防止蒸镀金属层脱落的金属掩膜版及制作方法与流程

本发明涉及一种防止蒸镀金属层脱落的金属掩膜版及其制作方法，属于oled技术领域。

背景技术：

oled行业蒸镀用金属掩膜板（mask），如图1所示，在蒸镀金属层（cathodelayer）过程中，因镁银合金（mg/ag）中掺杂氟化锂（lif），材料21与金属掩膜板1结合力不够，金属层22容易造成脱落现象。为了保证蒸镀在金属掩膜板上的镁银合金的附着力，可以对金属掩膜板下表面增加粗糙度。如果直接在成品金属掩膜版背面增加粗糙度，为了避免金属掩膜版的开口处受到损坏，通常将粗糙区边界与开口处留有0.3~1mm的距离。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种防止蒸镀金属层脱落的金属掩膜版及其制作方法，以解决现有技术的金属掩膜版不能使其整个背面完全粗糙的技术问题。

本发明防止蒸镀金属层脱落的金属掩膜版制作方法采用如下技术方案：防止蒸镀金属层脱落的金属掩膜版制作方法，其包括以下步骤：（1）清洗：采用清洗设备对片状invar合金材料进行清洗，除去invar合金表面油污；（2）喷墨：使用喷墨设备将油墨分别均匀喷洒到清洗干净的invar合金的上下两个表面，油墨在invar合金的两个表面干燥后分别形成油墨层；（3）单面曝光：使用曝光机将uv光照射到invar合金其中一面的油墨层上，该面油墨层全部被uv光照射发生光聚合反应；（4）显影：使用显影机将显影溶液喷洒到上一步单面曝光后的产品上，未被uv光照射的一面油墨层与显影液反应，露出invar合金；（5）蚀刻：使用蚀刻机将蚀刻溶液喷洒到显影后的产品上，上一步的产品中露出invar合金的一面与蚀刻溶液反应，形成粗糙表面；被油墨层覆盖的一面未与蚀刻液接触，不发生反应；（6）退膜：使用退膜机将退膜溶液喷洒到蚀刻后的产品上，退膜溶液与上一步产品中残留的油墨层反应，油墨层溶解到溶液中，invar合金材料完全露出得到单面粗糙的片状invar合金；（7）清洗：采用清洗设备对上一步单面粗糙的invar合金材料进行清洗，除去invar合金表面油污；（8）喷墨：使用喷墨设备将油墨分别均匀喷洒到上一步清洗干净的invar合金的上下表面，油墨在invar合金的上下表面干燥后分别形成油墨层；（9）双面曝光：使用曝光机将uv光经过光罩照射到invar合金两个表面的油墨层上，光罩对invar合金的部分位置挡光，被uv光照射的油墨发生光聚合反应，未被uv光照射的油墨不发生光聚合反应；（10）显影：使用显影机将显影溶液喷洒到上一步曝光后的产品上，未被uv光照射的油墨层处的油墨与显影液反应，被显影掉，露出invar合金；（11）形成镂空的网格：将上一步露出invar合金去掉，从而在产品上形成镂空的网格；（12）退膜：使用退膜机将退膜溶液喷洒到上一步形成镂空网格的产品上，退膜溶液与产品上残留的油墨层反应，油墨层溶解到溶液中，invar合金材料完全露出形成带有网格且一面粗糙的金属掩膜版。

步骤（5）中，将invar合金表面蚀刻掉掉5~10μm。

经过步骤（5）的蚀刻处理后，invar合金粗糙面的粗糙度比未进行蚀刻处理前增大0.25~1μm。

步骤（11）中，采用蚀刻方法形成网格，具体是：使用蚀刻机将蚀刻溶液喷洒到显影后的产品上，露出的invar合金与蚀刻溶液反应，形成镂空的网格，被油墨层覆盖部分未与蚀刻液接触，不发生反应。

