多系统Parylene真空冷却镀膜机的制作方法

本实用新型涉及电镀技术领域，尤其涉及一种多系统Parylene真空冷却镀膜机。

背景技术：

Parylene中文称:派瑞林、聚对二甲苯，或派拉伦，是对一系列独特的高聚物的一个通常的称呼。主要分为N型、C型、D型、F型，不同的类型具有不同的性能。N型是对二甲苯的高聚物，具有最强的渗透能力，能够有效地在各种细缝或针孔表面形成薄膜；C型是在其芳香基中一氢分子被氯所取代，具有极低的水分子和腐蚀性气体的穿透率，沉积速率比N型快。D型是在其芳香基中二个氢原子被二个氯原子所取代，因而在更高温度下具有相对更好的物理及电性能，同时与N、C型相比，具有更好的热稳定性；F型是将二甲基上的H原子替换为F原子，F-C键是已知最强的共价键，键能高达445KJ/mol，仅次于C-H键，但是键能却比C—H键强得多，因而能抵抗紫外线对它的破坏，改善抗紫外线能力；氟原子取代亚甲基上的氢原子也极大地改变化学键的极性，进而提高了其热稳定性和抗老化性能，使其在航空及半导体领域将有可观的应用前景。

但是，目前现有的Parylene真空镀膜机往往只有一个蒸发腔室，升华温度单一，每次只能制备单一类型的Parylene薄膜，性能好的复合Parylene薄膜的制备成为一个难以攻克的难题。ZL201320607540.7公开了《一种复合式聚对二甲苯防水膜沉积装置》，该装置并列设置多个蒸发腔，并各自对应连接裂解室，可实现同时沉积两种以上分子结构的聚对二甲苯膜。由于Parylene在蒸发室内的蒸发温度不一样，会存在一定的工艺差异，而在裂解室的裂解温度基本相同，所以多裂解室会造成浪费，而且裂解室数量的增加，无疑增加了仪器制造的难度，同时也增加工艺成本。

技术实现要素：

本实用新型提供一种设有多蒸发腔、单裂解室，能耗低，沉积速度快且均匀，可制备多功能复合型Parylene薄膜的多系统Parylene真空冷却镀膜机。本实用新型提供的技术方案如下：

一种多系统Parylene真空冷却镀膜机，其特征在于，包括控制面板、蒸发室、裂解室、真空沉积室、真空系统，外循环冷却系统，所述真空沉积室内设有进气分流器和抽气分流器，所述控制面板分别与蒸发室、裂解室、真空系统、外循环冷却系统连接，所述蒸发室包括若干个并列设置的蒸发腔，所述蒸发腔的一端与裂解室连接，所述裂解室通过管路与真空沉积室内的进气分流器连接，所述真空沉积室内的抽气分流器通过管路与真空系统连接，所述真空沉积室外设有真空外壳冷循环水套，所述真空外壳冷循环水套接有外循环冷却系统。

本实用新型的工作过程如下：

向蒸发腔分别加入不同类型的Parylene固体原料，控制面板发出控制信号，启动真空系统，保证本实用新型体系内为真空状态；控制面板发出控制信号，分别将各个蒸发腔、裂解室设置到指定温度，固体原料升华后经异形管路扩散至裂解室，裂解成具有反应特性的活性单体，活性单体经管路在进气分流器和抽气分流器的作用下，均匀的扩散至整个真空沉积室，在外循环冷却系统的作用下，真空外壳冷循环水套一直保持低温的状态，使形成气相活性单体快速均匀的涂覆在样品表面形成Parylene薄膜，有效的防止了气相沉积在真空系统的连接管路。

通过采用以上技术方案，本实用新型所达到的有益效果为：

1、本实用新型不仅可以制备单一类型的Parylene薄膜如C型、F型，还可以以不类型的Parylene固体为原料，制备具有多功能的复合Parylene薄膜，如C-F型Parylene薄膜，该薄膜不仅具有C型膜的耐压防水的的特性，还兼有F型膜的抗紫外线、耐高温的性能。

