制造光学构件的方法

制造光学构件的方法
【专利摘要】本发明公开了一种制造光学构件的方法，所述方法包括在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层。所述方法还包括将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在所述片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层。
【专利说明】制造光学构件的方法

【技术领域】
[0001]本发明涉及一种制造光学构件的方法。

【背景技术】
[0002]将光学构件如接触传感器广泛用于液晶显示装置、有机EL(电致发光)显示装置、PDP (等离子体显示面板)、电子纸等。
[0003]这些光学构件中的一些具有印刷层。其实例包括电容式接触传感器。通常通过在保护玻璃上印刷(印刷层)并通过双面压敏胶粘片层压膜型传感器(膜传感器)而制造上述接触传感器(例如专利文献I)。
[0004]在接触传感器中，印刷层的用途是隐藏膜传感器的电极以及出于设计原因，且印刷层通常呈黑色。这是因为需要隐蔽性(对源自背光的光不透明的性质)。然而近来，设计有时需要浅色如白色。与常规的黑色印刷层相比，白色印刷层必须非常厚以实现与黑色印刷层中类似的隐蔽性，例如，白色印刷层的厚度需要是黑色印刷层的厚度的4~8倍。在印刷层厚的情况下，存在如下问题:由在相对薄的常规印刷层中不明显的印刷层的阶梯差(印刷阶梯差，printing step difference)造成的翅曲变得非常大且外观劣化。图10是显示其中使用厚印刷层如白色印刷层的常规的制造光学构件的方法的实例的示意图。如图10中所示，在其中将印刷层12设置在片状基材或平板状基材11的一个表面上并通过双面压敏胶粘片101层压诸如膜传感器的膜102的情况中产生翘曲部分103。
[0005]在接触传感器之外的光学构件中同样，由印刷阶梯差造成的翘曲有时大且外观劣化。
[0006]作为解决上述问题的技术，公开了使用液状树脂代替双面压敏胶粘片(例如专利文献2)。
[0007]专利文献1:日本特开2010-077287号公报
[0008]专利文献2:日本特开2012-117028号公报


【发明内容】

[0009]然而，上述液状树脂具有诸如液体渗漏并难以固化印刷阶梯差部分的问题。
[0010]因此，本发明的目的是提供一种制造光学构件的方法，所述光学构件不具有由印刷阶梯差造成的翘曲并具有优异的外观。或者，其目的是提供一种制造光学构件的方法，所述光学构件用于不具有由印刷阶梯差造成的翘曲并具有优异外观的光学构件。
[0011]作为为了解决上述问题而进行深入研究的结果，本发明人发现，通过包括如下的制造方法制造光学构件，可以得到不具有由印刷阶梯差造成的翘曲并具有优异外观的光学构件或者可以得到用于不具有由印刷阶梯差造成的翘曲并具有优异外观的光学构件的光学构件:在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层；和将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在所述基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层。由此本发明人完成了本发明。
[0012]本发明提供如下制造光学构件的方法。
[0013](I) 一种制造光学构件的方法，包括:
[0014]在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层；和
[0015]将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在所述片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层。
[0016](2)根据⑴的方法，其中所制造的光学构件的翘曲指数为O~0.5μπι，所述翘曲指数定义如下:
[0017]翘曲指数:当将具有100μπι厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜层压到所制造的光学构件的所述压敏胶粘剂层的表面时，测量所述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的与所述压敏胶粘剂层相反侧上的表面的表面粗糙度，计算所述表面粗糙度的最大值和最小值，并通过下式(A)确定所述翘曲指数。
[0018]翘曲指数(μ m)=(最大值)-(最小值)(A)
[0019]本发明一方面的制造光学构件的方法通过包括如下的方法能够提供即使在印刷阶梯差大的情况中仍不具有翘曲并具有优异外观的光学构件:在片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上形成特定的压敏胶粘剂层。另外，本发明一方面的制造光学构件的方法通过包括如下的方法能够提供用于即使在印刷阶梯差大的情况中仍不具有翘曲并具有优异外观的光学构件的光学构件:在片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上形成特定的压敏胶粘剂层。

【专利附图】

【附图说明】
[0020]图1是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的步骤(i)和步骤(ii)的实例的示意图。
[0021]图2是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的步骤(iii)的实例的示意图。
[0022]图3是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的步骤(iv)的实例的示意图。
[0023]图4是显示通过步骤(ii)得到的层压体(层压体(b))的实例的示意图。
[0024]图5是显示通过步骤(i)、步骤(ii)和步骤(iii)得到的层压体的实例的示意图。
[0025]图6是显示通过步骤⑴、步骤(ii)和步骤(iv)得到的层压体的实例的示意图。
[0026]图7是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的【具体实施方式】(I)的实例的示意图。
[0027]图8是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的【具体实施方式】(I)的实例的示意图。
[0028]图9是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的【具体实施方式】(2)的实例的示意图。
