一种加入氧化钇的低渗出电熔锆刚玉砖的制备方法

文档序号:25543985发布日期:2021-06-18 20:41阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开了一种加入氧化钇的低渗出电熔锆刚玉砖的制备方法,充分保留了电熔锆刚玉砖原有的优点,工艺简单,且能生产出具有良好性能的产品。本发明创新地在电熔锆刚玉砖中引入了氧化钇,不仅在原始料中引入,更是在成品的表面涂抹氧化钇涂层,并在原料成分中加入工业氧化铝和氧化镁,并且提高了氧化锆的纯度和含量,极大地提高了玻璃相的初析温度,在高硼硅玻璃的生产中产生的玻璃相极少析出,增加了所生产高硼硅玻璃清晰度,解决了生产中易出现裂开、被腐蚀、易污染玻璃等问题,更利于中高硼硅玻璃的生产。

技术研发人员:王黎;蒋慷;程白雪;张坤;景成功;柴悦;何新
受保护的技术使用者:洛阳理工学院
技术研发日:2021.04.26
技术公布日:2021.06.18

当前第3页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1