专利名称：喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法
技术领域：
本发明涉及向基板涂敷药液的基板处理装置，更详细地，涉及向基板喷出多种的药液的喷嘴单元和具备该喷嘴单元的基板处理装置。
背景技术：
为了制造半导体元件或液晶显示器，实施如下多种的工序:向基板上供应药液的光刻、刻蚀、离子注入蒸镀和洗净。这样的工序中，光刻工序使基板上形成所需的图案。光刻胶工序依次实行下述工序:涂敷工序，向基板上涂敷如光刻胶这样的药液；曝光工序，在涂敷的感光膜上形成特定的图案；以及显影工序，在曝光的感光膜上去除不必要的区域。其中，一般而言,基板向一个方向移动，由固定的喷嘴被供应药液。在这之中，在基板会被移动的涂敷工序中，支承部件向基板的底面喷射气体，使该基板在其漂浮于空中的状态下移动。但是，基板随气体的振荡而产生振动，由于气体的温度在基板的区域之间产生温差。在先技术文献专利文献1:日本国特许公开第2010-0221186号公报。
发明内容
本发明用于提供一种节省光刻胶的消耗量的喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法。另外，本发明用于提供一种设置成在基板上均匀地涂敷光刻胶的喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法。基于本发明的实施方式的基板处理装置，包括:板，支承基板；喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液；驱动单元，使所述基板或所述喷嘴单元移动，以使置于所述板上的基板和所述喷嘴单元之间的相对位置改变；所述喷嘴单元包括:第一喷出部件，沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液；第二喷出部件，沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向，该第二喷出部件向所述基板喷出第二药液。另外，根据本发明的实施方式的基板处理方法，利用基板处理装置处理基板，该基板处理装置，包括:板，支承基板；喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液；驱动单元，使所述基板或所述喷嘴单元移动，以使置于所述板上的基板和所述喷嘴单元之间的相对位置改变；所述喷嘴单元，包括:第一喷出部件，沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液；第二喷出部件，沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向，该第二喷出部件向所述基板喷出第二药液。在所述方法中，改变所述基板和所述喷嘴单元之间的相对位置，从所述第一喷出部件向所述基板喷出所述第一药液且第二喷出部件向喷出的所述第一药液的表面上喷出所述第二药液。
另外，根据本发明的实施方式的喷嘴单元，包括:主体，沿第一方向提供该主体的横方向，该主体形成有:第一流道，向基板喷出第一药液，沿所述第一方向形成该第一流道的横方向；第二流道，向基板喷出第二药液，沿所述第一方向形成该第二流道的横方向；所述第一流道和所述第二流道被形成为沿与所述第一方向垂直的第二方向相隔离。发明效果根据本发明，能够节省在基板上形成的光刻胶膜所消耗的光刻胶量。另外，根据本发明，在基板上能够均匀地形成光刻胶膜。另外，根据本发明，当在基板上形成多种种类的光刻胶膜时，能够缩短所需的时间。
图1为表示基于本发明一实施方式的基板处理装置的图；图2为表示结合支承台的喷嘴单元的截面的图；图3为表示喷嘴单元向基板涂敷药液的过程的图；图4为表示通过第一喷出部件向基板喷出第一药液的状态的图；图5为表示另外的实施方式的喷嘴单元的截面的图；图6为表示另外的实施方式的喷嘴单元的截面的图；图7为表示另一实施方式的喷嘴单元结合支承台的形态的截面图；图8为表示另一实施方式的喷嘴单元结合支承台的形态的截面图；图9为表示另一实施方式的喷嘴单元的截面图；图10为表示另一实施方式的喷嘴单元的截面图；图11为表示另一实施方式的结合部件的形态的图。符号说明10 …板20…基板移送部件30…喷嘴单元40…喷嘴移送部件41…支承台50…喷嘴单元待机部