[0029]图10是显示常规的制造光学构件的方法的实例的示意图。

【具体实施方式】
[0030]本发明的一方面涉及一种制造光学构件的方法，至少包括:在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层的步骤；和将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在所述片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层的步骤。在本说明书中，“至少包括:在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层的步骤；和将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在所述片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层的步骤的制造光学构件的方法”有时称作“本发明的制造方法”。
[0031]在本说明书中，“在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层的步骤”有时称作“步骤(i)”。此外，“将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在所述片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层的步骤”有时称作“步骤(ii) ”。
[0032]本发明的制造方法可包括所述步骤(i)和步骤(ii)之外的其他步骤(下面有时将其称作“其他步骤”)。
[0033]图1是显示本发明制造方法中的步骤(i)和步骤(ii)的实例的示意图。首先在片状基材或平板状基材11的一个表面上形成印刷层12并由此制造层压体(a) 13。然后，在基材11的印刷层12侧的表面上形成本发明的压敏胶粘剂层14，并制造层压体(b)15。
[0034][步骤⑴]
[0035]步骤(i)是在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层的步骤。
[0036](片状基材或平板状基材)
[0037]所述片状基材或平板状基材是指具有片形状的基材或具有平板形状的基材。所述片状基材或平板状基材没有特别限制，从透明性考虑，其优选实例包括:玻璃基材如玻璃基板；和塑料基材如塑料基板或塑料膜。可以单独使用这些片状基材或平板状基材中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0038]塑料基材的材料没有特别限制，且其实例包括:聚酯类树脂如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET);丙烯酸类树脂如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA);聚碳酸酯；三乙酰基纤维素(TAC);聚砜；聚芳酯；聚酰亚胺；聚氯乙烯；聚乙酸乙烯酯；聚乙烯；聚丙烯；乙烯-丙烯共聚物；和环状烯烃类聚合物如商品名“ART0N”(环状烯烃类聚合物；由日本合成橡胶株式会社(JSR Corporat1n)制造)和商品名“ZE0N0R” (环状烯烃类聚合物；由日本瑞翁株式会社(ΖΕΟΝ CORPORAT1N)制造)。其中，从加工性和透明性考虑，优选PET、PMMA、聚碳酸酯和环状烯烃类聚合物。可单独使用基材的这些材料中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0039]所述片状基材没有特别限制且在作为上述片状基材或平板状基材例示的基材中优选塑料膜。此外，塑料膜的材料没有特别限制且在作为上述塑料基材的材料例示的材料中优选PET、聚碳酸酯或环状烯烃类聚合物。即，所述片状基材优选为PET膜、聚碳酸酯膜或环状烯烃类聚合物膜。可以单独使用这些基材中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。作为可商购获得的产品，例如能够使用非取向膜如商品名“ART0N”(由日本合成橡胶株式会社制造)和商品名“ZE0N0R” (由日本瑞翁株式会社制造)。
[0040]所述片状基材的厚度没有特别限制且优选为5 μ m~100 μ m。所述片状基材可具有单层形式或多层形式。另外，可以对所述片状基材的表面适当进行常规的表面处理如物理处理(电晕放电处理、等离子体处理等)或化学处理(底涂处理等)。
[0041]所述平板状基材没有特别限制且在作为上述片状基材或平板状基材例示的基材中优选玻璃基板和塑料基板。所述塑料基板的材料没有特别限制，且在作为上述塑料基材的材料例示的材料中优选PMMA和聚碳酸酯。即，作为所述平板状基材，优选玻璃基板、PMMA基板或聚碳酸酯基板。可以单独使用这些基材中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0042]所述平板状基材的厚度没有特别限制且优选为100 μ m~500 μ m。所述平板状基材可具有单层形式或多层形式。另外，可以对所述平板状基材的表面适当进行常规的表面处理如物理处理(电晕放电处理、等离子体处理等)或化学处理(底涂处理等)。
[0043]所述片状基材或平板状基材在可见光波长范围内的总透光率(根据JISK7361-1)没有特别限制，优选为85%以上且更优选88%以上。此外，所述基材的雾度(根据JISK7136)没有特别限制，优选为1.0%以下且更优选0.5%以下。
[0044](印刷层)
[0045]所述印刷层没有特别限制且能够使用常规印刷层。所述印刷层包含例如粘合剂树脂和彩色材料，但其没有特别限制。另外，如果需要，可以包含分散剂、交联剂、光聚合引发剂、感光剂等。
