图2为表示实施例2中恒温恒湿试验后的外观观察结果被评为"C"的例子的照片。
[0038] 图3为表示实施例2中盐水试验后的外观观察结果及光学显微镜观察结果被评为 "A"的例子的照片。
[0039] 图4为表示实施例2中盐水试验后的外观观察结果及光学显微镜观察结果被评为 "B"的例子的照片。
[0040] 图5为表示实施例2中盐水试验后的外观观察结果及光学显微镜观察结果被评为 "C"的例子的照片。
【具体实施方式】
[0041] 以下，对本发明的一实施方式即Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜进行说明。
[0042] 本实施方式的Ag合金膜形成用溅射靶在形成Ag合金膜时使用。在此，本实施方 式的Ag合金膜用作例如作为显示器、发光元件等的光反射层而使用的Ag合金反射膜、构成 形成于触摸面板的板面周缘部的配线的Ag合金导电膜、透明导电膜或用于红外线阻隔膜 的Ag合金半透明膜。
[0043] 〈Ag合金膜形成用溅射靶〉
[0044] 本实施方式的Ag合金膜形成用溅射靶由Ag合金构成，所述Ag合金具有如下组 成：0. 2原子％以上2. 0原子％以下的Sb、0. 05原子％以上1. 00原子％以下的Mg，余量由 Ag和不可避免杂质构成。
[0045] 以下，对如上规定本实施方式的Ag合金膜形成用溅射靶的组成的理由进行说明。
[0046] Sb :0.2原子％以上2.0原子％以下
[0047] Sb为具有提高耐热性及耐环境性（对于湿热环境的耐性）的作用效果的元素。
[0048] 在此，当Sb的含量小于0. 2原子％时，耐热性及耐环境性不会充分提高。另一方 面，当Sb的含量超过2. O原子％时，反射率在刚成膜之后也会变低，有可能无法确保作为反 射膜的特性。并且，比电阻值变高且透射率变低，有可能无法确保作为导电膜或半透明膜的 特性。
[0049] 出于这种理由，本实施方式中将Sb的含量设定在0. 2原子％以上2. 0原子％以下 的范围内。另外，为了使上述作用效果可靠地奏效，优选将Sb的含量设定在0. 3原子％以 上1. 5原子％以下的范围内。
[0050] Mg :0· 05原子％以上L 00原子％以下
[0051] Mg为具有在湿热环境下抑制Ag的粒子生长的作用效果的元素。并且，通过与如上 含有Sb的协同效应，还具有提高高温下的耐热性的作用效果。并且，还具有提高耐盐水性 的作用效果。
[0052] 在此，当Mg的含量小于0. 05原子％时，无法充分抑制粒子生长，且有可能无法提 高耐热性/耐环境性。并且，有可能无法提高耐盐水性。另一方面，当Mg的含量超过1.00 原子％时，反射率在湿热环境下大幅下降，且有可能无法确保作为反射膜的特性。并且，比 电阻值变高且透射率变低，有可能无法确保作为导电膜或半透明膜的特性。
[0053] 出于这种理由，本实施方式中将Mg的含量设定在0. 05原子％以上1. 00原子％以 下的范围内。另外，为了使上述作用效果可靠地奏效，优选将Mg的含量设定在0. 10原子％ 以上0. 50原子％以下的范围内。
[0054] 并且，将Mg的含量设定为相对于Sb以原子比计为I. 0彡Sb/Mg彡40. 0,由此能够 进一步减少湿热环境下的反射率或电阻值的变化。
[0055] 〈Ag 合金膜〉
[0056] 如上所述，本实施方式的Ag合金膜被用作显示器、发光元件等的光反射层。在这 些用途中，要求对于特定波长的光的反射率高，或对于较宽的波长范围的光的反射率高。并 且，在显示器或发光元件的制造过程中，形成光反射层之后，例如实施250°C以上的热处理， 因此在热处理之后也需要确保高反射率。此外，为了提高可靠性，优选反射率在长期使用中 也不产生大的变化而保持稳定。
