一种用于研磨抛光的研磨液的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种用于研磨抛光的研磨液，其组分包括研磨微粉、高纯水和悬浮剂，按重量计，其中研磨微粉含量为30-33，高纯水含量为2500-2600，悬浮剂含量为100-110。本发明用于研磨抛光的研磨液是一种简易的、长效稳定的研磨液，其适用于大部分微粉材料的配制，成本较低，配制过程简单易操作，且在使用过程中没有发现加工件损伤等问题。
【专利说明】—种用于研磨抛光的研磨液
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种用于研磨抛光的研磨液。
【背景技术】 [0002]目前国内超硬材料研磨液生产较少，且由于技术、设备等原因，研磨液中的磨削材料粒径不均匀，容易对加工件表面产生划伤等问题。而国外研磨液生产虽然技术成熟，但价格较贵，普遍高于国内产品3-4倍左右，使得生产成本大大提高。
【发明内容】
[0003]针对现有技术存在的问题，本发明的目的在于提供一种成本较低、长效稳定的用于研磨抛光的研磨液。
[0004]为实现上述目的，本发明用于研磨抛光的研磨液，其组分包括研磨微粉、高纯水和悬浮剂，按重量计，其中研磨微粉含量为30-33，高纯水含量为2500-2600，悬浮剂含量为100-110。
[0005]进一步，所述研磨微粉为微米级颗粒。
[0006]进一步，所述研磨微粉为若干种微粉材料配制而成。
[0007]进一步，所述研磨微粉为金刚石微粉。
[0008]进一步，所述高纯水的电子级范围大于16m Ω。
[0009]进一步，所述悬浮剂为AQ TTV研磨悬浮分散剂。
[0010]进一步，所述金刚石微粉含量为30，高纯水为2500，悬浮剂为100。
[0011]本发明用于研磨抛光的研磨液是一种简易的、长效稳定的研磨液，其适用于大部分微粉材料的配制，成本较低，配制过程简单易操作，且在使用过程中没有发现加工件损伤等问题。
【具体实施方式】
[0012]下面，对本发明进行更全面的说明，示出了本发明的示例性实施例。然而，本发明可以体现为多种不同形式，并不应理解为局限于这里叙述的示例性实施例。而是，提供这些实施例，从而使本发明全面和完整，并将本发明的范围完全地传达给本领域的普通技术人员。
[0013]本发明公开了一种用于研磨抛光的研磨液适用于大部分硬质材料的研磨抛光加工过程，可用于晶体材料、金属材料等的研磨抛光。在高硬度材料的研磨抛光过程中，必需要选用合适的研磨液进行加工，以提高加工效率，提高产品合格率，为此本发明使用研磨微粉、高纯水、悬浮剂等材料，利用合适的配比，制作出了一种长效、稳定、成本较低的研磨液。研磨微粉是微米级颗粒，在使用过程中，不能出现比微米级颗粒较大的物质或颗粒出现，药液配比极其重要，必须根据药液配比范围内去实施。才能达到产品预期内的最佳效果。
[0014]本发明一种用于研磨抛光的研磨液，其组分包括研磨微粉、高纯水和悬浮剂，按重量计，其中研磨微粉含量为30-33，高纯水含量为2500-2600，悬浮剂含量为100-110。该配比的范围不要过大，如果过大会对所加工晶片产生不良因素，如；产生划伤，粗糙度过大等后果。优选配比为:按重量计，研磨微粉含量为30，高纯水含量为2500，悬浮剂含量为100。
[0015]其中，高纯水的电子级范围大于16πιΩ，悬浮剂为AQ TTV研磨悬浮分散剂。研磨微粉可根据使用需求，采用多种微粉材料，研磨微粉可选择为一种微粉或若干种微粉材料配制而成，本实施例中，研磨微粉使用金刚石微粉。
[0016]如采用金刚石微粉30g、高纯水2500g、悬浮剂100g配制成研磨液,采用金刚石微粉33g、高纯水2600g、悬浮剂IlOg配制成研磨液，采用金刚石微粉31g、高纯水2550g、悬浮剂105g配制成研磨液等，配好后的研磨液呈乳白色粘稠液体。
[0017]金刚石微粉(或其他微粉)为磨削材料。悬浮剂AQ TTV (研磨悬浮分散剂)水白色、无味，通常是由有效成份、分散剂、增稠剂、抗沉淀剂、消泡剂、防冻剂和水等组成，可使金刚石微粉颗粒比较均匀地分散于水中，形成一种颗粒细小的高悬浮、能流动的稳定的液固态体系，润滑液主要作用是为了减少加工件与磨削材料之间的摩擦力，使加工过程能够流畅进行。
[0018]本发明主要利用微粉的物理机械作用磨削加工件，达到低成本加工目的。金刚石研磨是一种精密加工，加工环境要清洁，所用工具及设备必须专用，不能混用。根据不同的加工材料，可改变药液配 比去适应加工种类。金刚石研磨液是在研磨过程中磨料不间断的滚动，所产生挤压和切削作用，把凹凸不平的表面磨平。
【权利要求】
1.用于研磨抛光的研磨液，其特征在于，该研磨液的组分包括研磨微粉、高纯水和悬浮剂，按重量计，其中研磨微粉含量为30-33，高纯水含量为2500-2600，悬浮剂含量为.100-110。
2.如权利要求1所述的用于研磨抛光的研磨液，其特征在于，所述研磨微粉为微米级颗粒。
3.如权利要求1所述的用于研磨抛光的研磨液，其特征在于，所述研磨微粉为若干种微粉材料配制而成。
4.如权利要求2所述的用于研磨抛光的研磨液，其特征在于，所述研磨微粉为金刚石微粉。
5.如权利要求1所述的用于研磨抛光的研磨液，其特征在于，所述高纯水的电子级范围大于16m Ω。
6.如权利要求1所述的用于研磨抛光的研磨液，其特征在于，所述悬浮剂为AQTTV研磨悬浮分散剂。
7.如权利要求1所述的用于研磨抛光的研磨液，其特征在于，所述金刚石微粉含量为.30，高纯水为2500，悬浮剂为100。
【文档编号】C09G1/02GK103555207SQ201310568471
【公开日】2014年2月5日 申请日期:2013年11月15日 优先权日:2013年11月15日
【发明者】李 东 申请人:北京华进创威电子有限公司