[0046]所述粘合剂树脂没有特别限制且其实例包括公知树脂(热塑性树脂、热固化性树月旨、光固化性树脂等)如聚氨酯类树脂、酚醛树脂、环氧类树脂、脲-三聚氰胺类树脂、聚硅氧烷类树脂、苯氧基树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚芳酯树脂、聚酯类树脂(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯等)、聚烯烃类树脂(例如聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物等)、聚苯乙烯类树脂(聚苯乙烯、苯乙烯-丙烯腈共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯树脂等)、聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙酸乙烯酯、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、纤维素(例如纤维素醋酸酯树脂、乙基纤维素树脂等)、聚缩醛等。可以单独使用这些粘合剂树脂中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0047]所述彩色材料没有特别限制且能够使用常规的颜料、染料等。其具体实例包括在日本特开2011-214010号公报中描述的白色材料、银色材料、黑色材料、青色材料、品红色材料、黄色材料等。可以单独使用这些彩色材料中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0048]所述印刷层可以具有单层形式或多层形式。尽管其没有特别限制，但从进一步提高隐蔽性考虑，优选多层形式。在印刷层具有多层形式的情况中，印刷层的层数为2以上且可以在2~10的范围内适当确定，并且所述层数优选为2~6。
[0049]所述印刷层的厚度没有特别限制，并优选为25~100 μ m,更优选35~90 μ m，进一步优选45~80 μ m。在所述印刷层的厚度为25 μ m以上的情况中，印刷阶梯差变得足够大且通过根据常规方法制造光学构件而产生的翘曲变大。因此，更有效的是采用本发明的制造方法以防止翘曲，这是本发明的目的。此外，在印刷成本方面，100μπι以下的印刷层厚度是有利的。
[0050](形成印刷层的方法)
[0051]在所述片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层的方法没有特别限制且能够使用常规的形成印刷层的方法。其具体实例包括:将用于形成所述印刷层的组合物涂布在所述基材的一个表面上，并根据需要干燥、热固化或利用活性能量射线固化的方法；使用各种印刷方法(凹版印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、凸版印刷法、丝网印刷法等)的方法；使用沉积法的方法等。可以单独实施这些形成方法中的一种或可以以组合方式使用其两种以上的方法。
[0052]除了所述粘合剂树脂和所述彩色材料之外，如果需要，用于形成所述印刷层的组合物可以还包含分散剂、交联剂、溶剂、光聚合引发剂、感光剂等。
[0053]在步骤(i)中，所述印刷层可以形成在所述基材一个表面的整个表面上或者可以在所述基材的一个表面上部分地形成。将所述印刷层在所述基材的一个表面上部分地形成的实施方式没有特别限制，且其实例包括:沿所述基材的边缘形成所述印刷层的实施方式(例如在所述基材为矩形的情况中如同框架的形式形成所述印刷层的实施方式)；在所述基材的一个表面上形成具有所述印刷层的设计图案的实施方式等。其中，从将其用于普通接触面板考虑，优选沿所述基材的边缘形成所述印刷层的实施方式。
[0054]通过所述步骤(i)制造具有[片状基材或平板状基材/印刷层]结构的层压体。所述层压体有时称作“层压体(a)”。
[0055][步骤(ii)]
[0056]步骤(ii)是在所述步骤⑴之后将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在所述片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层的步骤。在本说明书中，“选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂”有时称作“本发明的压敏胶粘剂”。所述步骤(ii)是将本发明的压敏胶粘剂涂布在先前步骤中制造的层压体(例如层压体(a))的所述印刷层侧的表面上，然后形成本发明的压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层的步骤。此外，“通过涂布本发明的压敏胶粘剂而形成的压敏胶粘剂层”，即“通过将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上而形成的压敏胶粘剂层”有时称作“本发明的压敏胶粘剂层”。
[0057](本发明的压敏胶粘剂)
[0058]本发明的压敏胶粘剂为选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂。所述“选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂”是指热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂两者、或者热熔压敏胶粘剂或活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的任一者。可以单独使用本发明压敏胶粘剂中的一种或可以以组合方式使用所述压敏胶粘剂的两种以上。如果所述压敏胶粘剂为选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂，则在涂布并形成压敏胶粘剂层的情况中减少的体积量小，由此即使印刷阶梯差大，在其后层压诸如膜传感器的膜的情况中仍可制造不具有翘曲并具有优异外观的光学构件。另一方面，如果所述压敏胶粘剂为溶剂型压敏胶粘剂，则由于因涂布和干燥而使得体积量大大减少，所以产生由大的印刷阶梯差造成的翘曲且外观劣化。
[0059]所述热熔压敏胶粘剂没有特别限制且能够使用常规压敏胶粘剂如橡胶类压敏胶粘剂、聚氨酯类压敏胶粘剂(例如丙烯酸聚氨酯类压敏胶粘剂)、丙烯酸类压敏胶粘剂、聚硅氧烷类压敏胶粘剂、聚酯类压敏胶粘剂、聚酰胺类压敏胶粘剂、环氧类压敏胶粘剂、乙烯基烷基醚类压敏胶粘剂或氟类压敏胶粘剂。其中，尤其优选橡胶类压敏胶粘剂和聚氨酯(丙烯酸聚氨酯)类压敏胶粘剂。另外，可以单独使用所述热熔压敏胶粘剂中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0060]作为所述橡胶类压敏胶粘剂，例如可例示包含天然橡胶或合成橡胶作为基础聚合物的橡胶类压敏胶粘剂。包含合成橡胶作为基础聚合物的橡胶类压敏胶粘剂的实例包括:苯乙烯类橡胶(也称作苯乙烯类弹性体)如苯乙烯-丁二烯(SB)橡胶、苯乙烯-异戊二烯