2、本实用新型采用多蒸发腔，单裂解室，耗能低，使升华后的Parylene分子进入裂解室后裂解为活性单体并混合均匀，得到均匀的复合Parylene薄膜。

3、真空沉积室加装进气分流器和抽气分流器后，气相活性单体均匀的扩散充满整个真空沉积室，使Parylene薄膜涂覆更均匀。

4、在外循环冷却系统的作用下，更快、更稳的形成复合Parylene薄膜，节省了工艺时间，提高了工作效益，同时抑制了气相扩散沉积至真空系统的管路，有效的防止了真空系统管路堵塞的发生。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是现有类型一Parylene真空镀膜机的结构示意图；

图3是现有类型二Parylene真空镀膜机的结构示意图；

图中：1、蒸发腔，2、异形管路，3、裂解室，4、真空沉积室，5、真空系统，6、壳体， 7、外循环冷却系统，8、进气分流器，9、抽气分流器，10、真空外壳冷循环水套。

具体实施方式

如图1所示，一种多系统Parylene真空冷却镀膜机，其特征在于，包括控制面板、蒸发室、裂解室3、真空沉积室4、真空系统5，外循环冷却系统7，所述真空沉积室4内设有进气分流器8和抽气分流器9，所述控制面板分别与蒸发室、裂解室3、真空系统5、外循环冷却系统7连接，所述蒸发室包括若干个并列设置的蒸发腔1，所述蒸发腔1的一端与裂解室3 连接，所述裂解室3通过管路与真空沉积室4内的进气分流器8连接，所述真空沉积室4内的抽气分流器9通过管路与真空系统5连接，所述真空沉积室4外设有真空外壳冷循环水套 10，所述真空外壳冷循环水套10接有外循环冷却系统7。

本实用新型的蒸发腔1分别设有温度控制器，所述温度控制器与控制面板连接。

本实用新型的蒸发腔1的一端通过异形管路2与裂解室3连接。

本实用新型的蒸发腔1、裂解室3外共同罩有壳体6。

本实用新型的进气分流器8和抽气分流器9上分别设有抽气系统，所述抽气系统与控制面板连接。

如图2所示，现有类型一Parylene真空镀膜机的蒸发室只有一个蒸发腔1，只能设定单一的升华温度，如以聚对二甲苯单氯代物为固体原料时，理想升华温度为120℃，制备出的C 型Parylene薄膜具有很好的防水、耐压的性能，当以聚对二甲苯氟代物为固体原料时，理想升华温度为140℃，当制备出的F型Parylene薄膜具有很好的防紫外线、耐高温的性能。但是当需要制备既有很好的防水、耐压性能，又有很好的防紫外线、耐高温性能的Parylene薄膜则难以实现。

如图3所示，现有类型二Parylene真空镀膜机，设有多个蒸发腔，并各自对应连接裂解室，可以同时以不同类型的Parylene固体为原料制备Parylene薄膜，但是由于Parylene在蒸发室内的蒸发温度不一样，会存在一定的工艺差异，而在裂解室的裂解温度基本相同，所以多裂解室会造成浪费。

本实用新型蒸发室采用多蒸发腔，可同时以不同类型的Parylene固体为原料，本实施例以双蒸发腔为例，如以聚对二甲苯单氯代物和聚对二甲苯氟代物为固体原料，将两种原料分别放置于不同的蒸发腔1，控制面板设置两腔体温度控制器的温度分别为120℃、140℃，其中控制面板的型号为KR3000真空涂覆设备控制系统。两蒸发腔1通过Y型管路2连接至裂解室3，使两个蒸发腔1升华后的分子同时扩散进入裂解室3，在650℃条件下裂解成为具有反应特性的活性单体，活性单体经管路在进气分流器8和抽气分流器9的作用下，均匀的扩散至整个真空沉积室4，在外循环冷却系统7的作用下，真空外壳冷循环水套10一直保持低温的状态，使形成气相活性单体快速均匀的涂覆在样品表面形成C-F型复合Parylene薄膜，该复合Parylene薄膜既具C型膜的防水耐压性能，又有F型膜的抗紫外线、耐高温性能。整个过程在真空环境下进行，通过真空系统5实现。