专利名称：降膜分布器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种降膜分布器，属于降膜结晶器部件。
背景技术：
在对(邻)二氯苯结晶过程中，降膜分布器的结构对于结晶效率和质量均具有很重要的影响；为了提高物料结晶效率，降膜分布器的设置应使物料均匀分布、流动稳定；而现有的降膜分布器其结构形式不能很好的满足上述要求，导致物料的结晶效率、质量受到很大影响，均进一步改进
实用新型内容
本实用新型针对上述缺陷，目的在于提供一种使物料布料使能均匀分布、且流动稳定的降膜分布器。为此本实用新型采用的技术方案是本实用新型包括筒体和设置在筒体内的由若干个连续四方形孔形成的物料分布通道。所述四方形孔为菱形。本实用新型的优点是本实用新型采用四方形孔作为降膜分布器的通道，其原因是采用四方形孔其通道设置方式可连续且均匀，相邻孔和孔之间没有间断，从而保证降膜分布器其各个部分物料能沿其截面均匀分布、物料流动稳定；进一步的本实用新型的方形孔为菱形，菱形的结构设置进一步保证了单个孔上的各个部分物料分布均匀，使降膜分布器整体受力均匀，保证物料流动的稳定性，从而使物料结晶效率和质量得到保证。
图I为本实用新型的结构示意图。图中I为筒体、2为四方形孔。
具体实施方式
本实用新型包括筒体I和设置在筒体I内的由若干个连续四方形孔2形成的物料分布通道。优选的，本实用新型的所述四方形孔2为菱形。本实用新型的四方形孔2沿结晶器截面均匀分布，相互四方形孔2之间连续无间断。
权利要求1.降膜分布器，其特征在于，包括筒体和设置在筒体内的由若干个连续四方形孔形成的物料分布通道。
2.根据权利要求I所述的降膜分布器，其特征在于，所述四方形孔为菱形。
专利摘要本实用新型涉及一种降膜分布器。包括筒体和设置在筒体内的由若干个连续四方形孔形成的物料分布通道。本实用新型采用四方形孔作为降膜分布器的通道，其原因是采用四方形孔其通道设置方式可连续且均匀，相邻孔和孔之间没有间断，从而保证降膜分布器其各个部分物料能沿其截面均匀分布、物料流动稳定；进一步的本实用新型的方形孔为菱形，菱形的结构设置进一步保证了单个孔上的各个部分物料分布均匀，使降膜分布器整体受力均匀，保证物料流动的稳定性，从而使物料结晶效率和质量得到保证。
文档编号C07C25/08GK202506161SQ201220008720
公开日2012年10月31日 申请日期2012年1月10日 优先权日2012年1月10日
发明者沈正阳, 沈波 申请人:江苏鹏宇化工有限公司