(SI)橡胶、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIS)橡胶、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)橡胶、苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEBS)橡胶、苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEPS)橡胶、苯乙烯-乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIPS)橡胶和苯乙烯-乙烯-丙烯嵌段共聚物(SEP)橡胶；聚异戊二烯橡胶；再生橡胶；丁基橡胶；聚异丁烯及其改性橡胶。其中，优选苯乙烯类弹性体压敏胶粘剂且更优选SIS和SBS0可以单独使用所述橡胶类压敏胶粘剂中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0061]所述活性能量射线固化性压敏胶粘剂没有特别限制且其实例包括包含天然橡胶或合成橡胶(例如聚异戊二烯橡胶、苯乙烯-丁二烯橡胶、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物橡胶、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物橡胶、再生橡胶、丁基橡胶和聚异丁烯)作为基础聚合物的橡胶类压敏胶粘剂；和包含使用一种或两种以上(甲基)丙烯酸烷基酯作为单体成分的丙烯酸类聚合物(单聚物或共聚物)作为基础聚合物的丙烯酸类压敏胶粘剂。其中，优选丙烯酸类压敏胶粘剂。
[0062]包含在所述丙烯酸类压敏胶粘剂中的丙烯酸类聚合物的含量没有特别限制，从臭气的观点考虑，优选为96~100重量％且更优选98~100重量％。
[0063]所述丙烯酸类聚合物没有特别限制且其优选实例包括由具有直链或支链烷基的(甲基)丙稀酸烷基酷和/或具有直链或支链烷基的(甲基)丙稀酸烷氧基烷基酷作为必要单体成分构成的丙烯酸类聚合物。所述“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸”和/或“甲基丙烯酸”(“丙烯酸”和“甲基丙烯酸”中的一者或两者)，且将相同的含义应用于下文中。
[0064]此外，构成所述丙烯酸类聚合物的单体成分没有特别限制，且可以包含含极性基团的单体、多官能单体或上述单体成分之外的可共聚单体(下面有时将其称作“其他可共聚单体”)。
[0065]所述具有直链或支链烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯(有时将其仅称作“(甲基)丙烯酸烷基酯”)没有特别限制且其实例包括其中烷基的碳原子数为I~20的(甲基)丙烯酸烷基酯如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯((甲基)丙烯酸正丁酯)、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙稀酸十TK烷基酷、(甲基)丙稀酸十七烷基酷、(甲基)丙稀酸十八烷基酷、(甲基)丙烯酸十九烷基酯和(甲基)丙烯酸二十烷基酯。可以单独使用这些(甲基)丙烯酸烷基酯中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。其中，优选丙烯酸-2-乙基己酯(2EHA)、丙烯酸异辛酯(1-OA)和丙烯酸丁酯(BA)。
[0066]所述(甲基)丙烯酸烷基酯和/或(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯的含量没有特别限制，且从压敏胶粘强度和应力松弛性质考虑，基于构成丙烯酸类聚合物的单体成分的总量(100重量％ )优选为50~98重量％且更优选50~95重量％。在将(甲基)丙烯酸烷基酯和(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯两者都用作单体成分的情况中，合适的是，(甲基)丙烯酸烷基酯的含量和(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯的含量的总量(总含量)满足上述范围。
[0067]所述含极性基团的单体没有特别限制且其实例包括:含羧基的单体(包括含酸酐基团的单体)如(甲基)丙烯酸；含羟基的单体如(甲基)丙烯酸羟基烷基酯(例如(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯和(甲基)丙烯酸-3-羟基丙酯)、乙烯醇和烯丙醇；含酰胺基的单体如(甲基)丙烯酰胺；含氨基的单体如(甲基)丙烯酸氨基乙酯；含环氧基的单体如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯；含氰基的单体如(甲基)丙烯腈；含杂环的乙烯基单体如N-乙烯基-2-吡咯烷酮；含磺酸基的单体如乙烯基磺酸钠；含磷酸基的单体如2-羟乙基丙烯酰基磷酸酯；含酰亚胺基的单体如环己基马来酰亚胺和异丙基马来酰亚胺；和含异氰酸酯基的单体如2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯。可以单独使用这些含极性基团的单体中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0068]所述多官能单体是指在一个分子中具有两个以上烯属不饱和基团的单体。所述烯属不饱和基团没有特别限制且其实例包括自由基聚合性官能团如乙烯基、丙烯基、异丙烯基、乙烯基酿基(乙烯基氧基)和稀丙基酿基(稀丙基氧基)。所述(甲基)丙稀酸烷基酯、(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯、含极性基团的单体和所述其他可共聚单体是在一个分子中仅具有一个烯属不饱和基团的单体(单官能单体)。
[0069]所述多官能单体没有特别限制且其实例包括二(甲基)丙烯酸己二醇酯、二(甲基)丙烯酸丁二醇酯、二(甲基)丙烯酸(聚)乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸(聚)丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和聚氨酯丙烯酸酯。可以单独使用所述多官能单体中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0070]所述其他可共聚单体没有特别限制且其实例包括所述(甲基)丙烯酸烷基酯、含极性基团的单体和多官能单体之外的(甲基)丙烯酸酯，例如含脂环族烃基的(甲基)丙烯酸酯如(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯和(甲基)丙烯酸异冰片酯，含芳族烃基的(甲基)丙烯酸酯如(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯和(甲基)丙烯酸苯甲酯；乙烯基酯如乙酸乙烯酯和丙酸乙烯酯；芳族乙烯基化合物如苯乙烯和乙烯基甲苯；烯烃或二烯如乙烯、丁二烯、异戊二烯和异丁烯；乙烯基醚如乙烯基烷基醚；以及氯乙烯。
