一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统的制作方法

本实用新型涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统。

背景技术：

目前，产品从前工序进入真空镀膜设备之前，例如PVD(Physical Vapor Deposition，物理气相沉积)镀膜设备之前，需要搬送较长距离和等待一段时间，期间没有减少静电和细小颗粒物的措施，由于待镀膜基板表面上存在静电和细小颗粒物，在进行PVD镀膜时，会影响膜层的均匀性和导电性，从而降低良品率。

技术实现要素：

(一)要解决的技术问题

本实用新型的目的是提供一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，能够使得待镀膜基板在镀膜前有效去除存在的静电和细小颗粒物。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，至少包括离子风棒以及与所述离子风棒连接的离子发生器，其中所述离子风棒安装在真空镀膜设备的腔室入口处。

具体地，所述离子风棒的出风口的出风方向与待镀膜基板表面之间的夹角为30～60°。

进一步地，还包括控制器，所述控制器与所述离子发生器相连。

进一步地，还包括光电传感器，所述光电传感器安装在所述真空镀膜设备上靠近大气门的位置处，所述光电传感器与所述控制器相连。

进一步地，还包括与所述控制器相连的气源，所述气源通过送气管路与所述离子风棒相连。

具体地，所述气源为CDA气源或氮气气源。

进一步地，所述送气管路上设有电磁阀。

具体地，所述电磁阀与所述控制器相连。

具体地，所述控制器为定时程序控制器或PLC控制器。

具体地，所述离子风棒设有固定架，所述固定架通过连接件安装在所述真空镀膜设备的腔室入口处。

(三)有益效果

本实用新型的上述技术方案具有如下优点：

本实用新型提供的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，通过在真空镀膜设备的腔室入口处安装离子风棒，将离子风棒与离子发生器相连，使得待镀膜基板在进入真空镀膜设备过程中，能够通过离子风棒有效的去除待镀膜基板的静电和细小颗粒物，进而提高良品率。

附图说明

图1是本实用新型实施例用于真空镀膜的颗粒物清洁系统的结构示意图；

图2是本实用新型实施例用于真空镀膜的颗粒物清洁系统的离子风棒安装示意图。

图中：1：离子风棒；2：离子发生器；3：真空镀膜设备；301：腔室入口；4：控制器；5：光电传感器；6：气源；7：电磁阀；8：待镀膜基板。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1-2所示，本实用新型实施例提供一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，至少包括离子风棒1以及与所述离子风棒1连接的离子发生器2，所述离子风棒1安装在真空镀膜设备3的腔室入口301处。

其中，所述离子风棒1可沿竖直、水平向或其他方向安装在所述真空镀膜设备3的腔室入口301处。也即，所述离子风棒1在所述真空镀膜设备3的腔室入口301处的安装方向取决于待镀膜基板8进入所述真空镀膜设备3时的方向，以保证所述离子风棒1与所述待镀膜基板8的表面相平行。例如，在本实施例中，所述待镀膜基板8沿竖直向进入所述真空镀膜设备3，则所述离子风棒1沿竖直向安装在所述真空镀膜设备3的腔室入口301处。然而当所述待镀膜基板8沿水平向进入所述真空镀膜设备3时，则所述离子风棒1沿水平向安装在所述真空镀膜设备3的腔室入口301处。

本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，通过在所述真空镀膜设备3的腔室入口301处沿竖直向安装与离子发生器2相连的离子风棒1，使得待镀膜基板8在进入所述真空镀膜设备3的过程中，能够通过所述离子风棒1有效的去除所述待镀膜基板8上的静电和细小颗粒物，进而提高良品率。

其中，所述离子风棒1的出风口的出风方向与所述待镀膜基板8表面之间的夹角为30～60°，也即，所述离子风棒1的出风方向朝向所述待镀膜基板8传输时的起始方向，从而使所述待镀膜基板8在进入所述真空镀膜设备3的过程中，达到最佳的去除静电与细小颗粒物的效果。

