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量子点表面配体、量子点薄膜及其制备方法和应用与流程
文档序号:18005127
发布日期:2019-06-25 23:16
阅读:
来源:国知局
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量子点表面配体、量子点薄膜及其制备方法和应用与流程
技术特征:
技术总结
本发明提供了一种量子点表面配体,包括如下结构式1‑4任一所示的化合物中的至少一种,其中,R、R1、R1’、R2、R2’、R3、R3’、R4、R4’、R5、R5’单独选自为烃基或烃基衍生物;X1、X1’、X2、X2’、X3、X3’为可与量子点结合的活性官能团。
技术研发人员:
曹蔚然;杨一行;向超宇;钱磊;梁柱荣
受保护的技术使用者:
TCL集团股份有限公司
技术研发日:
2017.12.15
技术公布日:
2019.06.25
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