[0071] 如果需要，本发明的压敏胶粘剂组合物可以包含常规添加剂如硅烷偶联剂、光聚合引发剂、交联剂(例如异氰酸酯类交联剂和环氧类交联剂)、交联促进剂、增粘树脂(例如松香衍生物、聚萜烯树脂、石油树脂和油溶性酚)、抗老化剂、填料、着色剂(例如颜料和染料)、紫外线吸收剂、抗氧化剂、链转移剂、增塑剂、软化剂、表面活性剂和抗静电剂，但其没有特别限制。
[0072]所述光聚合引发剂没有特别限制，且其实例包括苯偶姻醚类光聚合引发剂、苯乙酮类光聚合引发剂、α -酮醇类光聚合引发剂、芳族磺酰氯类光聚合引发剂、光活性肟类光聚合引发剂、苯偶姻类光聚合引发剂、苄基类光聚合引发剂、二苯甲酮类光聚合引发剂、缩酮类光聚合引发剂和噻吨酮类光聚合引发剂等。可以单独使用这些光聚合引发剂中的一种或可以以组合方式使用其两种以上。
[0073](形成本发明的压敏胶粘剂层的方法)
[0074]在其上涂布(涂覆)本发明的压敏胶粘剂并形成压敏胶粘剂层的所述基材的所述印刷层侧的表面，是指在将印刷层形成在基材的整个表面上的情况中印刷层的表面；也是指在将印刷层部分形成在基材的一个表面上的情况中未形成印刷层的基材表面和形成印刷层的印刷层表面。
[0075]本发明的形成压敏胶粘剂层的方法没有特别限制且能够使用常规的形成压敏胶粘剂层的方法。在本发明的压敏胶粘剂为热熔压敏胶粘剂的情况中，尽管其没有特别限制，但可通过加热以熔融状态涂布压敏胶粘剂，随后冷却，由此形成本发明的压敏胶粘剂层。
[0076]在本发明的压敏胶粘剂为活性能量射线固化性压敏胶粘剂的情况中，尽管其没有特别限制，但可涂布本发明的压敏胶粘剂，随后利用活性能量射线对压敏胶粘剂进行照射，由此形成本发明的压敏胶粘剂层。
[0077]在本发明的压敏胶粘剂为热熔和活性能量射线固化性压敏胶粘剂的情况中，压敏胶粘剂层可以通过上述热熔压敏胶粘剂的形成方法和上述活性能量射线固化性压敏胶粘剂的形成方法中的任一种来形成，或可以通过先后或同时采用两种形成方法来形成。
[0078]涂布本发明的压敏胶粘剂的方法没有特别限制且可以使用常规的涂布方法。其具体实例包括使用涂布装置(涂布机)如凹版式辊涂机、反转式辊涂机、辊式吻涂机、浸入式辊涂机、刮条涂布机、刮刀涂布机、喷涂机、逗号涂布机、直接涂布机、模池刮刀涂布机(fountain die coater)、T模涂布机、棍涂机和凹版式涂布机的涂布法。在本发明的压敏胶粘剂为热熔压敏胶粘剂的情况中，其中优选辊涂机或凹版式涂布机。另一方面，在本发明的压敏胶粘剂为活性能量射线固化性压敏胶粘剂的情况中，其中优选辊涂机或逗号涂布机。
[0079]活性能量射线的实例包括:电离性放射线如α -射线、β -射线、Υ -射线、中子射线和电子射线；以及紫外线。其中，优选紫外线。作为用于施加活性能量射线的装置(活性能量射线照射装置)，没有特别限制且能够使用常规活性能量射线照射装置。其实例包括紫外线产生用灯(UV灯)和ΕΒ(电子束)照射装置。作为UV灯，例如优选:高压放电灯如金属卤化物灯和高压汞灯；和低压放电灯如化学灯、黑光灯和捕虫用荧光灯。
[0080]用于形成本发明的压敏胶粘剂层的活性能量射线(尤其是紫外线)的照度没有特别限制，优选I~20mW/cm2且更优选I~15mW/cm2。在施加所述活性能量射线的情况中，可以将隔片(剥离衬垫)等层压到涂布的本发明压敏胶粘剂的表面上以隔绝氧气，但其没有特别限制。作为所述隔片，能够使用常规剥离纸等。所述隔片能够通过常规方法形成。此外，隔片的厚度等也没有特别限制。
[0081]通过涂布本发明的压敏胶粘剂而形成的压敏胶粘剂层的厚度没有特别限制，优选为10~200 μ m且更优选25~200 μ m。通过将厚度调节至10 μ m以上，胶粘可靠性优异。通过将厚度调节至200 μ m以下，能够降低总厚度。尽管本发明的压敏胶粘剂层的厚度没有特别限制，但所述压敏胶粘剂层优选比所述印刷层更厚。此处，本发明的压敏胶粘剂层的厚度是指压敏胶粘剂层最厚部分的厚度。即，在所述层压体(b)中将印刷层形成在基材的整个表面上的情况中，压敏胶粘剂层的厚度为压敏胶粘剂层的从印刷层的最外部到压敏胶粘剂层表面的厚度。另一方面，在所述层压体(b)中将印刷层在基材表面上部分地形成的情况中，其厚度为压敏胶粘剂层的从其上未形成印刷层的基材表面部分到压敏胶粘剂层表面的厚度。
[0082]本发明压敏胶粘剂层的凝胶分数没有特别限制，优选为80重量％ (% )以下(例如30~80重量％ )，更优选50 %~80重量％，进一步优选55~75重量％。通过将所述凝胶分数调节到80重量％以下，压敏胶粘剂层的柔性提高且变得易于将压敏胶粘剂层层压至光学构件。所述凝胶分数(溶剂不溶成分的比例)可作为乙酸乙酯中的不溶物质来确定。具体地，作为在23°C下将压敏胶粘剂层在乙酸乙酯中浸溃7天之后不溶成分的重量对浸溃之前压敏胶粘剂层的重量的比例来确定凝胶分数。
[0083]更具体地，例如，所述凝胶分数为通过如下“测量凝胶分数的方法”而计算的值。
[0084](测量凝胶分数的方法)
[0085]取样约0.1g本发明的压敏胶粘剂层，利用具有0.2 μ m平均孔径的多孔四氟乙烯片(商品名“NTF1122”，由日东电工株式会社(ΝΙΤΤ0 DENKO C0RP0TAT10N)制造)进行包裹，然后利用风筝线进行捆绑。测量其重量并将其称作浸溃之前的重量。浸溃之前的重量为本发明的压敏胶粘剂层(上述取样的压敏胶粘剂层)、四氟乙烯片和风筝线的总重量。此外，还测量了四氟乙烯片和风筝线的总重量并将其称作包裹重量。
[0086]然后，将包裹有四氟乙烯片并利用风筝线捆绑的本发明的压敏胶粘剂层(将其称作“样品”)引入装满乙酸乙酯的50mL的容器中并在23°C下静置7天。然后，将样品(在乙酸乙酯处理之后)从容器中取出并转移到铝杯，并通过在干燥机中于130°C下干燥2小时而除去乙酸乙酯。然后测量重量并将其称作浸溃之后的重量。
[0087]根据下式计算凝胶分数。
[0088]凝胶分数(重量％ ) = (A-B) / (C-B) X 100
[0089](在上式中，A为浸溃之后的重量，B为包裹重量且C为浸溃之前的重量。)
[0090]所述凝胶分数能够例如通过多官能单体的量(含量)来控制。
[0091]通过所述步骤(ii)，制造具有[片状基材或平板状基材/印刷层/本发明的压敏胶粘剂层]结构的层压体。所述层压体有时称作“层压体(b)”。所述层压体(b)没有特别限制且除了上述结构之外还可以包含其他层(例如中间层、底涂层和隔片)。通过使用所述层压体(b)，能够制造不具有由印刷阶梯差造成的翘曲且外观优异的光学构件。
[0092]所述层压体(b)(所述层压体(b)的压敏胶粘剂层表面)在23°C下对玻璃板的180°剥离压敏胶粘力(将其称作“压敏胶粘力(23°C)”)没有特别限制，并优选为5N/20mm以上且更优选7N/20mm以上(例如30N/20mm以下)。通过将压敏胶粘力(23°C )调节至5N/20mm以上，胶粘可靠性优异。通过在23°C下利用玻璃板作为被粘物进行180°剥离试验(根据JIS Z0237 (2000)，拉伸速度:300mm/分钟)能够测量压敏胶粘力(23 °C )。
