一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备的制作方法

1.本实用新型涉及磁控溅射阴极设备领域，特别涉及一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备。


背景技术：

2.向镀膜设备中输送粒子，粒子进入基板和收纳槽上放置的靶材之间时，粒子飞向基板过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出ar正离子和新的电子，新电子飞向基板，ar离子在电场作用下加速飞向靶材，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在靶材上形成薄膜，在靶材的表面形成了镀膜。
3.但现有的磁控溅射阴极设备(基板)往往不能充分利用粒子，镀膜设备内部一部分粒子会与基板表面进行碰撞，另一部分粒子直接排出，造成浪费。因此，发明一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备来解决上述问题很有必要。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备，包括上壳体、下壳体，所述上壳体、下壳体上下分布，上壳体的侧面固定焊接有上固定板，下壳体的顶部侧面固定焊接有对应在上固定板下方的下固定板，所述上固定板与下固定板之间固定设置有升降单元，所述上壳体的一侧设置有输入管，所述上壳体的另一侧设置有输出管，所述输出管的端部连通设有收集箱，所述收集箱远离输出管的一侧设置有第一管道、第二管道，所述第一管道与输入管的侧面通过连接软管连通。
6.优选的，所述第二管道、连接软管连通输入管的位置、输入管的端部均设置有手动阀。
7.本实施例中，上壳体、下壳体之间组成完全密封的腔体，一端的输入管用于向密封的腔体中输送粒子，粒子进入基板和收纳槽上放置的靶材之间时，粒子飞向基板过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出ar正离子和新的电子，新电子飞向基板，ar离子在电场作用下加速飞向靶材，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在靶材上形成薄膜，在靶材的表面形成了镀膜。
8.而粒子在密封的空腔中对靶材进行镀膜，可避免镀膜过程中其它气体对其产生影响，高效，且多余的气体可直接排出或者收集在收集箱中继续利用；
9.气体直接排出时，通过输出管进入收集箱后由第二管道排出，气体再次利用时，收集进入收集箱中后经过连接软管进入输入管中再次进入上壳体中利用，利用气体中的粒子，提高了粒子的利用率。
10.优选的，所述下壳体的开口处与上壳体的开口处均固定设置有橡胶圈。
11.需要说明的是，上壳体、下壳体之间通过升降单元伸缩控制开关，方便取放靶材，
橡胶圈保证了上壳体、下壳体闭口时的密封性，升降单元可使用电动推杆等装置。
12.优选的，所述第二管道连通收集箱内部的位置设置有过滤芯。
13.进一步的，过滤芯起到了过滤气体的作用，保证排出的气体符合环保要求。
14.优选的，所述上壳体的内部上方固定设置有基板，所述下壳体的内部设置有对应在基板下方的支撑板，支撑板的表面设置有放置靶材的收纳槽。
15.具体的，靶材放置在收纳槽中不易脱落。
16.优选的，所述下壳体的底部固定焊接有推动支撑板靠近基板的推动单元。
17.其中，推动单元可使用气缸等装置，通过推动单元推动支撑板升降时可控制靶材与基板之间的距离，从而以减少距离的方式增加镀膜的厚度。
18.优选的，所述收纳槽的底部活动设置有多组呈等距离分布的辊轴，所述上壳体的内壁上固定焊接有推动放置在收纳槽中靶材滚动的拨动机构。
19.本实施例中，辊轴滚动时可带动靶材在收纳槽中滚动，方便靶材的充分镀膜，辊轴的端部可连接电机等驱动装置。
20.优选的，所述拨动机构包括固定在上壳体内壁上的定位板与固定在定位板端部的伸缩单元，伸缩单元呈横向设置，伸缩单元的端部连接有拨动端，所述拨动端对应在收纳槽的上方。
21.需要说明的是，在对圆柱体或者类似圆柱体、球体等靶材进行镀膜时，利用拨动机构可拨动靶材翻面、转动、移动，从而增加镀膜的面积，减少二次镀膜的步骤；
22.其中，伸缩单元可使用电动推杆等装置，方便控制拨动端伸缩，而拨动端包括圆柱体、固定于圆柱体外圈且呈圆形阵列分布的橡胶柱，驱动圆柱体转动并固定连接在伸缩单元端部的电机等，电机驱动拨动端转动时，拨动端利用其外圈处的橡胶柱可带动靶材转动等操作。
23.本实用新型的技术效果和优点：
24.1、本实用新型的一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备，包括上壳体、下壳体，所述上壳体、下壳体上下分布，上壳体的侧面固定焊接有上固定板，下壳体的顶部侧面固定焊接有对应在上固定板下方的下固定板，所述上固定板与下固定板之间固定设置有升降单元，粒子在密封的空腔中对靶材进行镀膜，可避免镀膜过程中其它气体对其产生影响，高效，且多余的气体可直接排出或者收集在收集箱中继续利用；
