一种取向膜涂布装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及显示【技术领域】，特别涉及一种取向膜涂布装置，其包括：机台；二流体生成器，所述二流体生成器设置在所述机台上，该二流体生成器包括液体进料管、压缩空气进气管、二流体形成腔和旋转喷头；所述液体进料管向所述二流体形成腔输入的取向膜溶液与所述压缩空气进气管向所述二流体形成腔输入的压缩空气在所述二流体形成腔混合并形成旋转的包含取向膜溶液的二流体，再通过所述旋转喷头进行喷涂；与所述二流体生成器配合使用的掩模板，该掩模板上设有遮挡区和开口区。本发明提供的取向膜涂布装置涂布的取向膜的膜厚可以得到精确的控制，结构简单，操作方便，能够提高取向膜涂布的效率，提高了产品的良品率和生产效率，降低了生产成本。
【专利说明】一种取向膜涂布装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】，特别涉及一种取向膜涂布装置。
【背景技术】
[0002]近年来，随着数字电视的普及，传统阴极射线显像管显示器由于其数字化困难，以及体积大，重量大，有辐射等缺点，已经出现了被新一代显示技术取代的趋势，代表性的新显示技术如有机发光二极管、液晶显示器等，其中液晶显示器由于具有重量轻、体积薄、无辐射、低耗电、显示效果好等优点已经开始大量的普及，成为主流产品。液晶面板的制造工艺有以下几个步骤:阵列基板，对盒，制作模组。其中对盒工艺又包括:印刷取向膜，摩擦取向，液晶注入(在一基板上涂布封框胶，在另一基板上滴液晶，将两张基板对盒)。
[0003]现用印刷取向膜的涂布技术是转印式涂布，主要存在的问题有:一是转印装置复杂、成本高，整个装置主要由点胶机、调节辊、传墨辊、安装APR印刷版的版胴以及APR印刷版等构成。其中，多数装置配件的价格昂贵且易于磨损。二是受限于APR版本身的制造工艺以及使用过程的不确定因素，使得取向膜的涂布过程难以实现定量控制，进而取向膜的均匀性存在偏差，尤其是取向膜的边缘区域范围，其精确度有待提高。三是转印式涂布前期的调试阶段时间长，需要大量的预转印进行调试，效率相对较低。
[0004]为了解决以上问题，本发明做了有益改进。
【发明内容】
[0005](一)要解决的技术问题
[0006]本发明的目的是克服了现有技术中的取向膜涂覆成本高、效率低，以及涂布均匀性差、膜厚不易控制等问题。
[0007](二)技术方案
[0008]本发明是通过以下技术方案实现的:一种取向膜涂布装置，其包括:机台；二流体生成器，所述二流体生成器设置在所述机台上，该二流体生成器包括液体进料管、压缩空气进气管、二流体形成腔和旋转喷头；所述液体进料管用于向所述二流体形成腔输入取向膜溶液，所述压缩空气进气管用于向所述二流体形成腔输入压缩空气，所述二流体形成腔用于混合所述取向膜溶液和压缩空气并形成旋转的包含有取向膜溶液的二流体，所述旋转喷头用于喷涂所述包含有取向膜溶液的二流体；
[0009]与所述二流体生成器配合使用的掩模板，该掩模板上设有遮挡区和开口区。进一步，所述液体进料管上设有液体流量计；所述压缩空气进气管上设有气压表。
[0010]具体地，所述机台上设有支撑轴；所述旋转喷头内设喷头腔体；所述二流体形成腔与所述喷头腔体以可相对转动的方式连通；所述旋转喷头以可绕所述支撑轴旋转的方式设置在所述支撑轴上。
[0011]进一步，所述支撑轴上设有对所述旋转喷头进行限位的螺母。
[0012]其中，所述旋转喷头内设有倾斜通道和与所述倾斜通道连接的喷嘴；所述喷头腔体内的二流体通过挤压所述倾斜通道使所述旋转喷头旋转，且通过所述倾斜通道和喷嘴进行喷涂。
[0013]进一步，所述旋转喷头沿周向均匀设置有多个喷嘴。
[0014]优选地，所述喷嘴采用线型喷嘴、菱型喷嘴或圆型喷嘴。
[0015]进一步，所述二流体生成器还包括液体清洗剂进料管，所述液体清洗剂进料管与所述二流体形成腔连通。
[0016]再进一步，所述机台上设有能够移动的滑轨，所述二流体生成器设置在所述滑轨上。
[0017]其中，所述掩模板的开口区厚度大于该掩模板的遮挡区厚度；所述遮挡区内设有用于存储二流体的凹槽。
[0018](三)有益效果
[0019]与现有技术和产品相比，本发明有如下优点:
