一种半导体生产抛光头模具打磨装置的制作方法

[0001]
本实用新型涉及半导体模具加工技术领域，具体来说，涉及一种半导体生产抛光头模具打磨装置。


背景技术：

[0002]
半导体晶圆片生产抛光模具是半导体晶圆片生产过程中的消耗品，其主要组成部分为抛光头，抛光头模具在工作过程中会产生磨损这样会对半导体晶圆片抛光产生凹槽，凹槽太深，影响晶圆片的表面光洁程度，使半导体的合格率下降。
[0003]
针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。


技术实现要素：

[0004]
针对相关技术中的问题，本实用新型提出一种半导体生产抛光头模具打磨装置，以克服现有相关技术所存在的上述技术问题。
[0005]
本实用新型的技术方案是这样实现的：
[0006]
一种半导体生产抛光头模具打磨装置，包括底板，所述底板的顶端设置有电动推杆一，所述电动推杆一的顶端设置有支撑板，所述支撑板的另一端设置有电动推杆二，所述电动推杆二的下方设置有夹持外壳，所述夹持外壳的外表面设置有圆形通孔，所述圆形通孔的内部设置有螺纹旋进杆，所述底板的顶端远离电动推杆一的一侧设置有基座，所述基座的顶端设置有电机，所述电机的输出轴的端部设置有打磨头。
[0007]
进一步，所述电动推杆二的底端设置有螺纹孔，所述夹持外壳的顶端设置有螺纹杆，所述螺纹杆设置在螺纹孔的内部。
[0008]
进一步，所述底板靠近电动推杆一的一端设置有吸尘箱，所述吸尘箱的内部设置有除尘板，所述吸尘箱的顶端设置有箱盖，所述吸尘箱的侧面设置有吸风管，所述吸风管的另一端设置有吸风罩。
[0009]
进一步，所述吸尘箱的内部且位于所述除尘板的下方设置有电机二，所述电机二的顶端设置有风扇。
[0010]
进一步，所述除尘板的形状为锥形，所述吸尘箱的中部设置有凸缘，所述除尘板设置在凸缘上。
[0011]
本实用新型的有益效果为：将需要打磨的半导体生产抛光模具放置到电动推杆二上，旋动螺纹杆，螺纹杆对设备进行加紧，启动电动推杆，电动推杆对设备进行调整，启动电机，电机带动打磨头对设备进行打磨，同时电动推杆一向上推动支撑板向上运动，然后在启动电机二带动风扇旋转，风扇转动产生负压，将打磨产生的碎屑吸入吸尘箱的内部进行收集，其中，电动推杆二的底端设置有螺纹孔，所述夹持外壳的顶端设置有螺纹杆，所述螺纹杆设置在螺纹孔的内部，从而方便了夹持外壳固定在电动推杆二上，进而方便对需要打磨的抛光头进行打磨，底板靠近电动推杆一的一端设置有吸尘箱，所述吸尘箱的内部设置有除尘板，所述吸尘箱的顶端设置有箱盖，所述吸尘箱的侧面设置有吸风管，所述吸风管的另
一端设置有吸风罩，从而利用吸风罩对吸进除尘箱内部的气体进行过滤，将打磨出的碎屑收集到吸尘箱的内部，吸尘箱的内部且位于所述除尘板的下方设置有电机二，所述电机二的顶端设置有风扇，利用电机二带动风扇转动，在吸尘箱内部产生负压，利用负压将碎屑吸入除尘箱的内部，除尘板的形状为锥形，从而增大了除尘板的面积，所述吸尘箱的中部设置有凸缘，所述除尘板设置在凸缘上，利用凸缘将除尘板固定在吸尘箱的中部，防止除尘板在除尘箱内内部活动。
[0012]
有益效果：利用打磨头对半导体抛光模具进行打磨，使半导体打磨设备表面更加平整，有利于保证在半导体生产过程中设备能正常的为晶圆片的生产提供良好的运行环境。
附图说明
[0013]
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]
图1是根据本实用新型实施例的立体结构示意图；
[0015]
图2是根据本实用新型实施例的夹持装置爆炸图；
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图3是根据本实用新型实施例的除尘装置爆炸图。
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图中：