进一步来说，本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统还包括控制器4，所述控制器4与所述离子发生器2相连，通过所述控制器4能够控制所述离子发生器2的工作状态，进而通过所述离子发生器2来控制所述离子风棒1的工作状态。

进一步来说，本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，还包括光电传感器5，所述光电传感器5安装在所述真空镀膜设备3上靠近大气门的位置处，所述光电传感器5与所述控制器4相连。通过所述光电传感器5来感应安装在所述真空镀膜设备3的腔室入口301处大气门的开关状态，并将感应信号发送至所述控制器4。

进一步来说，本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统还包括与所述控制器4相连的气源6，所述气源6通过送气管路与所述离子风棒1相连。

其中，所述气源可采用CDA气源或氮气气源。

其中，所述送气管路上还设有电磁阀7，所述电磁阀7与所述控制器4相连。通过所述控制器4能够控制所述电磁阀7的开关，进而控制所述气源6向所述离子风棒1的送气状态。

具体来说，所述控制器4可采用定时程序控制器或PLC控制器。

更具体来说，所述离子风棒1设有固定架，所述固定架通过连接件安装在所述真空镀膜设备3的腔室入口301处，从而实现所述离子风棒1在所述真空镀膜设备3上的安装固定，其中所述连接件可采用螺栓等。

本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统的工作过程如下：

首选，根据所述待镀膜基板8是水平或立式传输方式，将所述离子风棒1相应地沿水平向或竖直向安装固定在所述真空镀膜设备3的腔室入口301处，以保证所述离子风棒1与待镀膜基板8的表面平行。然后调节所述离子风棒1的出风角度，使所述离子风棒1出风口的出风方向与所述待镀膜基板8表面之间的夹角为30～60°。将所述光电传感器5安装在所述真空镀膜设备3上靠近大气门的位置处。然后将所述离子风棒1的连接线末端插入所述离子发生器2的高压输出插孔，顺时针旋转到头，再将所述离子风棒1的接地线连接到所述离子发生器2外侧的接地柱上，并确认接地良好。之后将所述离子发生器2的电源按钮正负极接线断开，将所述控制器4分别通过连接线与离子发生器2、光电传感器5、气源6、电磁阀7对应连接。

当有待镀膜基板8传输过来时，所述真空镀膜设备3的大气门打开，此时所述光电传感器5感应到大气门的位置状态，将信号发送给所述控制器4。所述控制器4根据设定分别发出启动所述离子发生器2的信号、启动所述电磁阀7以及启动所述气源6的信号，从而使所述离子发生器2上电工作，使所述离子风棒1正常通入CDA或氮气，进而使所述离子风棒1吹出离子风。所述待镀膜基板8在进入所述真空镀膜设备3的腔室入口301前，其表面都会被离子风进行吹扫，当完全进入所述真空镀膜设备3后，大气门关闭，所述光电传感器5将感应信号发送给所述控制器4，从而控制所述离子发生器2和所述电磁阀7停止工作，完成一个完整的工作流程。

综上所述，本实用新型实施例所述用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，具有如下优点：

本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，能够在待镀膜基板进入真空镀膜设备前，有效去除待镀膜基板上的静电和细小颗粒物，提高了良品率，提升了PVD镀膜的均匀性和膜层的导电性。

本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，结构简单，易于安装，无需对原有主体真空镀膜设备进行改造。

本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，能够实现自动化工作，无需增加劳动力。

本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，通过光电传感器来感应真空镀膜设备的大气门开关状态，从而实现系统的自动启闭工作，简便灵活，节省用电用气。

本实用新型实施例所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，通过控制器来实现对离子发生器和电磁阀的开关控制，简单易操作，控制稳定。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型的描述中，除非另有说明，“若干”的含义是一个或多个；“多个”的含义是两个或两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的机或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。