具体实施例方式下面，参照附图的图1至图5详细说明本发明的实施方式。本发明的实施方式能够变形为多种方式，不可解释为本发明的范围被以下实施方式所限定。本实施方式是为了向本领域中具有平均知识的从业者更完整地说明本发明而提供的。因此，图中要件的形状为了强调更明确的说明而有所夸张。图1为基于本发明的一实施方式的基板s处理装置的示意图。参照图1，基板s处理装置包括:板10、喷嘴单元30、基板移送部件20、喷嘴移送部件40以及喷嘴单元待机部50。板10能够具有设定于第一方向101的宽度,并具有从上部看时在与第一方向101垂直的第二方向102上延长的形状。基板s位于板10上之后，能够向第二方向102移动。在板10上形成气体供应孔11。气体供应孔11通过气体供应线(未图示)连结气体供应部(未图示)。从气体供应部所供应的气体通过气体供应孔11喷射。从气体供应孔11喷射的气体使位于板10上的基板s浮起。在板10的第一方向101的两侧面设置基板移送部件20。基板移送部件20包括基板移送用轨道21和夹持部件22。基板移送用轨道21在板10的两侧面沿第二方向102延长而形成。夹持部件22位于各基板移送用轨道21上。夹持部件22被设置为可以沿基板移送用轨道21向第二方向102移动。基板s在通过从气体供应孔11喷射的气体而浮起的状态下被夹持部件22支承。夹持部件22若向第二方向102移动，则基板s向第二方向102被移送。喷嘴单元30与喷嘴移送部件40结合，并被设置为在板10上，在与第一方向101及第二方向102垂直的第三方向103上与板10分离。喷嘴单元30向基板s喷出第一药液和第二药液。喷嘴移送部件40包括支承台41、垂直框架42以及导轨43。支承台41形成为在第一方向101上较长地延长的棒摸样。喷嘴单元30至少一个面与支承台41结合，并被设置为从板10向第三方向103隔离。另外，通过以下说明的结合部件60，喷嘴单元30以可拆装的方式与支承台41结合。支承台41的第一方向101的端部连结垂直框架42。垂直框架42向第三方向103的下方延长并形成。垂直框架42可与支承台41 一体形成，或者分别形成后再与支承台41连结。垂直框架42位于导轨43上。导轨43在第一方向101上形成于基板移送用轨道21的外侧，并向第二方向102延长。垂直框架42能够沿导轨43向第二方向102移动。喷嘴单元待机部50在导轨43的内侧具有设置于第二方向102的宽度，并设置为在第一方向101上延长的形状。喷嘴单元待机部50配置在移动喷嘴单元30的路径上。SP，垂直框架42沿导轨43移动，使喷嘴单元30能够位于喷嘴单元待机部50的上方。当喷嘴单元待机部50位于板10的上方时，喷嘴单元待机部50被设置为从板10在第3方向上分离。因此，位于板10上的基板s能够在板10与喷嘴单元待机部50之间移动。在喷嘴单元待机部50处能够使多个喷嘴单元30位于该处。另外，在喷嘴单元待机部50处能够具备未与支承台41结合的喷嘴单元30。因此，在设置使得与支承台41结合着的喷嘴单元30分离并位于喷嘴单元待机部50之后，能够设置以使位于喷嘴单元待机部50处的其他的喷嘴单元30与支承台41结合，从而实现喷嘴单元30的更换。因此，能够根据从喷嘴单元30喷出的药液的种类，更换并使用与支承台41结合的喷嘴单元30。图2为表示与支承台结合着的喷嘴单元的截面的图。参照图1和图2，喷嘴单元30包括:第一喷出部件、第二喷出部件、抽引部件340以及排气流道330。喷嘴单元30可以具有缝隙状延长的主体300。当喷嘴单元30与支承台41结合时，主体300的延长方向变为第一方向101。在主体300上形成作为第一喷出部件提供的第一流道310以及作为第二喷出部件提供的第二流道320。第一流道310和第二流道320沿第一方向101形成。另外，第一流道310和第二流道320以沿第二方向102隔离的方式形成。第一流道310通过第一连结管315与第一药液供应部317连结，第二流道320通过第二连结管325与第二药液供应部327连结。从第一药液供应部317和第二药液供应部327供应的药液可为不同种类的药液。作为一个例子，从第一药液供应部317供应的药液可为有机溶剂，从第二药液供应部327供应的药液可为感光液。排气流道330形成于第一流道310和第二流道320之间。排气流道330通过排气连结管335与减压部件连结。作为一个例子，减压部件371可通过泵形式提供。如果减压部件371工作，则在基板s上产生的烟气在被吸入排气流道330之后，通过减压部件371排出。抽引部件340可以附着于主体300的一个侧面或者作为流道形成于主体300中。第一流道310位于抽引部件340和第二流道320之间。另外，第一流道310位于抽引部件340和排气流道330之间。抽引部件340与减压部件372连结。如果减压部件372工作，则抽引部件340对从第一流道310喷出的药液提供吸入压力。因此，第一药液一边向抽引部件340这方被吸引一边被喷出。第一流道310和第二流道320以向排气流道330这方倾斜的方式形成。