专利名称：电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备、电子照相感光构件的生产方法和脲化合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及电子照相感光构件，电子照相感光构件的生产方法，和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。本发明还涉及脲化合物。
背景技术：
安装于电子照相设备的电子照相感光构件的实例为包含有机光导电性物质(电荷产生物质)的有机电子照相感光构件(下文中简称为"电子照相感光构件〃)。已广泛地研究电子照相感光构件。特别地，为了使电子照相感光构件长寿命化和高图像品质化的目的，进行尝试以改进电子照相感光构件的耐久性。
改进电子照相感光构件的耐久性可以是改进机械耐久性如耐磨耗性和耐擦伤性，改进重复充放电期间的电位稳定性或者防止由放电生成物导致的图像缺失。为了获得具有优良图像稳定性的电子照相感光构件，存在同时满足改进机械耐久性和电位稳定性以及防止图像缺失的电子照相感光构件的需求。日本专利特开2000-066425公开了一种使用聚合物提供表面层的技术，所述聚合物通过聚合具有两个以上的链聚合性官能团的电荷输送物质而产生。该技术能够改进电子照相感光构件的机械耐久性(耐磨耗性)和电位稳定性。然而，日本专利特开2000-066425公开的具有高耐磨耗性的电子照相感光构件趋于具有其上沉积的放电生成物(臭氧和氮氧化物)以及在高温高湿环境下引起图像缺失。图像缺失可以通过使用包含添加剂的电子照相感光构件来降低。日本专利特开63-097959提出将脲化合物添加至感光层以防止由于活性气体导致的电子照相感光构件的劣化。存在使用链聚合性添加剂维持表面层的高的机械耐久性的另一种技术，所述表面层包含通过聚合具有链聚合性官能团的电荷输送物质产生的聚合物(固化性树脂)。更具体地，各种链聚合性硅氧烷化合物用于改进电子照相感光构件表面的清洁。日本专利特开2005-115353提出添加具有二甲基硅氧烷结构作为重复单元的反应性硅酮化合物的方法。日本专利特开2006-047949提出一种将具有自由基反应性的丙烯酰基改性的聚有机硅氧烷分散至自由基聚合性单体中的方法。然而，本发明人发现日本专利特开63-097959中描述的脲化合物具有不足的图像缺失防止效果并趋于降低电位稳定性。日本专利特开2005-115353中描述的反应性硅酮化合物趋于导致由于二甲基硅氧烷结构与具有芳基的电荷输送物质之间的不足的亲合性引起的膜缺陷。虽然二甲基硅氧烷结构改进电子照相感光构件的表面的清洁，但日本专利特开2006-047949中描述的丙烯酰基改性的聚有机硅氧烷不充分地防止图像缺失和趋于降低电位稳定性
发明内容
本发明提供一种具有以下表面层的电子照相感光构件，所述表面层包含通过聚合具有链聚合性官能团的电荷输送物质生产的聚合物。所述电子照相感光构件具有优良的机械耐久性和电位稳定性(防止电位波动)和减少图像缺失。本发明还提供各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。本发明还提供一种电子照相感光构件的生产方法。本发明还提供一种脲化合物，其能够防止由活性物质例如臭氧、氮氧化物(NOx)和硝酸导致的劣化。这些能够通过本发明实现。本发明涉及一种包括支承体和设置在所述支承体上的感光层的电子照相感光构件。所述电子照相感光构件具有表面层，所述表面层包含通过聚合包含具有链聚合性官能团的电荷输送物质和具有链聚合性官能团的脲化合物的组合物来生产的聚合物。所述脲化合物为由下式(I)表示的化合物和由下式(2)表示的化合物中的至少一种。
权利要求
1.一种电子照相感光构件,包括 支承体， 设置在所述支承体上的感光层， 其中，所述电子照相感光构件包括表面层，所述表面层包含通过聚合以下组合物可获得的聚合物，所述组合物包括 具有至少一个链聚合性官能团的电荷输送物质，和 脲化合物， 其中，所述脲化合物为选自由由下式(I)表示的化合物和由下式(2)表示的化合物组成的组中的至少一种化合物；和
2.根据权利要求I所述的电子照相感光构件， 其中，式⑴和⑵中， R1至R5各自独立地表不烧基、烧氧基取代的烧基、齒素取代的烧基、烧氧基、烧氧基取代的烧氧基或齒素取代的烧氧基。
3.根据权利要求I所述的电子照相感光构件， 其中，式⑴和⑵中，a、b、g和h为O。
4.根据权利要求I所述的电子照相感光构件， 其中，式⑴和⑵中，X21至X24的至少之一为亚乙基或亚正丙基，和 X41至X46的至少之一为亚乙基或亚正丙基。
5.根据权利要求I所述的电子照相感光构件， 其中，式⑴和⑵中， C、d、j 和 k 为 O。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的电子照相感光构件， 所述电荷输送物质的链聚合性官能团包含丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基。
7.根据权利要求I所述的电子照相感光构件， 所述电荷输送物质在同一分子中包括两个以上的链聚合性官能团。
8.—种处理盒，其可拆卸地安装至电子照相设备的主体，其中所述处理盒一体化地支承 根据权利要求I所述的电子照相感光构件，和 选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组中的至少一种装置。
9.一种电子照相设备，其包括 根据权利要求I所述的电子照相感光构件； 充电装置； 曝光装置； 显影装置；和 转印装置。
10.一种根据权利要求I所述的电子照相感光构件的生产方法， 其中所述方法包括以下步骤 通过使用包含所述电荷输送物质和所述脲化合物的表面层涂布液来形成表面层用涂层，和 通过聚合所述涂层中的所述电荷输送物质和所述脲化合物来形成所述表面层。
11.根据权利要求10所述的电子照相感光构件的生产方法， 其中所述电荷输送物质和所述脲化合物的聚合通过向所述涂层照射电子射线来进行。
12.—种脲化合物，其由下式⑶或⑷表示；和
13.根据权利要求12所述的脲化合物， 其中，式⑶和⑷中， I、m、p、q 和 r 为 O。
14.根据权利要求12所述的脲化合物， 其中，式⑶和⑷中， X61至X64的至少之一为亚乙基或亚正丙基，和 X81至X86的至少之一为亚乙基或亚正丙基。
15.根据权利要求12所述的脲化合物， 其中，式⑶和⑷中， η、O、s 和 t 为 O。
全文摘要
本发明涉及电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备、电子照相感光构件的生产方法和脲化合物。一种电子照相感光构件和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备，所述电子照相感光构件包括通过固化具有链聚合性官能团的电荷输送物质和由下式(1)或(2)表示的脲化合物而形成的最外表面层。
文档编号C07C275/32GK102799085SQ20121016029
公开日2012年11月28日 申请日期2012年5月22日 优先权日2011年5月24日
发明者田中正人, 野中正树 申请人:佳能株式会社