[0057] 此外，如上所述，本实施方式的Ag合金膜用作作为显示器、发光元件等的光反射 层而使用的Ag合金反射膜、构成形成于触摸面板的板面周缘部的配线的Ag合金导电膜、透 明导电膜或用于红外线阻隔膜的Ag合金半透明膜。在这些用途中，要求比电阻值要低，或 透射率要高，还要求比电阻值或透射率在使用环境也不产生大的变化而保持稳定。
[0058] 根据如上构成的本实施方式的Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜（Ag合金反射 膜、Ag合金导电膜、Ag合金半透明膜），Sb的含量被设为0. 2原子％以上2. 0原子％以下， 因此在刚成膜之后反射率或透射率等光学特性优异，并且具有较低的比电阻值且耐热性优 异，因此，在经过热处理之后也能够抑制反射率产生大的变化。此外，由于耐环境性优异，因 此在长期使用中反射率或透射率等光学特性及比电阻值也不会产生大的变化。
[0059] 并且，Mg的含量被设为0. 05原子％以上1. 00原子％以下，因此刚成膜之后反射 率或透射率等光学特性优异，并且具有较低的比电阻值且能够抑制Ag的粒子生长，能够提 高耐热性及耐环境性。
[0060] 由于以上几点，能够形成如下Ag合金膜（Ag合金反射膜、Ag合金导电膜、Ag合金 半透明膜），即在成膜后的制造过程中即便经历热处理等，反射率也优异，并且具有较低的 比电阻值，且反射率或透射率等光学特性及比电阻值在使用环境下也不会产生大的变化。
[0061] 并且，本实施方式的Ag合金膜（Ag合金反射膜、Ag合金导电膜、Ag合金半透明膜） 通过上述Ag合金膜形成用溅射靶而成膜，耐热性优异，因此在显示器或发光元件的制造过 程中即便经历250°C以上的较高温的热处理，反射率也不会产生大的变化。并且，由于耐环 境性也优异，因此反射率或透射率等光学特性及比电阻值在使用环境下也不会产生大的变 化而保持稳定。
[0062] 以上，对本发明的实施方式进行了说明，但本发明并不限于此，在不脱离该发明的 技术思想的范围内可适当进行变更。
[0063] 例如，本实施方式中对用作作为显示器、发光元件等的光反射层而使用的Ag合金 反射膜、构成形成于触摸面板的板面周缘部的配线的Ag合金导电膜、透明导电膜或用于红 外线阻隔膜的Ag合金半透明膜的Ag合金膜进行了说明，但并不限于此，也可以应用于其他 用途。
[0064] 实施例
[0065] (实施例1)
[0066] 以下，对评价本发明所涉及的Ag合金膜形成用溅射靶及Ag合金膜（Ag合金反射 膜）的作用效果的评价试验的结果进行说明。
[0067] 〈Ag合金膜形成用溅射靶〉
[0068] 作为熔解原料准备纯度99. 9质量％以上的Ag、纯度99. 9质量％以上的Sb、Mg，并 称取成为表1所示的规定组成的量。
[0069] 接着，利用熔解炉在惰性气体气氛中将Ag熔解，在所获熔融Ag中添加 Sb和Mg，并 在惰性气体气氛中熔解。之后，将其浇注到铸模中，以制造表1所示组成的铸块。更具体而 言，熔解Ag时，在一度将气氛设为真空（5X KT2Pa以下）之后用Ar气置换的气氛中进行。 并且，在Ar气气氛中添加 Sb、Mg。
[0070] 接着，对所获铸块以轧制率70 %进行冷轧而获得板材之后，在大气中实施以 600°C保持2小时的热处理。并且，通过实施机械加工来制作具有直径152. 4mm、厚度6mm尺 寸的本发明例1~9的组成的溅射靶及比较例1~4的组成的溅射靶。
[0071] 并且，作为以往例准备由纯Ag(纯度99. 9质量％以上）构成的与上述尺寸相同的 溅射靶。
[0072] 〈Ag合金反射膜〉
[0073] 利用上述本发明例1~9、比较例1~4的溅射靶，在以下条件下形成Ag合金膜 (Ag合金反射膜）。
[0074] 利用