因此，第一流道310和第二流道320沿第二方向102隔离的距离在主体300的下部变窄，在向基板s涂敷第一药液之后，减少涂敷第二药液所需的时间。在支承台41上具有接合部件60。接合部件60可以包括吸入部61。吸入部61形成于支承台41的下面。吸入部61可以包括与减压部件373连结的负压部610。若减压部件373工作而吸入负压部610周围的气体，则在负压部610处产生负压，使以与负压部610邻接的方式设置的喷嘴单元30与支承台41接合。另外，若减压部件373停止，则喷嘴单元30从支承台41分离。结合部件60可以进一步地包括结合部630。结合部630设置于与支承台41相接的喷嘴单元30的外表面。另外，吸入部61可以包括插入部620和负压部610，该插入部620与结合部630的形状相对应。因此，若减压部件373工作，则结合部630通过负压而向插入部620插入。另外，负压部610可以实施以使其起到插入部620的作用，从而负压部610可以与插入部620可以一体形成。图3为表示喷嘴单元向基板涂敷药液的过程的图。参照图3，基板s和喷嘴单元30的相对位置沿第二方向102变化，同时向基板s涂敷药液。在基板s被夹持部件22支承之后，夹持部件22沿基板移送用轨道21移动，同时能够改变基板s和喷嘴单元30之间的相对位置。另外，垂直框架42沿导轨43移动，同时能够改变基板s与喷嘴单元30之间的相对位置。即，通过基板移送部件20或者喷嘴移送部件40改变基板s和喷嘴单元30之间的相对位置。因此，将基板移送部件20和喷嘴移送部件40称为驱动单元。以下，举例说明基板s移动的情况。但是，可以喷嘴单元30移动或喷嘴单元30和基板s移动，来同时向基板s涂敷药液。根据一个例子，第一药液318为有机溶剂，第二药液328感光液。有机溶剂可为稀释剂(Thinner)，感光液可为光刻胶。从气体供应孔11喷出气体，在基板s漂浮的状态下夹持部件22沿基板移送用轨道21向第二方向102移动。此时，基板s在第一喷出部件处向第二喷出部件的一方移动。喷嘴单元30在第一喷出部件开始工作后，控制使得第二喷出部件开始工作。因此，在向基板s上涂敷有机溶液之后涂敷光刻胶。另外，有机溶剂和光刻胶的涂敷可以从基板s的端部开始。图4为表示通过第一喷出部件喷出第一药液的状态的图。参照图3和图4，在第一喷出部件的工作前或者工作的同时，抽引部件开始工作，第一药液318可以在受到向抽引部件方向的吸入压力的同时被喷出。因此，第一药液318向基板s涂敷的地点被引导向抽引部件方向。并且，向涂敷有第一药液318的基板s涂敷第二药液328。图5为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元的截面的图。参照图5，喷嘴单元30包括第一流道310、第二流道320以及排气流道330。因此，喷嘴单元可以不提供抽引部件。图6为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元的截面的图。参照图6，喷嘴单元30包括第一流道310和第二流道320。因此，喷嘴单元可以不提供抽引部件和排气流道。图7和图8为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元与支承台结合的状态的截面图。参照图7和图8，喷嘴单元30包括第一主体301和第二主体302。第一主体301和第二主体302沿第一方向101形成。第一喷出部件可以在第一主体301内包括第一流道310。另外，第二喷出部件可以在第二主体302中包括第二流道320。喷嘴单元30能够进一步地包括抽引部件。抽引部件340可以附着于第一主体301的一个侧面，或者在第一主体301中作为流道形成。抽引部件340位于第一主体301与第二主体302邻接之处的反向。在第一主体301或第二主体302中可以形成排气流道330。当排气流道330形成于第一主体301中时，在邻接第二主体302的那侧沿第一方向101形成该排气流道330。另夕卜，当排气流道330形成于第二主体302中时，在邻接第一主体301的那侧沿第一方向101形成该排气流道330。支承台41可以包括第一支承台410和第二支承台420。第一支承台410与第一主体301结合，第二支承台420与第二主体302结合。第一支承台410或第二支承台420被设置为能够在上下方向上移动，从而第一主体301与第二主体302的下端的相对高度可以调节。另外，第一支承台410或第二支承台420可以向第二方向102移动，第一主体301与第二主体302之间的间隔可以调节。图9为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元的截面图。参照图9，在第一主体301内提供第一流道310，在第二主体302内提供第二流道320。另外，抽引部件340可以附着于第一主体301的一个侧面，或者作为流道形成于在第一主体301。因此，喷嘴单元的那样可以不提供排气流道。图10为表示基于另外的实施方式的喷嘴单元的截面图。参照图10，在第一主体301内提供第一流道310，第二主体302内提供第二流道320。因此，喷嘴单元可以不提供排气流道和抽引部件。