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1、底板；2、基座；3、电机；4、螺纹旋进杆；5、夹持外壳；6、电动推杆二；7、支撑板；8、电动推杆一；9、吸风管；10、吸风罩；11、螺纹孔；12、螺纹杆；13、圆形通孔；14、电机二；15、打磨头；16、箱盖；17、除尘板；18、凸缘；19、吸尘箱；20、风扇。
具体实施方式
[0019]
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0020]
根据本实用新型的实施例，提供了一种半导体生产抛光头模具打磨装置。
[0021]
如图1-3所示，根据本实用新型实施例的半导体生产抛光头模具打磨装置，包括底板1，所述底板1的顶端设置有电动推杆一8，所述电动推杆一8的顶端设置有支撑板7，所述支撑板7的另一端设置有电动推杆二6，所述电动推杆二6的下方设置有夹持外壳5，所述夹持外壳5的外表面设置有圆形通孔13，所述圆形通孔13的内部设置有螺纹旋进杆4，所述底板1的顶端远离电动推杆一8的一侧设置有基座2，所述基座2的顶端设置有电机3，所述电机3的输出轴的端部设置有打磨头15。
[0022]
在一个实施例中，对于上述电动推杆二6来说，所述电动推杆二6的底端设置有螺纹孔11，所述夹持外壳5的顶端设置有螺纹杆12，所述螺纹杆12设置在螺纹孔11的内部，从而方便了夹持外壳5固定在电动推杆二6上，进而方便对需要打磨的抛光头进行打磨。
[0023]
在一个实施例中，对于上述底板1来说，所述底板1靠近电动推杆一8的一端设置有
吸尘箱19，所述吸尘箱19的内部设置有除尘板17，所述吸尘箱19的顶端设置有箱盖16，所述吸尘箱19的侧面设置有吸风管9，所述吸风管9的另一端设置有吸风罩10，从而利用吸风罩10对吸进除尘箱内部的气体进行过滤，将打磨出的碎屑收集到吸尘箱19的内部。
[0024]
在一个实施例中，对于上述吸尘箱19来说，所述吸尘箱19的内部且位于所述除尘板17的下方设置有电机二14，所述电机二14的顶端设置有风扇20，利用电机二14带动风扇20转动，在吸尘箱19内部产生负压，利用负压将碎屑吸入除尘箱19的内部。
[0025]
在一个实施例中，对于上述除尘板17来说，所述除尘板17的形状为锥形，从而增大了除尘板17的面积，所述吸尘箱19的中部设置有凸缘18，所述除尘板17设置在凸缘18上，利用凸缘18将除尘板17固定在吸尘箱19的中部，防止除尘板17在除尘箱内17内部活动。
[0026]
综上所述，借助于本实用新型的上述技术方案，将需要打磨的半导体生产抛光模具放置到电动推杆二6上，旋动螺纹杆12，螺纹杆12对设备进行加紧，启动电动推杆6，电动推杆6对设备进行调整，启动电机3，电机3带动打磨头15对设备进行打磨，同时电动推杆一8向上推动支撑板7向上运动，然后在启动电机二14带动风扇20旋转，风扇转动产生负压，将打磨产生的碎屑吸入吸尘箱19的内部进行收集，其中，电动推杆二6的底端设置有螺纹孔11，所述夹持外壳5的顶端设置有螺纹杆12，所述螺纹杆12设置在螺纹孔11的内部，从而方便了夹持外壳5固定在电动推杆二6上，进而方便对需要打磨的抛光头进行打磨，底板1靠近电动推杆一8的一端设置有吸尘箱19，所述吸尘箱19的内部设置有除尘板17，所述吸尘箱19的顶端设置有箱盖16，所述吸尘箱19的侧面设置有吸风管9，所述吸风管9的另一端设置有吸风罩10，从而利用吸风罩10对吸进除尘箱内部的气体进行过滤，将打磨出的碎屑收集到吸尘箱19的内部，吸尘箱19的内部且位于所述除尘板17的下方设置有电机二14，所述电机二14的顶端设置有风扇20，利用电机二14带动风扇20转动，在吸尘箱19内部产生负压，利用负压将碎屑吸入除尘箱19的内部，除尘板17的形状为锥形，从而增大了除尘板17的面积，所述吸尘箱19的中部设置有凸缘18，所述除尘板17设置在凸缘18上，利用凸缘18将除尘板17固定在吸尘箱19的中部，防止除尘板17在除尘箱内17内部活动。
[0027]
有益效果：利用打磨头对半导体抛光模具进行打磨，使半导体打磨设备表面更加平整，有利于保证在半导体生产过程中设备能正常的为晶圆片的生产提供良好的运行环境。
[0028]
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。