本发明涉及抛釉制备技术领域，尤其涉及一种高透抛釉及其制备工艺。
背景技术：
釉面砖是一种可以在釉面进行抛光工序的一种特殊配方釉，它是施于仿古砖的最后一道釉料，一般为透明面釉或透明凸状花釉，施于釉面砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽。其釉料特点是透明不遮盖底下的面釉和各道花釉，抛釉时只抛掉透明釉的薄薄一层，而透明凸状花釉作全釉是的杰出之作，其凸釉通过丝网印花于砖面成间断的凸粒状釉，烧成再抛釉，效果更是别具一格。现有技术中的抛釉在烧制是，其透花以及色彩都不足。为此，我们提出了一种高透抛釉及其制备工艺。
技术实现要素：
本发明提出了一种高透抛釉及其制备工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。
本发明提出了一种高透抛釉，其原料按重量的配方如下：高透熔块25-35份，锌3-8份，钾长石20-35份，黏土5-10份，钡5-8份，钙7-15份，镁3-6份，石英粉5-10份。
优选的，其原料按重量的配方如下：
高透熔块28-32份，锌4-7份，钾长石25-30份，黏土6-8份，钡6-7份，钙9-12份，镁4-5份，石英粉6-8份。
优选的，其原料按重量的配方如下：
高透熔块30份，锌5份，钾长石28份，黏土7份，钡6.5份，钙10份，镁4.5份，石英粉7份。
优选的，所述的高透熔块的成分按照百分比如下：铝20-25％、钙15-22％、镁3-7％、钾3-5％、钠2-5％、锌3-7％、钡8-12％、铁0.1-0.3％，其余为硅。
本发明还提供了一种高透抛釉的制备工艺，包括如下步骤：
选取上述各原料，并将其按比例置于研磨机内进行研磨，从而能够将原料研磨至细粉状，待其混合均匀后；
再次投入球磨机，加入水33％、甲基0.12％以及三聚0.4％，研磨10-13小时，成为釉浆，把比重调到1.82±0.03g/100ml；
利用钟罩均匀的淋在砖胚上，表面根据要求施釉量330g-450g，经45-50分钟，并在1150-1200摄氏度的高温下釉烧，形成高透的纹理清晰的，花色鲜艳的陶器。
与现有技术相比，本发明的有益效果在于：该高透抛釉的透花好，纹理清晰，花色鲜艳，符合现在使用者的品味。
具体实施方式
下面结合具体实施例来对本发明做进一步说明。
实施例1
本发明提出了一种高透抛釉，其原料按重量的配方如下：高透熔块25份，锌3份，钾长石20份，黏土5份，钡5份，钙7份，镁3份，石英粉5份。
所述的高透熔块的成分按照百分比如下：铝20％、钙15％、镁3％、钾3％、钠2％、锌3％、钡8％、铁0.1％，其余为硅。
本发明还提供了一种高透抛釉的制备工艺，包括如下步骤：
选取上述各原料，并将其按比例置于研磨机内进行研磨，从而能够将原料研磨至细粉状，待其混合均匀后；
再次投入球磨机，加入水33％、甲基0.12％以及三聚0.4％，研磨10-13小时，成为釉浆，把比重调到1.82±0.03g/100ml；
利用钟罩均匀的淋在砖胚上，表面根据要求施釉量330g-450g，经45-50分钟，并在1150-1200摄氏度的高温下釉烧，形成高透的纹理清晰的，花色鲜艳的陶器。
实施例2
本发明提出了一种高透抛釉，其原料按重量的配方如下：高透熔块28份，锌4份，钾长石25份，黏土6份，钡6份，钙9份，镁4份，石英粉6份。
所述的高透熔块的成分按照百分比如下：铝21％、钙17％、镁4％、钾3.5％、钠3％、锌4％、钡9％、铁0.15％，其余为硅。
本发明还提供了一种高透抛釉的制备工艺，包括如下步骤：
选取上述各原料，并将其按比例置于研磨机内进行研磨，从而能够将原料研磨至细粉状，待其混合均匀后；
再次投入球磨机，加入水33％、甲基0.12％以及三聚0.4％，研磨10-13小时，成为釉浆，把比重调到1.82±0.03g/100ml；
利用钟罩均匀的淋在砖胚上，表面根据要求施釉量330g-450g，经45-50分钟，并在1150-1200摄氏度的高温下釉烧，形成高透的纹理清晰的，花色鲜艳的陶器。
实施例3
本发明提出了一种高透抛釉，其原料按重量的配方如下：高透熔块30份，锌5份，钾长石28份，黏土7份，钡6.5份，钙10份，镁4.5份，石英粉7份。
所述的高透熔块的成分按照百分比如下：铝23％、钙19％、镁5％、钾4％、钠3.5％、锌5％、钡10％、铁0.2％，其余为硅。
本发明还提供了一种高透抛釉的制备工艺，包括如下步骤：
选取上述各原料，并将其按比例置于研磨机内进行研磨，从而能够将原料研磨至细粉状，待其混合均匀后；
再次投入球磨机，加入水33％、甲基0.12％以及三聚0.4％，研磨10-13小时，成为釉浆，把比重调到1.82±0.03g/100ml；
利用钟罩均匀的淋在砖胚上，表面根据要求施釉量330g-450g，经45-50分钟，并在1150-1200摄氏度的高温下釉烧，形成高透的纹理清晰的，花色鲜艳的陶器。
实施例4
本发明提出了一种高透抛釉，其原料按重量的配方如下：高透熔块32份，锌7份，钾长石30份，黏土8份，钡7份，钙12份，镁5份，石英粉8份。
所述的高透熔块的成分按照百分比如下：铝23％、钙21％、镁6％、钾4.5％、钠4％、锌6％、钡11％、铁0.25％，其余为硅。
本发明还提供了一种高透抛釉的制备工艺，包括如下步骤：
选取上述各原料，并将其按比例置于研磨机内进行研磨，从而能够将原料研磨至细粉状，待其混合均匀后；
再次投入球磨机，加入水33％、甲基0.12％以及三聚0.4％，研磨10-13小时，成为釉浆，把比重调到1.82±0.03g/100ml；
利用钟罩均匀的淋在砖胚上，表面根据要求施釉量330g-450g，经45-50分钟，并在1150-1200摄氏度的高温下釉烧，形成高透的纹理清晰的，花色鲜艳的陶器。
实施例5
本发明提出了一种高透抛釉，其原料按重量的配方如下：高透熔块35份，锌8份，钾长石35份，黏土10份，钡8份，钙15份，镁6份，石英粉10份。
所述的高透熔块的成分按照百分比如下：铝25％、钙22％、镁7％、钾5％、钠5％、锌7％、钡12％、铁0.3％，其余为硅。
本发明还提供了一种高透抛釉的制备工艺，包括如下步骤：
选取上述各原料，并将其按比例置于研磨机内进行研磨，从而能够将原料研磨至细粉状，待其混合均匀后；
再次投入球磨机，加入水33％、甲基0.12％以及三聚0.4％，研磨10-13小时，成为釉浆，把比重调到1.82±0.03g/100ml；
利用钟罩均匀的淋在砖胚上，表面根据要求施釉量330g-450g，经45-50分钟，并在1150-1200摄氏度的高温下釉烧，形成高透的纹理清晰的，花色鲜艳的陶器。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。