图11为表示基于另外的实施方式的结合部件60的形态的图。参照图11，结合部件60包括电磁铁640。电磁铁640可以设置于支承台41下表面，并与电源641和开关642连结。在喷嘴单元30上可以在与支承台41相接的面上设置金属板650。因此,若启动开关642而将电源施加于电磁铁640,则金属板650附着于电磁铁640，从而喷嘴单元30与支承台41结合。另外，若关断开关642而阻断电源施加于电磁铁640，则喷嘴单元30从支承台41分离。以上详细的说明不过是对本发明加以例示。另外，前述内容为示出本发明的优选的实施方式来进行说明，本发明能够在多种其他组合、变更以及环境下使用。即，在本说明书中揭示的发明的概念的范围、与前述的揭示内容均等的范围和/或本领域的技术或知识的范围内能够进行变更或修改。前述的实施方式对实现本发明的技术的想法的较好的状态进行了说明，在本发明的具体的适用领域和用途的情况下也能够进行多种变更。因此，以上发明的详细的说明并非是要将本发明限制于所揭示的实施状态。另外，必须要说明的是，附带的权利要求书也包括其他的实施状态。
权利要求
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括: 板，支承基板； 喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液； 驱动单元，使所述基板或所述喷嘴单元移动，以使置于所述板上的基板与所述喷嘴单元之间的相对位置改变； 所述喷嘴单元包括: 第一喷出部件，沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液； 第二喷出部件，沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向，该第二喷出部件向所述基板喷出第二药液。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述喷嘴单元还包括:主体，沿所述第一方向形成该主体的横方向； 所述第一喷出部件被提供作为形成于所述主体内的第一流道； 第二喷出部件被提供作为形成于所述主体内的第二流道。
3.根据权利要求2所述 的基板处理装置，其特征在于， 在所述主体中还形成吸入从所述基板产生的烟气的排气流道。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于， 所述排气流道形成于所述第一流道与所述第二流道之间。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一流道和第二流道以下部向所述排气流道一侧倾斜的方式形成。
6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，还包括: 抽引部件，向从所述第一喷出部件喷出的所述第一药液提供吸入压力。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于， 所述抽引部件以在所述主体中包含其流道的方式形成并提供，所述第一流道位于所述流道和所述第二流道之间。
8.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于， 所述第一流道和所述第二流道沿与所述第一方向相垂直的第二方向分离。
9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述驱动单元包括:支承台，所述支承台与所述喷嘴单元结合； 垂直框架，设置于所述支承台的两侧来支承所述支承台； 导轨，以所述垂直框架能够向与所述第一方向垂直的第二方向移动的方式支承该垂直框架； 所述基板处理装置还包括: 结合部件，所述结合部件使所述喷嘴单元以可拆装的方式与所述支承台结合。
10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，还包括: 喷嘴单元待机部，从所述支承台分离的喷嘴单元置于该喷嘴单元待机部，所述喷嘴单元待机部配置于所述喷嘴单元移动的路径上。
