观察结果的一例示于图5。
[0118] [表 4]
[0120] Sb的含量比本发明的范围少的比较例11中，在恒温恒湿试验后的外观观察中确 认到腐蚀，并确认到耐湿性不够充分。
[0121] Sb的含量比本发明的范围多的比较例12中，成膜后的比电阻值变高。
[0122] Mg的含量比本发明的范围少的比较例13中，在盐水试验后的外观观察中确认到 腐蚀，并确认到耐盐水性不够充分。
[0123] Mg的含量比本发明的范围多的比较例14中，成膜后的比电阻值变高。
[0124] 在由纯Ag构成的以往例中，在恒温恒湿试验后及盐水试验后的外观观察中确认 到腐蚀，且耐湿性及耐盐水性不够充分。
[0125] 相对于此，Sb、Mg的含量在本发明的范围内的本发明例11~17中，成膜后的比电 阻值较低，并且，恒温恒湿试验后及盐水试验后的外观观察中未确认到腐蚀。
[0126] 根据以上几点确认到，根据本发明例能可提供一种比电阻值较低，并且耐湿性及 耐盐水性优异的Ag合金膜（Ag合金导电膜）及Ag合金膜形成用溅射靶。
[0127] (实施例3)
[0128] 接着，对评价使用实施例2的派射祀而形成的Ag合金膜（Ag合金半透明膜）的作 用效果的评价试验的结果进行说明。
[0129] 〈Ag合金膜（Ag合金半透明膜）>
[0130] 将上述派射祀安装到派射装置，在距玻璃基板（Corning Incorporated制eagle 父6)的距离：7〇111111、功率：直流2501、极限真空度：5\1〇-%1、41'气压 ：0.6?&的条件下实施溅 射，以制作在玻璃基板的表面形成具有表5所示的厚度的Ag合金膜（Ag合金半透明膜）的 试样。
[0131] 并且，使用上述以往例的溅射靶，以相同条件制作在玻璃基板上形成具有表5所 示的膜厚的Ag膜（Ag半透明膜）的试样。
[0132] 另外，Ag合金半透明膜的膜厚的测定如下进行，通过椭圆偏振光谱仪（例如， HORIBA Jobin Yvon公司制UNISEL NIR AGM)，在波长260~2100nm的范围测定在玻璃基 板上成膜的半透明Ag合金膜的光学参数δ、φ，并通过对它们进行解析以计算膜厚。此外， 也可通过透射电子显微镜（TEM)来观察膜的剖面来确认Ag合金半透明膜的膜厚。制作通 过TEM观察剖面用试样时，例如能够利用截面抛光机（CP)或聚离子束法（FIB)等。
[0133] 〈成膜后的比电阻值〉
[0134] 通过四探针法测定如上获得的Ag合金膜（Ag合金半透明膜）及Ag膜（Ag半透明 膜）的薄膜电阻值，并计算比电阻值。将所获成膜后的比电阻值示于表6。
[0135] 〈透射率测定〉
[0136] 通过分光光度仪（JASCO Corporation制Ubest系列），在波长850nm~350nm的 范围测定Ag合金膜（Ag合金半透明膜）及Ag膜（Ag半透明膜）的透射率。测定透射率时， 一开始在不设置基板的中空状态下进行测定，以进行分光光度仪校准。接着，测定未形成Ag 合金膜（Ag合金半透明膜）及Ag膜（Ag半透明膜）的玻璃基板的透射率Ts，之后测定形 成有Ag合金膜（Ag合金半透明膜）及Ag膜（Ag半透明膜）的玻璃基板的透射率Tt，将Ag 合金膜（Ag合金半透明膜）及Ag膜（Ag半透明膜）的透射率Tf作为Tf = Tt/Ts而计算。 将测定结果示于表6。另外，表5所示的透射率为波长850nm~350nm范围的平均值。
[0137] 〈恒温恒湿试验〉
[0138] 将上述试样在温度85°C、湿度85%的恒温恒湿槽中放置250小时。
[0139] 以与上述方法相同的方法测定该恒温恒湿试验后的Ag合金膜（Ag合金半透明膜） 及Ag膜（Ag半透明膜）的比电阻值与透射率Tf 1。将测定结果示于表6。
