产品放置缸体固定于所述固定座。
优选地，所述锁紧松开装置包括第一固定部、第二固定部、连接板、连接杆、液压缸和控制块，所述第一固定部固定于所述产品放置缸体的外壁，所述第二固定部固定于所述固定座，所述液压缸安装于所述第一固定部，且所述液压缸套设有转动套，所述连接板的一端连接于所述缸体盖，所述连接板的另一端连接于所述转动套，所述连接杆的一端与所述液压缸的输入端连接，所述连接杆的另一端与所述控制块连接。
优选地，所述真空涂膜腔的内壁设置有两个相互对应的第一挡板和第二挡板，所述第一挡板和所述第二挡板的一侧均与所述真空涂膜腔的内壁密封，所述第一挡板和所述第二挡板的的另一侧均与所述真空涂膜腔的内壁具有空隙。
优选地，所述缸体盖设置有观察窗。
优选地，所述机架的底部设置有滑轮。
本实用新型的有益效果在于：本实用新型的纳米真空镀膜装置包括机架、控制器、升华炉、分解炉、真空通道、真空镀膜缸体、冷凝井和真空泵，所述控制柜、所述升华炉和所述分解炉均设置于所述机架内，所述控制器分别连接于所述升华炉、所述分解炉、所述真空镀膜缸体、所述冷凝井和所述真空泵，所述真空通道的一端与所述升华炉的输出端连接，所述真空通道的另一端穿过所述分解炉与所述真空镀膜缸体连通，所述真空镀膜缸体通过所述冷凝井与所述真空泵连接。通过上述结构使得本实用新型的镀膜均匀，且镀膜效果好，尤其适用于大批量工业化生产，具有很高的市场应用价值。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为本实用新型中升华炉的结构示意图。
图3为本实用新型中真空镀膜缸体的结构示意图。
图4为本实用新型中真空涂膜腔的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施方式和说明书附图，对本实用新型作进一步详细的描述，但本实用新型的实施方式不限于此。
如图1至图4所示，一种纳米真空镀膜装置，包括机架1、控制器2、升华炉3、分解炉4、真空通道5、真空镀膜缸体6、冷凝井7 和真空泵8，升华炉3和分解炉4均设置于机架1内，控制器2分别与升华炉3、分解炉4、真空镀膜缸体6、冷凝井7和真空泵8连接，真空通道5的一端与升华炉3的输出端连接，真空通道5的另一端穿过分解炉4与真空镀膜缸体6连通，真空镀膜缸体6通过冷凝井7与真空泵8连接。
优选地，控制器2包括控制柜21和控制屏22，控制柜21安装于机架1内部，且控制柜21位于升华炉3和分解炉4的下方，控制屏22设置于机架1的上方，且控制屏22和控制柜21电连接。使得升华炉3在控制柜21的控制范围内实现了有效地加热，使得加入升华炉3的镀膜材料的雾化效果好，有利于产品在真空镀膜缸体6的镀膜。
优选地，升华炉3包括升华炉腔31、进料口32和出料口33，进料口32和出料口33设置于升华炉腔31的两端，升华炉腔31的外壁设置有多个加热片34，通过加热片34的设置，提高了升华炉3的加热的均匀性。进料口32的入口处密封安装有原料门35，原料门35 的密封效果好，可以用于进料口32加料后的密封。升华炉3还包括锁紧装置36，多个加热片34均通过锁紧装置36均匀地固定于升华炉腔31的外壁，然后再通过控制柜21控制多个加热片34的工作。
优选地，真空镀膜缸体6包括产品放置缸体61、缸体盖62、移动装置63和锁紧松开装置64，产品放置缸体61设置于移动装置63，缸体盖62与锁紧松开装置64连接，缸体盖62盖接于产品放置缸体 61，缸体盖62设置有观察窗621，观察窗621用于产品镀膜过程中进行观察，产品放置缸体61设置有真空涂膜腔611，真空涂膜腔611 内部放置有产品放置架612。当镀膜工作进行时，需要镀膜的产品回放置在产品放置架612上，然后通过锁紧松开装置64带动缸体盖62 对产品放置缸体61进行密封，从而使得本实用新型的镀膜均匀度好、镀膜质量好；且适用于大批量工业化生产、实用性强，具有很高的市场应用价值。
其中，移动装置63包括固定座631和移动轮632，移动轮632 设置于固定座631的底部，产品放置缸体61固定于固定座631。锁紧松开装置64包括第一固定部641、第二固定部642、连接板643、连接杆644、液压缸645和控制块646，第一固定部641固定于产品放置缸体61的外壁，第二固定部642固定于固定座631，液压缸645 安装于第一固定部641，且液压缸645套设有转动套647，连接板643 的一端连接于缸体盖62，连接板643的另一端连接于转动套647，连接杆644的一端与液压缸645的输入端连接，连接杆644的另一端与控制块646连接。真空涂膜腔611的内壁设置有两个相互对应的第一挡板6111和第二挡板6112，第一挡板6111和第二挡板6112的一侧均与真空涂膜腔611的内壁密封，第一挡板6111和第二挡板6112的的另一侧均与真空涂膜腔611的内壁具有空隙613。在抽真空时，产品放置缸体61内的空气通过第一挡板6111的一侧有空隙613流出，然后在真空涂膜腔611内呈“S”形流入第二挡板6112的一侧的空隙 613，从而实现了真空涂膜腔611内的抽真空。
优选地，机架1的底部设置有滑轮11，实现了对机架1的移动，符合市场的需求。
本实用新型的工作原理是：将需要镀膜的产品放置在真空镀膜腔 611的产品放置架612上，然后通过原料门35将镀膜材料密封放置到升华炉3内，接着在控制屏22上设置所需镀膜的参数，使得冷凝井7的温度和真空泵8的压力达到设定值，同时升华炉3内的温度也达到设定值，此时镀膜材料通过在升华炉3到分解炉4的反应，使得镀膜材料雾化之后通过真空通道5流入真空镀膜腔对产品进行镀膜，从而实现了对产品的均匀镀膜。
根据上述说明书的揭示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还能够对上述实施方式进行变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，凡是本领域技术人员在本实用新型的基础上所作出的任何显而易见的改进、替换或变型均属于本实用新型的保护范围。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型构成任何限制。