11.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于， 所述结合部件包括:吸入部，形成于所述支承台的下表面，提供吸入压力。
12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其特征在于， 所述结合部件还包括:结合部，设置于与所述支承台相接的所述喷嘴单元的外表面，在所述喷嘴单元与所述支承台结合时，所述结合部插入所述吸入部。
13.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述喷嘴单元包括:第一主体，沿所述第一方向形成该第一主体的横方向；第二主体，沿所述第一方向形成该第二主体的横方向； 所述第一喷出部件被提供作为形成于所述第一主体内的第一流道； 所述第二喷出部件被提供作为形成于所述第二主体内的第二流道。
14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其特征在于， 所述喷嘴单元在所述第一主体或所述第二主体中还形成排气流道，该排气流道吸入在所述基板产生的烟气。
15.根据权利要求1 所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述板上形成气体供应孔，该气体供应孔被设置为喷出气体并使所述基板在漂浮状态下被所述板所支承。
16.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述第一药液为有机溶剂，所述第二药液为光刻胶。
17.一种基板处理方法，其特征在于，在利用权利要求1或权利要求2的基板处理装置处理基板的方法中， 改变所述基板和所述喷嘴单元之间的相对位置，并通过第一喷出部件向所述基板喷出所述第一药液，所述第二喷出部件向喷出的所述第一药液的表面上喷出所述第二药液。
18.根据权利要求17所述的基板处理方法，其特征在于， 在所述第一喷出部件开始工作之后，所述第二喷出部件开始动作。
19.根据权利要求17所述的基板处理方法，其特征在于， 在所述主体中还形成排气流道，该排气流道吸入从所述基板产生的烟气， 使所述第一喷出部件和所述排气流道共同工作，喷出所述第一药液并吸入从所述基板产生的烟气。
20.根据权利要求17所述的基板处理方法，其特征在于， 在所述板上形成气体供应孔，该气体供应孔被设置为喷出气体并使所述基板在漂浮状态下被所述板支承， 通过所述气体供应孔喷出所述气体，在所述基板漂浮的状态下，向所述基板喷出所述第一药液和第二药液。
21.一种喷嘴单元，其特征在于，包括: 主体，沿第一方向提供该主体的横方向，该主体形成有: 第一流道，向基板喷出第一药液，沿所述第一方向形成该第一流道的横方向； 第二流道，向基板喷出第二药液，沿所述第一方向形成该第二流道的横方向； 所述第一流道和所述第二流道被形成为沿与所述第一方向垂直的第二方向相隔离。
22.根据权利要求21所述的喷嘴单元，其特征在于， 在所述主体中还形成排气流道，该排气流道吸入从所述基板产生的烟气。
23.根据权利要求22所述的喷嘴单元，其特征在于，所述排气流道形成于所述第一流道和所述第二流道之间。
24.根据权利要求23所述的喷嘴单元，其特征在于，所述第一流道和所述第二流道以下部向所述排气流道一侧倾斜的方式形成。
25.根据权利要求21所述的喷嘴单元，其特征在于，还包括: 抽引部件，向从所述第一流道喷出的所述第一药液提供吸入压力。
26.根据权利要求25所述的喷嘴单元，其特征在于， 所述抽引部件被配置为:其流道位于所述主体，所述第一流道位于所述流道和所述第二流 道之间。
全文摘要
本发明提供了一种喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法，以节省光刻胶的消耗量。本发明的基板处理装置包括板，支承基板；喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液；驱动单元，使所述基板或所述喷嘴单元移动，以使置于所述板上的基板与所述喷嘴单元之间的相对位置改变；所述喷嘴单元包括第一喷出部件，沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液；第二喷出部件，沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第二药液。
文档编号B05B13/02GK103084290SQ201210418788
公开日2013年5月8日 申请日期2012年10月26日 优先权日2011年10月31日
发明者李俊镐, 吴昌石 申请人:细美事有限公司