一种高精度蒸镀金属掩膜板结构的制作方法

本实用新型涉及显示屏组件设计技术领域，具体涉及一种高精度蒸镀金属掩膜板结构。

背景技术：

当前中国的高像素显示屏的制作成本极其昂贵，其中的一个重要因素在于掩膜板的制作费用较高，生产良率较低，对于智能显示高像素显示屏生产厂家而言，高精细蒸镀掩膜板的制作极为困难，精度较高，工艺复杂，掩膜基板在张拉制作时力度不均就容易引起掩膜板的制作不良，从而导致企业在掩膜板的制作上投入大量资金，目前整体的蒸镀金属掩膜板由掩膜板框架、金属掩膜基板、支撑条以及遮挡条组成，制作整体的蒸镀金属掩膜板过程是将遮挡条与支撑条张紧固定在掩膜板框架上，最后将掩膜基板张紧后固定在掩膜框架上，其中遮挡条的作用是遮蔽相邻两条掩膜基板之间的间隙，支撑条的作用是对掩膜基板及遮挡条起一个支撑的作用，而实际生产中，由于掩膜基板的结构问题导致掩膜基板在张拉过程中因应力的分布问题导致掩膜基板各点处的应力不一致，从而导致掩膜基板上的各个像素孔伸展程度不同，从而出现眼膜基板上的像素孔与背板玻璃上设计的像素位置异位，在蒸镀工艺中就会出现蒸镀有机材料偏位，导致发光异常，有待进一步改善。

技术实现要素：

本实用新型针对上述现有技术的不足而提供一种结构设计合理、有效节约成本、提高工作效率的高精度蒸镀金属掩膜板结构。

本实用新型为解决上述问题所采用的技术方案为：

本实用新型提供一种高精度蒸镀金属掩膜板结构，由掩膜板框架、金属掩膜基板、支撑条和遮挡条组成，所述金属掩膜基板安装在所述掩膜板框架上，所述金属掩膜基板和所述掩膜板框架之间安装所述支撑条，所述金属掩膜基板之间安装所述遮挡条，用于遮挡相邻掩膜基板之间的缝隙，所述掩膜基板上设置有蒸镀区和设置在所述蒸镀区两端的刻蚀区，所述蒸镀区内设置有至少1个蒸镀空间，所述刻蚀区设置在所述蒸镀区两端。

进一步地，所述刻蚀区设置在所述金属掩膜基板的正面或反面。

进一步地，所述刻蚀区分别设置在正、反两面。

进一步地，所述刻蚀区形状为正方形、长方形、圆形、半圆弧形、椭圆形中的一种或几种的组合。

进一步地，所述金属掩膜基板至少为1块，所述金属掩膜基板平行安装在所述掩膜板框架上。

进一步地，所述金属掩膜基板两端设置有缺口。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型所提供的一种高精度蒸镀金属掩膜板结构具有使用方便、结构精巧、便于操作等优点，可以使得蒸镀空间区域变形均匀，从而使得蒸镀空间内的像素(图案)位移一致，可有效避免掩膜基板的制作不良现象，同时也避免高费用掩膜基板的不良浪费，提高了掩膜板品质，不但提高了工作效率，也节约了生产和加工成本。

附图说明

图1是本实用新型一种高精度蒸镀金属掩膜板的金属掩膜基板结构图；

图2是现有技术中的掩膜基板在张拉制作张力施加时的效果图；

图3是现有技术中的金属掩膜基板张力施加后蒸镀空间的变形结果；

图4是本实用新型一种高精度蒸镀金属掩膜板的金属掩膜基板在张拉制作时蒸镀空间变形均匀的效果图；

图5是本实用新型一种高精度蒸镀金属掩膜板的制作状态结构图；

图6是本实用新型一种高精度蒸镀金属掩膜板的最终成型状态结构图；

图7是现有技术中金属掩膜板受张力后像素图案受力不均匀的效果图；

图8是本实用新型一种高精度蒸镀金属掩膜板的金属掩膜板受张力后像素图案受力均匀的效果图。

具体实施方式

下面结合附图具体阐明本实用新型的实施方式，附图仅供参考和说明使用，不构成对本实用新型专利保护范围的限制。

如图1至图6所示，本实用新型提供一种高精度蒸镀金属掩膜板结构，由掩膜板框架1、金属掩膜基板2、支撑条3和遮挡条4组成，所述金属掩膜基板2安装在所述掩膜板框架1上，所述金属掩膜基板2和所述掩膜板框架1之间安装所述支撑条3，所述金属掩膜基板2之间安装所述遮挡条4，用于遮挡相邻金属掩膜基板2之间的缝隙，所述金属掩膜基板2上设置有蒸镀区21和设置在所述蒸镀区21两端的刻蚀区22，所述蒸镀区21内设置有至少1个蒸镀空间211，所述刻蚀区22设置在所述蒸镀区21两端。

本实施例中，所述刻蚀区22设置在所述金属掩膜基板2的正面上。

本实施例中，所述刻蚀区22形状为半圆弧形。

本实施例中，所述金属掩膜基板2为4块，所述金属掩膜基板2平行安装在所述掩膜板框架1上。

本实施例中，所述金属掩膜基板2两端设置有缺口23，缺口的目的是为了让F1和F2能够互不影响的又同时作用在这个掩膜基板上，F1、F2是不等的，F3、F4是与F1、F2方向相反的一对力。

本实施例中，掩膜板就是在某种材质的框架上焊接上很薄的一张钢片，钢片上设置了很多图案，图案是开口的，材料通过蒸镀升华，穿过开口部分，沉积在钢片上方的玻璃上，掩膜板框架用于支撑掩膜板基材的框架结构，支撑条用于支撑各金属掩膜板，遮挡条用于遮挡相邻金属掩膜板之间的缝隙，刻蚀是利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。

本实用新型所提供的一种高精度蒸镀金属掩膜板结构具有使用方便、结构精巧、便于操作等优点，可以使得蒸镀空间区域变形均匀，从而使得蒸镀空间内的像素(图案)位移一致(如图7和图8所示)，可有效避免掩膜基板的制作不良现象，同时也避免高费用掩膜基板的不良浪费，提高了掩膜板品质，不但提高了工作效率，也节约了生产和加工成本。

上述实施例为本实用新型较佳的实施方式，但本实用新型的实施方式并不受上述实施例的限制，其他的任何未背离本实用新型的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化，均应为等效的置换方式，都包含在本实用新型的保护范围之内。