一种真空镀膜机用密封结构的制作方法

文档序号:9114593阅读:370来源:国知局
一种真空镀膜机用密封结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及纳米镀膜设备技术领域,具体涉及一种真空镀膜机用密封结构。
【背景技术】
[0002]纳米镀膜能在金、银、妈、钴、钯等不同金属表面形成2-10nm厚度左右的镀层,从而使金属表面具有良好的耐磨性、防水、导电性能、耐腐蚀、耐高温、防氧化及改变表面张力等特性,从而提升材料性能,可以全面的改善产品品质。
[0003]真空镀膜机的真空炉是在真空环境中对物品进行加热炉子,其加热方式比较多,如电阻加热、感应加热和微波加热等。目前,真空炉的工件加热方式是工件固定不动放在挂架上,这样会造成工件加热不均匀,变形会大,通常采用设置于真空炉下方的电机来驱动挂架旋转,以解决工件加热不均匀的问题,但其密封性较差,抽真空效果不好,生产效率低;且影响镀膜效果,制得的成品良品率低。

【发明内容】

[0004]为了克服现有技术中存在的缺点和不足,本实用新型的目的在于提供一种生产效率高和成品良品率高的真空镀膜机用密封结构。
[0005]本实用新型的目的通过下述技术方案实现:一种真空镀膜机用密封结构,包括真空炉、设置于真空炉内的挂架、以及固定于真空炉下方的用于驱动挂架旋转的电机,电机包括转轴,真空炉的底部固定有底板,底板的中部开设有通孔,转轴的顶部穿过通孔并与挂架的底部固定连接,转轴与通孔的连接处设置有密封件,密封件由上到下依次设置有第一密封圈、第一轴承、支撑环、第二轴承和第二密封圈。
[0006]进一步的,所述第二密封圈的底部设置有第一消音圈。
[0007]进一步的,所述密封件的顶部固定有法兰盖。
[0008]进一步的,所述法兰盖与所述转轴之间设置有第二消音圈。
[0009]进一步的,所述第一消音圈和第二消音圈均为丁基橡胶圈。
[0010]进一步的,所述电机的顶部固定有电机法兰,电机法兰与底板的底部固定连接。
[0011]进一步的,所述密封件的底部向外凸设有环形凸块,所述通孔的底部开设有与环形凸块相配合的环形凹槽,环形凸块嵌入环形凹槽内,环形凸块的底部与所述电机法兰固定连接。
[0012]进一步的,所述环形凸块与所述环形凹槽的连接处设置有第三密封圈。
[0013]本实用新型的有益效果在于:本实用新型的密封结构通过在电机转轴与真空炉底板通孔的连接处设置密封件,密封件由上到下依次设置有第一密封圈、第一轴承、支撑环、第二轴承和第二密封圈,其密封效果好,使得真空炉抽真空效果好,生产效率高;且镀膜效果好,制得的成品良品率尚。
【附图说明】
[0014]图1是本实用新型的局部剖视图。
[0015]图2是本实用新型所述密封件的局部剖视图。
[0016]附图标记为:1 一真空炉、11 一底板、2—挂架、3 —电机、31—转轴、32 —电机法兰、4 一密封件、40—第一消音圈、41一第一密封圈、42—第一轴承、43—支撑环、44 一第二轴承、45—第二密封圈、46—环形凸块、47—第三密封圈、5—法兰盖、50—第二消音圈。
【具体实施方式】
[0017]为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例及附图1-2对本实用新型作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本实用新型的限定。
[0018]见图1-2,一种真空镀膜机用密封结构,包括真空炉1、设置于真空炉I内的挂架2、以及固定于真空炉I下方的用于驱动挂架2旋转的电机3,电机3包括转轴31,真空炉I的底部固定有底板11,底板11的中部开设有通孔,转轴31的顶部穿过通孔并与挂架2的底部固定连接,转轴31与通孔的连接处设置有密封件4,密封件4由上到下依次设置有第一密封圈41、第一轴承42、支撑环43、第二轴承44和第二密封圈45。
[0019]本实用新型的密封结构通过在电机3转轴31与真空炉I底板11通孔的连接处设置密封件4,密封件4与转轴31之间由上到下依次设置有第一密封圈41、第一轴承42、支撑环43、第二轴承44和第二密封圈45,其密封效果好,使得真空炉I抽真空效果好,生产效率尚;且链I旲效果好,制得的成品良品率尚。
[0020]本实施例中,所述第二密封圈45的底部设置有第一消音圈40。第一消音圈40的设置可以减少转轴31转动时产生的噪音。
