一种降低透明CPI基膜黄色指数的工艺方法与流程

一种降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法
技术领域
1.本发明涉及薄膜材料领域，特别是一种降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法。


背景技术：

2.目前，透明聚酰亚胺(简称cpi)可广泛应用于微电子以及光电子等高技术领域。例如在光通讯领域中用作光波导材料、滤光片、光纤、光电封装材料、二阶非线性光学材料、光折变材料、光敏材料以及光电材料等。在液晶显示领域用作取向膜材料、负性补偿膜、柔性有机电致发光显示器的塑料基板等。透明聚酰亚胺薄膜在自然光线中，尤其在紫外线照射下，内部分子由于对不同波长的吸收，会产生震动与结构的细微变化，反映到视觉上的效果会造成出现黄变，影响薄膜材料的整体透明度和使用效果。故需要提出一种新的工艺手段用于解决上述现有问题。


技术实现要素：

3.本发明的目的在于，提供一种降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法，用于解决现有透明聚酰亚胺薄膜在自然光线中易在视觉效果上表现出黄变，从而影响薄膜材料的整体透明度和使用效果的问题。
4.为解决上述技术问题，本发明提供了一种降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法，包括如下步骤：s1，240～260℃下，在聚酰亚胺薄膜表面沉积sio2层，沉积完成后冷却至室温，并静置于真空环境中；s2，在sio2层磁控溅射ito膜层，ito膜层的厚度与聚酰亚胺薄膜的吸收波长相适应。
5.优选的，s1步骤中，采用磁控溅射法在聚酰亚胺薄膜表面沉积sio2层。
6.优选的，s1步骤中，sio2层的厚度为50～60nm。
7.优选的，s1步骤中，真空环境中静置时间为0.5～1h。
8.优选的，ito膜层的厚度为120～275nm，聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应的色相图区域包括y、c、g、b区域，且ito膜层的厚度与聚酰亚胺薄膜的吸收波长相适应。
9.具体地，聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应色相为y区域时，ito膜层的厚度为120～155nm。
10.具体地，聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应色相为c区域时，ito膜层的厚度为155～205nm。
11.具体地，聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应色相为g区域时，ito膜层的厚度为205～225nm。
12.具体地，聚酰亚胺薄膜的吸收波长所对应色相为b区域时，ito膜层的厚度为225～275nm。
13.优选的，聚酰亚胺薄膜的黄色指数yi《4，透过率大于85％。
14.本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供一种降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法，通过在聚酰亚胺薄膜表面依次设置sio2层和ito膜层，形成复合涂层
结构，使复合涂层结构与聚酰亚胺薄膜的吸收波长形成互补，在保证透射率不降低的同时，使整体膜层的黄色指数显著降低。
附图说明
15.图1是本发明中降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法一实施方式的工艺流程图；
16.图2本发明中降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法的色相图。
具体实施方式
17.下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，均属于本发明保护的范围。
18.下面通过具体实施例对前述降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法的实施效果进行阐述，其中以下实施例和对比例中均采用相同尺寸规格的聚酰亚胺薄膜进行测试，ito膜层为常规选择，在此不做赘述。
19.实施例1
20.本实施例中降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法的具体执行步骤如下：
21.(1)测试聚酰亚胺薄膜(又称cpi基模)的吸收光谱，获得其所对应色相图中的y区域。
22.(2)把聚酰亚胺薄膜放入清洁后的磁控溅射腔体，抽真空后加热腔体到260℃，溅射沉积60nm厚的sio2层，沉积完成后冷却至室温，并在真空环境中静置24h。
23.(3)在sio2层表面涂覆40nm厚的ito膜层，得到复合透明薄膜样品。
24.实施例2
25.本实施例中降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法的具体执行步骤如下：
26.(1)测试聚酰亚胺薄膜的吸收光谱，获得其所对应色相图中的c区域。
27.(2)把聚酰亚胺薄膜放入清洁后的磁控溅射腔体，抽真空后加热腔体到260℃，溅射沉积60nm厚的sio2层，沉积完成后冷却至室温，并在真空环境中静置24h。
28.(3)在sio2层表面涂覆80nm厚的ito膜层，得到复合透明薄膜样品。
29.实施例3
30.本实施例中降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法的具体执行步骤如下：
31.(1)测试聚酰亚胺薄膜的吸收光谱，获得其所对应色相图中的g区域。
32.(2)把聚酰亚胺薄膜放入清洁后的磁控溅射腔体，抽真空后加热腔体到260℃，溅射沉积60nm厚的sio2层，沉积完成后冷却至室温，并在真空环境中静置24h。
33.(3)在sio2层表面涂覆120nm厚的ito膜层，得到复合透明薄膜样品。
34.实施例4
35.本实施例中降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法的具体执行步骤如下：
36.(1)测试聚酰亚胺薄膜的吸收光谱，获得其所对应色相图中的b区域。
37.(2)把聚酰亚胺薄膜放入清洁后的磁控溅射腔体，抽真空后加热腔体到260℃，溅射沉积60nm厚的sio2层，沉积完成后冷却至室温，并在真空环境中静置24h。
38.(3)在sio2层表面涂覆200nm厚的ito膜层，得到复合透明薄膜样品。
39.对比例1
40.本对比例中仅含聚酰亚胺薄膜，且与实施例1相同聚酰亚胺薄膜，而不含sio2层和ito膜层。
41.对实施例1～4中所得复合透明薄膜样品和对比例1中的聚酰亚胺薄膜进行透过率和黄色指数的测试，所得结果如表1所示。可以看出，实施例1～4在cpi基膜表面设置sio2层和ito膜层后，所形成的复合涂层结构并不会降低原始cpi基膜的透光率。另一方面，基于表1和图2，由于引入上述复合涂层结构后，sio2层和ito膜层吸收的黄色和红色的光谱能够与cpi基膜吸收的蓝色波长能构成色相图中的互补色，即两者在色相图中呈180
°
分布，具体地，实施例1黄色指数yi仅为对比例1黄色指数yi的三分之一，则证明所形成互补后能够使原始cpi基膜的黄色指数显著降低。
42.表1
[0043][0044]
区别于现有技术的情况，本发明提供一种降低透明cpi基膜黄色指数的工艺方法，通过在聚酰亚胺薄膜表面依次设置sio2层和ito膜层，形成复合涂层结构，使复合涂层结构与聚酰亚胺薄膜的吸收波长形成互补，在保证透射率不降低的同时，使整体膜层的黄色指数显著降低。
[0045]
需要说明的是，以上各实施例均属于同一发明构思，各实施例的描述各有侧重，在个别实施例中描述未详尽之处，可参考其他实施例中的描述。
[0046]
以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。