本实用新型涉及化工产品生产设备领域，特别是涉及一种用于生产烷撑二芳烃系列产品的生产设备。
背景技术：
MOEA（4,4’-亚甲基-双（2-乙基-苯胺）），为氨基邻位乙基取代的芳香族二胺类扩链剂，与TDI和MDI预聚体有着良好的相容、配伍性，反应速度较快，与E100搭配可用于反应注射成型和聚脲喷涂工艺，制品具有优良的物理以及动态力学性能。用于聚脲弹性防水材料，可有效提高材料的强度、耐植物穿刺和耐老化性能。本品也可用作环氧树脂的固化剂，赋予制品良好的抗张、耐撕裂、电绝缘及耐热等性能。
技术实现要素：
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种烷撑芳香烃的生产设备，能够高效稳定的生产烷撑二芳烃。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：
提供一种烷撑二芳烃的生产设备，包括依次连接的合成工作段、中和水洗工作段和过滤干燥工作段；
所述合成工作段，包括若干个装有不同原料的原料罐，由管道连通至合成釜；
所述中和水洗工作段，包括中和釜，位于所述合成釜后，所述中和釜上设置有助剂罐，所述中和釜后方依次连接有中和缓冲罐、一次水洗釜、二次水洗釜、第一水洗缓冲罐、三次水洗釜和第二水洗缓冲罐；
所述过滤干燥工作段，包括依次连接的第一过滤器、干燥釜、第二过滤器和收料罐，所述干燥釜上还连接有真空干燥设备。
在本实用新型一个较佳实施例中，所述原料罐包括水罐、盐酸罐、苯胺/邻氯苯胺混料罐、邻氯苯胺罐、2,6-二乙基苯胺罐、邻乙基苯胺罐和甲醛罐。
在本实用新型一个较佳实施例中，所述真空干燥设备包括依次连接的冷凝器、收集罐、缓冲罐和真空泵。
在本实用新型一个较佳实施例中，整套设备中安装有集散控制系统。
本实用新型的有益效果是：本实用新型烷撑二芳烃的生产设备，可以稳定高效的生产烷撑二芳烃系列产品，包括MOEA、ML-200、ML-400等，采用集散控制系统将原料从原料罐区直至包装造粒实现全自动远程控制，减轻了劳动强度，提高了生产效率。
附图说明
图1是本实用新型一较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
一种烷撑二芳烃的生产设备，包括依次连接的合成工作段、中和水洗工作段和过滤干燥工作段；
所述合成工作段，包括若干个装有不同原料的原料罐，由管道连通至合成釜2；所述中和水洗工作段，包括中和釜3，位于所述合成釜2后，所述中和釜3上设置有助剂罐108，所述中和釜3后方依次连接有中和缓冲罐4、一次水洗釜5、二次水洗釜6、第一水洗缓冲罐7、三次水洗釜8和第二水洗缓冲罐9；所述过滤干燥工作段，包括依次连接的第一过滤器10、干燥釜11、第二过滤器12和收料罐13，所述干燥釜11上还连接有真空干燥设备，所述真空干燥设备包括依次连接的冷凝器1101、收集罐1102、缓冲罐1103和真空泵1104。
所述原料罐包括水罐101、盐酸罐102、苯胺/邻氯苯胺混料罐103、邻氯苯胺罐104、2,6-二乙基苯胺罐105、邻乙基苯胺罐106和甲醛罐107，根据实际需要进行的生产的目标产物选择合适的原料罐。
整套设备中安装有集散控制系统，采用集散控制系统将原料从原料罐区直至包装造粒实现全自动远程控制，减轻了劳动强度，提高了生产效率。
实施例1：4,4’-亚甲基-双（2，-乙基-苯胺）（MOEA）的生产。
反应的原理是：
。
（1）合成：将水、盐酸、邻乙基苯胺投入到合成釜2中，用氮气置换后滴加甲醛，控制合成釜内温度为80~100℃，在85r/min的搅拌速度下进行合成反应3h；
（2）中和、水洗：在中和釜3中加助剂，调整物料的pH值，通入中和缓冲罐4中，然后依次通过一次水洗釜5、二次水洗釜6进行水洗，而后通入第一水洗缓冲罐7加热水煮沸20min，再通入三次水洗釜8、第二水洗缓冲罐9，加热水煮沸20min，静置分层；
（3）干燥、过滤：将物料先通过第一过滤器10进行初步过滤，再通过干燥釜11在-0.098MPa和100℃的条件下进行脱水，干燥釜11上还连接有真空干燥设备，配合干燥釜11对其中的物料进行真空干燥，并收集蒸发得到的水；待物料冷却到一定温度后经过第二过滤器12过滤，再进入收料罐13中收料。
实施例2：3-氯-3’-乙基-4,4’-二氨基二苯基甲烷（ML-200）的生产。
主反应：
；
副反应：
。
本实施例在合成反应时，将水、盐酸、邻氯苯胺和邻乙基苯胺投入合成釜2，其余工作过程同实施例1。
实施例3：3-氯-4,4’-二氨基二苯基甲烷（ML-400）的生产。
反应的原理是：
。
本实施例在合成反应时，将水、盐酸、邻氯苯胺和苯胺投入合成釜2，其余工作过程同实施例1。
以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。