[0140] 并且，求出恒温恒湿试验前后的比电阻值的变化率。并且，求出恒温恒湿试验前后 的透射率的变化量（Tf 1-Tftl)。将恒温恒湿试验前后的比电阻值的变化率及透射率的变化 量示于表6〇
[0141] [表 5]
[0142]
[0145] Sb的含量比本发明的范围少的比较例21中，在恒温恒湿试验前后比电阻值产生 大的变化。
[0146] Sb的含量比本发明的范围多的比较例22中，成膜后的比电阻值高，并且透射率 低。此外，在恒温恒湿试验前后比电阻值产生大的变化。
[0147] Mg的含量比本发明的范围少的比较例23中，在恒温恒湿试验前后透射率产生大 的变化。
[0148] Mg的含量比本发明的范围多的比较例24中，成膜后的比电阻值高，并且透射率 低。此外，在恒温恒湿试验前后比电阻值产生大的变化。
[0149] 由纯Ag构成的以往例中，在热处理前后比电阻值、透射率产生大的变化。
[0150] 相对于此，Sb、Mg的含量在本发明的范围内的本发明例21~29中，成膜后的比电 阻值低，并且透射率高，在恒温恒湿试验前后比电阻值及透射率未产生大的变化而保持稳 定。
[0151] 根据以上几点确认到，根据本发明例可提供一种比电阻值低且透射率高，并且耐 热性、耐湿性及耐盐水性优异的Ag合金膜（Ag合金半透明膜）及Ag合金膜形成用派射革巴。
[0152] 产业上的可利用性
[0153] 根据本发明的Ag合金膜形成用溅射靶，能够形成在长期使用中各种耐性优异，光 学特性的稳定的Ag合金膜、Ag合金导电膜、Ag合金反射膜及Ag合金半透明膜。
【主权项】
1. Ag合金膜形成用溅射靶，其特征在于，具有如下组成： 0. 2原子％以上2.O原子％以下的Sb、0. 05原子％以上I.OO原子％以下的Mg，余量由 Ag和不可避免杂质构成。2. 根据权利要求1所述的Ag合金膜形成用溅射靶，其特征在于， 所含有的Sb与Mg的原子比为I. 0彡Sb/Mg彡40. 0。3. -种Ag合金膜，其特征在于， 通过权利要求1或2所述的Ag合金膜形成用溅射靶而成膜。4. 一种Ag合金反射膜，其特征在于， 通过权利要求1或2所述的Ag合金膜形成用溅射靶而成膜。5. -种Ag合金导电膜，其特征在于， 通过权利要求1或2所述的Ag合金膜形成用溅射靶而成膜。6. -种Ag合金半透明膜，其特征在于， 通过权利要求1或2所述的Ag合金膜形成用溅射靶而成膜。7. 根据权利要求4所述的Ag合金反射膜，其特征在于， 波长405~550nm的反射率为85%以上。8. 根据权利要求5所述的Ag合金导电膜，其特征在于， 比电阻为10UD?cm以下。9. 根据权利要求6所述的Ag合金半透明膜，其特征在于， 膜厚15nm以下且波长350~850nm下的平均透射率为35%以上。
【专利摘要】本发明涉及一种Ag合金膜形成用溅射靶、Ag合金膜、Ag合金反射膜、Ag合金导电膜及Ag合金半透明膜，该Ag合金膜形成用溅射靶的特征在于，具有如下组成：0.2原子％以上2.0原子％以下的Sb、0.05原子％以上1.00原子％以下的Mg，余量由Ag和不可避免杂质构成。
【IPC分类】C22C5/06, C22F1/00, C23C14/34, C22F1/14
【公开号】CN104919081
【申请号】CN201480004766
【发明人】岁森悠人, 野中荘平
【申请人】三菱综合材料株式会社
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2014年1月21日
【公告号】EP2949780A1, WO2014115712A1