[0020]本发明提供的取向膜喷涂装置将取向膜溶液与压缩空气形成二流体，然后通过旋转喷头和掩模板喷涂于基板上；二流体的旋转喷涂均匀性远高于目前的转印方式，且取向膜的膜厚可以得到精确的控制；该取向膜喷涂装置结构简单，操作方便，能够提高取向膜涂布的效率，提闻了广品的良品率和生广效率，降低了生广成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0021]图1是本发明的二流体生成器的结构图；
[0022]图2是本发明的掩模板结构图；
[0023]图3是本发明的掩模板与基板的贴合示意图；
[0024]图4是本发明的一种旋转喷头的结构示意图；
[0025]图5是本发明的另一种旋转喷头的结构示意图；
[0026]图6是本发明的另一种旋转喷头的结构示意图；
[0027]图7是本发明的掩模板的结构示意图。
[0028]附图中，各标号所代表的组件如下:
[0029]1-液体进料管；2_液体清洗剂进料管；3_压缩空气进气管；4_气压表；5_液体流量计；6_ 二流体形成腔；7_支撑轴；8_旋转喷头；81_倾斜通道；9_喷嘴；10_螺母；20_掩模板；201_遮挡区；202_开口区；203-凹槽；30_基板。
【具体实施方式】
[0030]下面结合附图对本发明的【具体实施方式】做一个详细的说明。
[0031]本实施例提供一种取向膜涂布装置，包括:机台(图中未显示)；二流体生成器设置在所述机台上，如图1所示，该二流体生成器包括液体进料管1、压缩空气进气管3、二流体形成腔6和旋转喷头8 ;所述液体进料管I向所述二流体形成腔6输入的取向膜溶液(如聚酰亚胺，Polyimide,以下简称PI液)与所述压缩空气进气管3向所述二流体形成腔6输入的压缩空气在所述二流体形成腔6混合并形成高速旋转的包含有PI液的二流体，再通过所述旋转喷头8进行喷涂。如图2所示，该取向膜涂布装置还包括与二流体生成器配合使用的掩模板20，该掩模板20上设有遮挡区201和开口区202。掩模板20的作用在于喷涂过程中，遮挡基板30上不需要喷涂的位置，其与基板30的设计相对应，附图3为掩模板20与基板3贴合后的示意图，上层为掩模板20，下层为基板30，掩模板20的开口区202即为基板30需要喷涂的区域。
[0032]取向膜涂布装置将需要喷涂的PI液体进行雾化处理。雾化是指通过喷嘴或用高速气流使液体分散成微小液滴的操作。PI液体经过二流体形成腔化成小滴，成雾状喷射出去。本发明中通过高速气流将PI液分散成小液滴，再经过喷嘴的高速旋转将其呈雾状喷射，对于PI液的粘度要求范围没那么严格，对于目前产线使用的PI液，本装置完全可以使用，即使比较粘稠的液体，可以通过加大压缩气体的压力以及减少PI液体的流量来应对。所述取向膜涂布装置通过二流体生成器将生成的旋转PI液二流体在掩模板的辅助作用下，通过旋转喷头的快速旋转作用下，喷涂在基板的指定位置上，形成一层厚度可控的均匀取向膜层。其中，喷涂取向膜的厚度可通过喷涂的时间来进行控制。
[0033]进一步，如图1所示，所述液体进料管I上设有液体流量计5 ;所述压缩空气进气管3上设有气压表4。液体流量计5方便控制通过液体进料管I进入的PI液的质量，气压表4能够计量压缩空气的气压。本发明可通过液体流量计5和气压表4来调节PI液二流体的转速及喷涂过程中的雾化效果。
[0034]其中，所述取向膜涂布装置还设有支撑轴7 ;所述旋转喷头8内设喷头腔体(图中未显示)；所述二流体形成腔6与所述喷头腔体以可相对转动的方式相连通；所述旋转喷头8以可绕所述支撑轴7旋转的方式设置在所述支撑轴7上。具体地，可在二流体形成腔6的一侧设有形成二流体出口，所述喷头腔体对应的一侧设有二流体入口，二流体入口与所述二流体出口扣接在一起，使所述二流体形成腔6与所述喷头腔体连通，并且以可相对转动的方式相连。进一步，所述支撑轴7上设有对所述旋转喷头8进行限位的螺母10，通过该螺母10可方便地实现旋转喷头8的更换。
[0035]进一步，所述旋转喷头8内设有倾斜通道81和与所述倾斜通道81连接的喷嘴9 ；所述喷头腔体内的PI液二流体通过所述倾斜通道81和喷嘴9进行喷涂，PI液二流体通过挤压所述倾斜通道81带动所述旋转喷头8旋转。为了能够实现二流体流经旋转喷头8进行旋转喷涂，将PI液二流体在旋转喷头8内部的流经途径设计为倾斜通道81，这样在PI液二流体的快速喷涂挤压下，旋转喷头8能够实现快速旋转，使得喷涂出的PI液的二流体更加均匀。
[0036]具体地，所述旋转喷头8沿周向均匀设置有多个喷嘴9。例如，在旋转喷头上设置9个喷嘴，均匀设置在该旋转喷头的周围。当然，喷嘴的形状以及数量可以根据实际需要进行设计。优选地，如图4、图5和图6所示，所述喷嘴9采用线型喷嘴、菱型喷嘴或圆型喷嘴。