[0093]所述层压体(b)的翘曲指数，即定义如下的所述层压体(b)的翘曲指数，没有特别限制，并优选为O~0.5 μ m,更优选O~0.3 μ m且进一步优选O~0.2 μ m。在翅曲指数为0.5 μ m以下的情况中，可以观察到图像无任何翘曲。
[0094]翘曲指数:当将具有100μπι厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜)层压在根据本发明的制造方法制造的光学构件的压敏胶粘剂层的表面时，测量所述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的与所述压敏胶粘剂层相反侧上的表面的表面粗糙度，计算表面粗糙度的最大值和最小值，并通过下式(A)确定翘曲指数。
[0095]翘曲指数(μ m)=(最大值)-(最小值)(A)
[0096][其他步骤]
[0097]作为所述其他步骤(步骤⑴和步骤(ii)之外的步骤)，没有特别限制且其实例包括:将各个构件设置在所述层压体(b)的两个表面上的步骤(有时将其称作“步骤(iii)”)；将构件设置在所述层压体(b)的一个表面上的步骤(有时将其称作“步骤(iv)”)；以及将构件设置在所述层压体(a)的与具有印刷层的侧相反侧上的基材表面上的步骤。其中，步骤(iii)或步骤(iv)是优选的。即，本发明的制造方法包括步骤(i)和步骤(ii)，包括步骤U)、步骤(ii)和步骤(iii)或包括步骤U)、步骤(ii)和步骤(iv)，但其没有特别限制。
[0098]所述步骤(iii)没有特别限制且其实例包括包含如下阶段的步骤:将构件(构件(I))层压到所述层压体(b)的本发明压敏胶粘剂层侧的表面的阶段；和通过本发明的所述压敏胶粘剂层之外的压敏胶粘剂层(其他压敏胶粘剂层)将构件(构件(II))层压到所述层压体(b)的所述片状基材或平板状基材侧的表面的阶段。
[0099]图2是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的步骤(iii)的实例的示意图。在层压体(b) 15的基材11的表面上形成其他压敏胶粘剂层21和构件(1)22且在本发明的压敏胶粘剂层14的表面
[0100]所述构件(构件⑴和构件(II))没有特别限制，且从透明性考虑，其优选实例包括:玻璃构件如玻璃基板；和塑料构件如塑料基板或塑料膜。其更优选实例包括:玻璃基板；或者使用PMMA、聚碳酸酯、PET或环状烯烃类聚合物作为原料的塑料基板或塑料膜。其进一步优选的实例包括玻璃基板、PET膜、聚碳酸酯膜、环状烯烃类聚合物膜、PMMA基板或聚碳酸酯基板。
[0101]所述构件⑴和构件(II)各自选自上述构件。所述构件⑴和构件(II)的组合没有特别限制，且其优选实例包括玻璃基板与塑料膜的组合，和塑料基板与塑料膜的组合，其更优选实例包括玻璃基板与PET膜的组合，和玻璃基板与环状烯烃类聚合物膜的组合。可以将所述构件⑴和构件(II)的位置互换。
[0102]所述构件的形式没有特别限制且其实例包括片、平板等。
[0103]所述构件没有特别限制且其实例包括偏光板、波板、延迟板、光学补偿膜、增亮膜、导光板、反射膜、抗反射膜、透明导电膜(例如ITO膜)、设计膜、装饰膜、表面保护膜、膜传感器、液晶显示装置、液晶面板、有机EL(电致发光)显示装置、rop(等离子体显示面板)和保护玻璃。
[0104]所述其他压敏胶粘剂层没有特别限制且能够使用常规压敏胶粘剂层。所述其他压敏胶粘剂层包括压敏胶粘片(压敏胶粘带)形式的含义。尽管其没有特别限制，但所述其他压敏胶粘剂层可以为本发明的压敏胶粘剂层或可商购获得的压敏胶粘片。
[0105]尽管其没有特别限制，但通过将压敏胶粘片层压到所述层压体(b)的基材表面或层压到所述构件，或通过将压敏胶粘剂涂布在所述层压体(b)的基材表面上或所述构件上并然后根据需要进行干燥和/或固化，可以形成所述其他压敏胶粘剂层。其中，从步骤简化考虑，优选通过将压敏胶粘片层压到所述层压体(b)的基材表面或层压到所述构件来形成所述其他压敏胶粘剂层。
[0106]所述其他压敏胶粘剂层的厚度没有特别限制，从模块设计考虑，优选为10~250 μ m且更优选50~200 μ m。
[0107]所述步骤(iv)没有特别限制且其实例包括将构件(构件(III))设置在所述层压体(b)的本发明的压敏胶粘剂层的表面上的步骤。
[0108]图3是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的步骤(iv)的实例的示意图。在层压体(b)15的本发明的压敏胶粘剂层14上形成构件(111)31，由此制造层压体32。
[0109]所述构件(III)没有特别限制，且能够使用例如作为所述构件⑴和构件(II)例示的构件。其中，从透明性考虑，其优选实例包括:玻璃构件或塑料构件；其更优选实例包括:玻璃基板；和使用PMMA、聚碳酸酯、PET或环状烯烃类聚合物作为原料的塑料基板或塑料膜；其进一步优选的实例包括玻璃基板、PET膜、聚碳酸酯膜、环状烯烃类聚合物膜、PMMA基板或聚碳酸酯基板。
[0110]图4是显示通过所述步骤(ii)制造的层压体(层压体(b))的实例的示意图。层压体(b) 15具有[片状基材或平板状基材11/印刷层12/本发明的压敏胶粘剂层14]的结构。
[0111]图5是显示通过所述步骤(i)、步骤(ii)和步骤(iii)制造的层压体的实例的示意图。所述层压体24具有如下结构:[构件(I) 22/其他压敏胶粘剂层21/片状基材或平板状基材11/印刷层12/本发明的压敏胶粘剂层14/构件(11)23]的结构；或[构件(II)/其他压敏胶粘剂层/片状基材或平板状基材/印刷层/本发明的压敏胶粘剂层/构件(I)]的结构，但该结构未示于图5中。所述层压体除了上述结构之外还可以包含其他层(例如中间层如印刷层、底涂层和隔片)，但其没有特别限制。
[0112]图6是显示通过所述步骤(i)、步骤(ii)和步骤(iv)制造的层压体的实例的示意图。所述层压体32具有[片状基材或平板状基材11/印刷层12/本发明的压敏胶粘剂层14/构件(111)31]的结构。所述层压体除了上述结构之外还可以包含其他层(例如中间层如印刷层、底涂层和隔片)，但其没有特别限制。
[0113]通过所述步骤(ii)得到的层压体(层压体(b))通过将构件层压到层压体(b)的两个或一个表面而能够用作光学构件如接触传感器的部件。可以将通过所述步骤(i)、步骤
(ii)和步骤(iii)得到的层压体与通过所述步骤(i)、步骤(ii)和步骤(iv)得到的层压体用作接触传感器。