25.2、本实用新型的一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备，气体直接排出时，通过输出管进入收集箱后由第二管道排出，气体再次利用时，收集进入收集箱中后经过连接软管进入输入管中再次进入上壳体中利用，利用气体中的粒子，提高了粒子的利用率；
26.3、本实用新型的一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备，在对圆柱体或者类似圆柱体、球体等靶材进行镀膜时，利用拨动机构可拨动靶材翻面、转动、移动，从而增加镀膜的面积，减少二次镀膜的步骤。
附图说明
27.图1为本实用新型结构示意图。
28.图2为本实用新型剖视图。
29.图3为本实用新型图2中a处结构放大示意图。
30.图中：1、上壳体；2、下壳体；3、橡胶圈；4、输入管；5、连接软管；6、上固定板；7、升降单元；8、下固定板；9、输出管；10、第一管道；11、第二管道；12、收集箱；13、辊轴；14、支撑板；15、收纳槽；16、推动单元；17、基板；18、定位板；19、伸缩单元；20、过滤芯；21、拨动端。
具体实施方式
31.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
32.本实用新型提供了如图1-3所示的一种全封闭磁力网笼式的平面磁控溅射阴极设备，包括上壳体1、下壳体2，上壳体1、下壳体2上下分布，上壳体1的侧面固定焊接有上固定板6，下壳体2的顶部侧面固定焊接有对应在上固定板6下方的下固定板8，上固定板6与下固定板8之间固定设置有升降单元7，上壳体1的一侧设置有输入管4，上壳体1的另一侧设置有输出管9，输出管9的端部连通设有收集箱12，收集箱12远离输出管9的一侧设置有第一管道10、第二管道11，第一管道10与输入管4的侧面通过连接软管5连通。
33.第二管道11、连接软管5连通输入管4的位置、输入管4的端部均设置有手动阀。
34.本实施例中，上壳体1、下壳体2之间组成完全密封的腔体，一端的输入管4用于向密封的腔体中输送粒子，粒子进入基板17和收纳槽15上放置的靶材之间时，粒子飞向基板17过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出ar正离子和新的电子，新电子飞向基板17，ar离子在电场作用下加速飞向靶材，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在靶材上形成薄膜，在靶材的表面形成了镀膜。
35.而粒子在密封的空腔中对靶材进行镀膜，可避免镀膜过程中其它气体对其产生影响，高效，且多余的气体可直接排出或者收集在收集箱12中继续利用；
36.气体直接排出时，通过输出管9进入收集箱12后由第二管道11排出，气体再次利用时，收集进入收集箱12中后经过连接软管5进入输入管4中再次进入上壳体1中利用，利用气体中的粒子，提高了粒子的利用率。
37.下壳体2的开口处与上壳体1的开口处均固定设置有橡胶圈3。
38.需要说明的是，上壳体1、下壳体2之间通过升降单元7伸缩控制开关，方便取放靶材，橡胶圈3保证了上壳体1、下壳体2闭口时的密封性，升降单元7可使用电动推杆等装置。
39.第二管道11连通收集箱12内部的位置设置有过滤芯20。
40.进一步的，过滤芯20起到了过滤气体的作用，保证排出的气体符合环保要求。
41.上壳体1的内部上方固定设置有基板17，下壳体2的内部设置有对应在基板17下方的支撑板14，支撑板14的表面设置有放置靶材的收纳槽15。
42.具体的，靶材放置在收纳槽15中不易脱落。
43.下壳体2的底部固定焊接有推动支撑板14靠近基板17的推动单元16。
44.其中，推动单元16可使用气缸等装置，通过推动单元16推动支撑板14升降时可控制靶材与基板17之间的距离，从而以减少距离的方式增加镀膜的厚度。
45.收纳槽15的底部活动设置有多组呈等距离分布的辊轴13，上壳体1的内壁上固定焊接有推动放置在收纳槽15中靶材滚动的拨动机构。
46.本实施例中，辊轴13滚动时可带动靶材在收纳槽15中滚动，方便靶材的充分镀膜，辊轴13的端部可连接电机等驱动装置。
47.拨动机构包括固定在上壳体1内壁上的定位板18与固定在定位板18端部的伸缩单元19，伸缩单元19呈横向设置，伸缩单元19的端部连接有拨动端21，拨动端21对应在收纳槽15的上方。
48.需要说明的是，在对圆柱体或者类似圆柱体、球体等靶材进行镀膜时，利用拨动机构可拨动靶材翻面、转动、移动，从而增加镀膜的面积，减少二次镀膜的步骤；
49.其中，伸缩单元19可使用电动推杆等装置，方便控制拨动端21伸缩，而拨动端21包括圆柱体、固定于圆柱体外圈且呈圆形阵列分布的橡胶柱，驱动圆柱体转动并固定连接在伸缩单元19端部的电机等，电机驱动拨动端21转动时，拨动端21利用其外圈处的橡胶柱可带动靶材转动等操作。
50.工作原理：粒子在密封的空腔中对靶材进行镀膜，可避免镀膜过程中其它气体对其产生影响，高效，且多余的气体可直接排出或者收集在收集箱12中继续利用。
51.最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。