本发明防止蒸镀金属层脱落的金属掩膜版采用如下技术方案：金属掩膜版为具有镂空网格的片状结构，金属掩膜版的其中一面全部为粗糙面。

金属掩膜版粗糙面的粗糙度比另一个面的粗糙度大0.25~1μm。

本发明的有益效果是：本发明在制作时，先对invar合金的一个面进行蚀刻处理，使该面成为粗糙表面，从而提高蒸镀时金属材料与金属掩膜版之间的结合力，防止蒸镀时金属材料脱落，降低产品的不良率；另外，invar合金的一个面为整面蚀刻成为粗糙表面，然后再制作开口，因此粗糙区与开口无距离限制。本发明彻底解决现有技术的金属掩膜版不能使其整个背面完全粗糙的技术问题。

优选的，采用蚀刻方法形成网格，使金属掩膜版镂空网格处的断面无毛边、无热变形。

附图说明

图1是金属掩膜版蒸镀过程的示意图；

图2是本发明一种实施例的金属掩膜版制作过程示意图；

图3是本发明一种实施例的金属掩膜版粗糙面的示意图及其截面放大图。

图中，1-金属掩膜版，11-网格，12-粗糙面，21-材料，22-金属层。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。

本发明一种实施例防止蒸镀金属层脱落的金属掩膜版制作方法的过程如图2所示，本实施例的制作方法包括以下步骤：（1）清洗：采用清洗设备对片状invar合金材料进行清洗，除去invar合金表面油污；（2）喷墨：使用喷墨设备将油墨分别均匀喷洒到清洗干净的invar合金的上下两个表面，油墨在invar合金的两个表面干燥后分别形成油墨层；（3）单面曝光：使用曝光机将uv光照射到invar合金其中一面的油墨层上，该面油墨层全部被uv光照射发生光聚合反应；（4）显影：使用显影机将显影溶液喷洒到上一步单面曝光后的产品上，未被uv光照射的一面油墨层与显影液反应，露出invar合金；（5）蚀刻：使用蚀刻机将蚀刻溶液喷洒到显影后的产品上，上一步的产品中露出invar合金的一面与蚀刻溶液反应，形成粗糙表面；被油墨层覆盖的一面未与蚀刻液接触，不发生反应；（6）退膜：使用退膜机将退膜溶液喷洒到蚀刻后的产品上，退膜溶液与上一步产品中残留的油墨层反应，油墨层溶解到溶液中，invar合金材料完全露出得到单面粗糙的片状invar合金；（7）清洗：采用清洗设备对上一步单面粗糙的invar合金材料进行清洗，除去invar合金表面油污；（8）喷墨：使用喷墨设备将油墨分别均匀喷洒到上一步清洗干净的invar合金的上下表面，油墨在invar合金的上下表面干燥后分别形成油墨层；（9）双面曝光：使用曝光机将uv光经过光罩照射到invar合金两个表面的油墨层上，光罩对invar合金的部分位置挡光，被uv光照射的油墨发生光聚合反应，未被uv光照射的油墨不发生光聚合反应；（10）显影：使用显影机将显影溶液喷洒到上一步曝光后的产品上，未被uv光照射的油墨层处的油墨与显影液反应，被显影掉，露出invar合金；（11）形成镂空的网格：将上一步露出invar合金去掉，从而在产品上形成镂空的网格；（12）退膜：使用退膜机将退膜溶液喷洒到上一步形成镂空网格的产品上，退膜溶液与产品上残留的油墨层反应，油墨层溶解到溶液中，invar合金材料完全露出形成带有网格且一面粗糙的金属掩膜版。

步骤（5）中，将invar合金表面蚀刻掉掉5~10μm。

经过步骤（5）的蚀刻处理后，invar合金粗糙面的粗糙度比未进行蚀刻处理前增大0.25~1μm。

步骤（11）中，采用蚀刻方法形成网格，具体是：使用蚀刻机将蚀刻溶液喷洒到显影后的产品上，露出的invar合金与蚀刻溶液反应，形成镂空的网格，被油墨层覆盖部分未与蚀刻液接触，不发生反应。

本发明防止蒸镀金属层脱落的金属掩膜版的实施例如图3所示，本实施例的金属掩膜版1为具有镂空网格11的片状结构，金属掩膜版1的其中一面全部为粗糙面12。金属掩膜版粗糙面12的粗糙度比另一个面的粗糙度大0.25~1μm。

以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点，本领域的普通技术人员能从本发明公开的内容直接导出或联想到的所有变形，均应认为是本发明的保护范围。