[0037]其中，如图1所示，所述二流体生成器还包括液体清洗剂进料管2，所述液体清洗剂进料管2与所述二流体形成腔6连通。该取向膜涂布装置可通过液体清洗剂进料管2通入清洗剂进行清洗旋转喷头8，例如倾斜通道以及喷嘴，清洗完毕后，在正式喷涂前一定要进行润洗喷涂一段时间，以防清洗剂残留于旋转喷头内的倾斜通道以及喷嘴内部影响喷涂质量。
[0038]进一步，为了实现更好的喷涂效果，还可以将二流体生成器设置在可以自由移动定位的机台上。所述机台上设有能够自由移动的滑轨，所述二流体生成器设置在所述滑轨上，这样可以实现滑动喷涂。[0039]再进一步，如图7所示，掩模板20对应设置在所述基板30上方。所述掩模板20的开口区202厚度大于该掩模板20的遮挡区201厚度；所述遮挡区201内设有用于存储二流体的凹槽203。这样设计是为了将喷涂过程中喷涂于遮挡区的二流体存储在遮挡区201的凹槽203里，使其不会由于积累于掩模板20开口区202边缘而影响喷涂效果。
[0040]以上实施方式仅用于说明本发明，而并非对本发明的限制，有关【技术领域】的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，还可以做出各种变化和变型，因此所有等同的技术方案也属于本发明的范畴，本发明的专利保护范围应由权利要求限定。
【权利要求】
1.一种取向膜涂布装置，其特征在于，其包括: 机台； 二流体生成器，所述二流体生成器设置在所述机台上，该二流体生成器包括液体进料管、压缩空气进气管、二流体形成腔和旋转喷头；所述液体进料管用于向所述二流体形成腔输入取向膜溶液，所述压缩空气进气管用于向所述二流体形成腔输入压缩空气，所述二流体形成腔用于混合所述取向膜溶液和压缩空气并形成旋转的包含有取向膜溶液的二流体，所述旋转喷头用于喷涂所述包含有取向膜溶液的二流体； 与所述二流体生成器配合使用的掩模板，该掩模板上设有遮挡区和开口区。
2.根据权利要求1所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述液体进料管上设有液体流量计；所述压缩空气进气管上设有气压表。
3.根据权利要求1所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述机台上设有支撑轴；所述旋转喷头内设喷头腔体；所述二流体形成腔与所述喷头腔体以可相对转动的方式连通；所述旋转喷头以可绕所述支撑轴旋转的方式设置在所述支撑轴上。
4.根据权利要求3所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述支撑轴上设有对所述旋转喷头进行限位的螺母。
5.根据权利要求3所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述旋转喷头内设有倾斜通道和与所述倾斜通道连接的喷嘴；所述喷头腔体内的二流体可通过挤压所述倾斜通道使所述旋转喷头旋转，且通过所述倾斜通道和喷嘴进行喷涂。
6.根据权利要求5所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述旋转喷头沿周向均匀设置有多个喷嘴。
7.根据权利要求5所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述喷嘴采用线型喷嘴、菱型喷嘴或圆型喷嘴。
8.根据权利要求1所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述二流体生成器还包括液体清洗剂进料管，所述液体清洗剂进料管与所述二流体形成腔连通。
9.根据权利要求1?8任一项所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述机台上设有能够移动的滑轨，所述二流体生成器设置在所述滑轨上。
10.根据权利要求1?8任一项所述的取向膜涂布装置，其特征在于，所述掩模板的开口区厚度大于该掩模板的遮挡区厚度；所述遮挡区内设有用于存储二流体的凹槽。
【文档编号】B05B3/06GK103909039SQ201410114573
【公开日】2014年7月9日 申请日期:2014年3月25日 优先权日:2014年3月25日
【发明者】周永山, 赵承潭, 李京鹏, 林海云 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司