[0114]下面将对上述实施方式中本发明一方面的制造方法的尤其优选的【具体实施方式】进行说明。
[0115][本发明的制造方法的【具体实施方式】(I)]
[0116]【具体实施方式】(I)是包括所述步骤(i)、步骤(ii)和步骤(iii)的制造光学构件的方法的实例。【具体实施方式】(I)是制造光学构件的方法的实例，所述方法包括:在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层的步骤(对应于步骤(i));将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的压敏胶粘剂涂布在所述基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的第一压敏胶粘剂层(对应于本发明的压敏胶粘剂层)的步骤(对应于步骤(ii));通过第二压敏胶粘剂层(对应于其他压敏胶粘剂层)将第一构件(对应于构件(I))层压到所述基材的与具有所述印刷层的侧相反侧的表面的步骤；以及将第二构件(对应于构件(II))层压到所述第一压敏胶粘剂层的步骤。
[0117]图7和图8是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的【具体实施方式】(I)的实例的示意图。在图7中，首先在片状基材或平板状基材11的一个表面上形成印刷层12。然后，在片状基材或平板状基材11的印刷层12侧的表面上形成第一压敏胶粘剂层71。接下来，在片状基材或平板状基材11的与形成了印刷层12的侧相反侧的表面上形成第二压敏胶粘剂层72。然后，将第一构件73层压到第二压敏胶粘剂层72并将第二构件74层压到第一压敏胶粘剂层71以由此制造层压体。另一方面，在图8中，首先在片状基材或平板状基材11的一个表面上形成印刷层12。然后，在片状基材或平板状基材11的印刷层12侧的表面上形成第一压敏胶粘剂层71。然后，将其中在第一构件73上形成了第二压敏胶粘剂层72的层压体81层压到片状基材或平板状基材11的与形成了印刷层12的侧相反侧的表面上，并将第二构件74层压到第一压敏胶粘剂层71以由此制造层压体。
[0118]【具体实施方式】(I)中的片状基材或平板状基材没有特别限制，且从加工性考虑，其优选实例包括塑料膜，其更优选实例包括PET膜、聚碳酸酯膜和环状烯烃类聚合物膜。
[0119]【具体实施方式】(I)中的片状基材或平板状基材的厚度没有特别限制且优选为5μπι~100μπι。所述基材可具有单层形式或多层形式。另外，可以对所述基材的表面适当进行常规的表面处理如物理处理(电晕放电处理、等离子体处理等)或化学处理(底涂处理等)。
[0120]第一构件和第二构件没有特别限制，从透明性考虑，其优选实例包括:玻璃构件和塑料构件。其更优选实例包括:玻璃基板；和使用ΡΜΜΑ、聚碳酸酯、PET或环状烯烃类聚合物作为原料的塑料基板或塑料膜。其进一步优选的实例包括玻璃基板、PET膜、聚碳酸酯膜、环状烯烃类聚合物膜、PMMA基板和聚碳酸酯基板。
[0121] 第一构件和第二构件各自选自上述构件。第一构件和第二构件的组合没有特别限制，其优选实例包括玻璃基板与塑料膜的组合，和塑料基板与塑料膜的组合，其更优选实例包括玻璃基板与环状烯烃类聚合物膜的组合。可以将第一构件和第二构件的位置互换。
[0122]第一构件和第二构件的形式没有特别限制且其实例包括片、平板等。
[0123]第一构件和第二构件没有特别限制且其实例包括偏光板、波板、延迟板、光学补偿膜、增亮膜、导光板、反射膜、抗反射膜、透明导电膜(例如ITO膜)、设计膜、装饰膜、表面保护膜、膜传感器、液晶显示装置、液晶面板、有机EL(电致发光)显示装置、PDP(等离子体显示面板)和保护玻璃。
[0124][本发明的制造方法的【具体实施方式】(2)]
[0125]【具体实施方式】(2)是包括所述步骤(i)、步骤(ii)和步骤(iv)的制造光学构件的方法的实例。【具体实施方式】(2)是制造光学构件的方法的实例，所述方法包括:在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层的步骤(对应于步骤(i));将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的压敏胶粘剂涂布在所述基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层的步骤(对应于步骤(ii));以及将构件(对应于构件(III))层压到所述压敏胶粘剂层的步骤(对应于步骤(iv))。
[0126]图9是显示本发明一方面的制造光学构件的方法的【具体实施方式】(2)的实例的示意图。首先在片状基材或平板状基材11的一个表面上形成印刷层12。然后，在片状基材或平板状基材11的印刷层12侧的表面上形成本发明的压敏胶粘剂层14。然后，将构件31层压到本发明的压敏胶粘剂层14，由此制造层压体。
[0127]【具体实施方式】(2)中的片状基材或平板状基材以及构件各自选自上述片状基材或平板状基材以及构件(III)。【具体实施方式】(2)中的片状基材或平板状基材与构件的组合没有特别限制且其优选实例包括玻璃基材与塑料膜的组合、以及塑料基板与塑料膜的组合。在【具体实施方式】(2)中可以将片状基材或平板状基材与构件的位置互换。
[0128](光学构件)
[0129]通过本发明一方面的制造方法制造的光学构件为具有光学性质(例如偏光性、光折射性、光散射性、光反射性、光透过性、光吸收性、光衍射性、旋光性和可视性)的构件。光学构件没有特别限制，只要其为具有光学性质的构件即可。其实例包括:构成诸如显示装置(图像显示装置)和输入装置的装置的构件；或用于这些装置的构件。其更具体的实例包括偏光板、波板、延迟板、光学补偿膜、增亮膜、导光板、反射膜、抗反射膜、透明导电膜(例如ITO膜)、设计膜、装饰膜、表面保护膜、棱镜、透镜、滤色器、透明基板以及其中层压这些构件的构件。上述“板”和“膜”各自包括诸如板形式、膜形式和片形式的形式的含义，例如，“偏光板”也包括“偏光膜”和“偏光片”的含义。
[0130]所述显示装置的实例包括液晶显示装置、有机EL(电致发光)显示装置、rop(等离子体显示面板)和电子纸。此外，所述输入装置的实例包括接触面板等。
[0131]通过本发明一方面的制造方法制造的光学构件没有特别限制且在上述构件中优选构成接触面板的构件或接触面板。
[0132]实施例
[0133]现在根据实施例对本发明进行更详细地说明。然而，这些实施例不应被解释为限制本发明的范围。
[0134]将根据实施例和比较例制造的光学构件的制造条件和评价结果示于表1中。
[0135](实施例1)
[0136](制备预聚物组合物)
