技术特征：
技术总结
本发明公开了一种可重复书写的抗划薄膜及其制备方法，其制备方法包括以下步骤：将改性SiO2‑TiO2纳米复合材料、线性低密度聚乙烯和氧化聚乙烯混合置于高速搅拌机中，搅拌速度为600‑800rpm，温度为110℃，搅拌混合20‑30min，之后通过双螺杆挤出机挤出切粒，制得纳米材料母粒；将纳米材料母粒，高密度聚乙烯，醋酸乙烯‑乙烯共聚物混合均匀，置于塑料吹塑成型机中，吹制成聚乙烯薄膜。该薄膜便于书写，并且易于擦除，可重复使用。并且该薄膜表面耐划擦，使用寿命较长。
技术研发人员：孙加元
受保护的技术使用者：苏州威仕薄膜科技有限公司
技术研发日：2017.03.27
技术公布日：2017.08.08