[0021]本实施例中,所述密封件4的顶部固定有法兰盖5。法兰盖5的设置便于密封件4的密封。
[0022]本实施例中,所述法兰盖5与所述转轴31之间设置有第二消音圈50。第二消音圈50的设置可以减少转轴31转动时产生的噪音。
[0023]本实施例中,所述第一消音圈40和第二消音圈50均为丁基橡胶圈。丁基橡胶圈的消音效果好,材料环保,成本低。
[0024]本实施例中,所述电机3的顶部固定有电机法兰32,电机法兰32与底板11的底部固定连接。电机法兰32的设置便于电机3安装在真空炉I的底板11上,安装方便。
[0025]本实施例中,所述密封件4的底部向外凸设有环形凸块46,所述通孔的底部开设有与环形凸块46相配合的环形凹槽,环形凸块46嵌入环形凹槽内,环形凸块46的底部与所述电机法兰32固定连接。环形凸块46和环形凹槽的设置便于密封件4的固定,安装牢固,密封性好。
[0026]本实施例中,所述环形凸块46与所述环形凹槽的连接处设置有第三密封圈47。第三密封圈47的设置可以进一步提高密封效果,使得真空炉I抽真空效果好,生产效率高,制得的成品良品率尚。
[0027]上述实施例为本实用新型较佳的实现方案,除此之外,本实用新型还可以其它方式实现,在不脱离本实用新型构思的前提下任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种真空镀膜机用密封结构,其特征在于:包括真空炉、设置于真空炉内的挂架、以及固定于真空炉下方的用于驱动挂架旋转的电机,电机包括转轴,真空炉的底部固定有底板,底板的中部开设有通孔,转轴的顶部穿过通孔并与挂架的底部固定连接,转轴与通孔的连接处设置有密封件,密封件由上到下依次设置有第一密封圈、第一轴承、支撑环、第二轴承和第二密封圈。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用密封结构,其特征在于:所述第二密封圈的底部设置有第一消音圈。3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜机用密封结构,其特征在于:所述密封件的顶部固定有法兰盖。4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜机用密封结构,其特征在于:所述法兰盖与所述转轴之间设置有第二消音圈。5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜机用密封结构,其特征在于:所述第一消音圈和第二消音圈均为丁基橡胶圈。6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用密封结构,其特征在于:所述电机的顶部固定有电机法兰,电机法兰与底板的底部固定连接。7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜机用密封结构,其特征在于:所述密封件的底部向外凸设有环形凸块,所述通孔的底部开设有与环形凸块相配合的环形凹槽,环形凸块嵌入环形凹槽内,环形凸块的底部与所述电机法兰固定连接。8.根据权利要求7所述的一种真空镀膜机用密封结构,其特征在于:所述环形凸块与所述环形凹槽的连接处设置有第三密封圈。
【专利摘要】本实用新型涉及纳米镀膜设备技术领域,具体涉及一种真空镀膜机用密封结构,包括真空炉、设置于真空炉内的挂架、以及固定于真空炉下方的用于驱动挂架旋转的电机,电机包括转轴,真空炉的底部固定有底板,底板的中部开设有通孔,转轴的顶部穿过通孔并与挂架的底部固定连接,转轴与通孔的连接处设置有密封件,密封件由上到下依次设置有第一密封圈、第一轴承、支撑环、第二轴承和第二密封圈。本实用新型的密封结构通过在转轴与通孔的连接处设置密封件,密封件由上到下依次设置有第一密封圈、第一轴承、支撑环、第二轴承和第二密封圈,其密封效果好,使得真空炉抽真空效果好,生产效率高;且镀膜效果好,制得的成品良品率高。
【IPC分类】C23C14/56
【公开号】CN204779794
【申请号】CN201520413779
【发明人】肖桥兵
【申请人】广东易能纳米科技有限公司
【公开日】2015年11月18日
【申请日】2015年6月16日
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