[0137]向57重量份丙烯酸-2-乙基己酯(2EHA)、22重量份丙烯酸异冰片酯(IBXA)和21重量份丙烯酸-2-羟基乙基酯(HEA)的单体混合物中添加作为光聚合引发剂的0.05重量份商品名“IRGACURE184” (由汽巴精化株式会社(Ciba Specialty Chemicals Inc.)制造)和0.05重量份商品名“IRGA⑶RE651” (由汽巴精化株式会社制造)，然后使用黑光(由东芝株式会社(Toshiba Corporat1n)制造)利用紫外线以5.0mff/cm2的照度对混合物照射120秒，直至粘度(通过BH粘度计，5号转子，1rpm, 30°C测量温度测得)达到约20Pa.S。由此制备了其中单体成分发生部分聚合的预聚物组合物。
[0138](制备压敏胶粘剂)
[0139]向上述预聚物组合物(100重量份)中添加0.06重量份的六丙烯酸二季戊四醇酯(DPHA)(由日本化药株式会社(Nippon Kayaku C0.，Ltd.)制造，商品名“KAYARADDPHA-40H”)，制备了压敏胶粘剂(活性能量射线固化性压敏胶粘剂)。
[0140](制造光学构件)
[0141]使用具有25 μ m厚度的PET膜(PET#25)作为片状基材或平板状基材，通过丝网印刷法在PET#25上形成印刷层并由此制造出设计膜(印刷层的厚度:45μπι)。以使得压敏胶粘剂层的最终厚度变为100μπι的方式利用辊涂机将上述制备的压敏胶粘剂(活性能量射线固化性压敏胶粘剂)涂布在设计膜的印刷层侧的表面上，并将用于隔绝氧气的PET隔片(由三菱树脂株式会社(Mitsubishi Plastics, Inc.)制造,商品名“MRF38”)层压到压敏胶粘剂的表面以由此形成层压体。使用黑光(由东芝株式会社制造)利用紫外线(照度:5mff/cm2,照射时间:300秒)对层压体的PET隔片侧进行照射以将压敏胶粘剂固化，由此形成压敏胶粘剂层。然后，将PET隔片除去并通过在干燥机中于130°C下热处理2分钟而挥发残余的单体，由此制造层压体。以其中将PET隔片(由三菱树脂株式会社制造，商品名“MRF38”)层压到层压体的压敏胶粘剂层的表面的状态将制造的层压体作为层压体(bl)进行储存。
[0142]将上述制造的层压体(bl)的PET隔片除去并将压敏胶粘剂层的表面层压到玻璃。将粘附有压敏胶粘片(由日东电工株式会社制造，商品名“CS9622T”)的厚度为100μπ!的PET膜(PET#100)层压到层压体(bl)的PET#25。然后，通过在0.5MPa下于50°C下进行高压釜处理并持续15分钟，制造了光学构件。
[0143](实施例2)
[0144]除了将印刷层的厚度变为75 μ m之外，以与实施例1中相同的方法制造了层压体(b2)和光学构件。
[0145](实施例3)
[0146]除了以使得压敏胶粘剂层的最终厚度变为80 μ m的方式形成压敏胶粘剂层之外，以与实施例2中相同的方法制造了层压体(b3)和光学构件。
[0147](实施例4)
[0148]除了将具有50 μ m厚度的PET膜(PET#50)用作片状基材或平板状基材之外，以与实施例1中相同的方法制造了层压体(b4)和光学构件。
[0149](比较例I)
[0150](制造压敏胶粘片)
[0151]以使得压敏胶粘剂层的最终厚度变为100 μ m的方式利用辊涂机将实施例1中制备的压敏胶粘剂涂布在具有75 μ m厚度的PET隔片(由三菱树脂株式会社制造，商品名“MRF75”)上，并将用于隔绝氧气的PET隔片(由三菱树脂株式会社制造，商品名“MRF38”)层压到压敏胶粘剂的表面以由此形成层压体。使用黑光(由东芝株式会社制造)利用紫外线(照度:5mW/cm2，照射时间:300秒)对层压体的PET隔片(MRF38)侧进行照射以将压敏胶粘剂固化，由此形成压敏胶粘剂层。然后，将在一个表面上的PET隔片除去并通过在干燥机中于130°C下热处理2分钟而挥发残余的单体，从而制造无基材型压敏胶粘片(厚度:100 μ m)。将制造的压敏胶粘片层压到PET隔片(由三菱树脂株式会社制造，商品名“MRF38”)，由此形成压敏胶粘片(XI)。
[0152](制造光学构件)
[0153]使用具有400 μ m厚度的玻璃作为片状基材或平板状基材，通过丝网印刷法在玻璃上形成印刷层并制造出设计膜(印刷层的厚度:45 μ m)。在0.3MPa下将粘附有除去PET隔片之后的上述压敏胶粘片(Xl)的厚度为10ym的PET膜通过所述压敏胶粘片层压到设计玻璃的印刷层侧的表面。然后，通过在0.5MPa下于50°C下进行高压釜处理并持续15分钟，制造了光学构件(层压体(b5))。
[0154](比较例2)
[0155](制备预聚物组合物)
[0156]向单独的烧瓶中引入:作为单体成分的70重量份的丙烯酸-2-甲氧基乙酯、29重量份的丙烯酸-2-乙基己酯(2EHA)和I重量份的丙烯酸-4-羟基丁酯；作为光聚合引发剂的0.2重量份的2，2’ -偶氮二异丁腈；和作为聚合溶剂的100重量份的乙酸乙酯，并在引入氮气的同时将混合物搅拌I小时。在由此除去聚合体系中的氧之后，将温度升至63°C并进行反应10小时。通过添加甲苯，得到了具有25重量％固形分浓度的丙烯酸类聚合物溶液。在所述丙烯酸类聚合物溶液中丙烯酸类聚合物的重均分子量为1500000。
[0157](制备压敏胶粘剂)
[0158]向以固形分计为100重量份的丙烯酸类聚合物溶液中，添加0.7重量份的多官能异氰酸酯化合物(由日本聚氨酯工业株式会社(Nippon Polyurethane Industry C0.，Ltd.)制造，商品名“CORONATE HL”)以作为交联剂并制备了压敏胶粘剂(溶液聚合型压敏胶粘剂)。
[0159](制造光学构件)
[0160]使用具有25 μ m厚度的PET膜(PET#25)作为片状基材或平板状基材，通过丝网印刷法在PET#25上形成印刷层并制造出设计膜(印刷层的厚度:45 μ m)。以使得在热干燥之后压敏胶粘剂层的厚度变为10ym的方式利用辊涂机将上述制备的压敏胶粘剂(溶液聚合型压敏胶粘剂)涂布在设计膜的印刷层侧的表面上，并通过在130 V下热干燥3分钟而形成压敏胶粘剂层。在热干燥之后，将PET隔片(由三菱树脂株式会社制造，商品名“MRF38”)层压到压敏胶粘剂层的表面并在50°C下老化24小时以由此制造层压体(b6)。
[0161]将上述制造的层压体(b6)的PET隔片除去并将压敏胶粘剂层的表面层压到玻璃。将压敏胶粘片(由日东电工株式会社制造，商品名“CS9622T”)层压到层压体(b6)的PET#25并通过所述压敏胶粘片进一步层压厚度为100 μ m的PET膜(PET#100)。然后，通过在0.5MPa下于50°C下进行高压釜处理并持续15分钟，制造了光学构件。
[0162](评价)
[0163]通过如下测量方法或评价方法对实施例和比较例中得到的各光学构件的加工性、翘曲和翘曲指数进行测量或评价。
[0164](I)加工性
[0165]除了不形成印刷层、并且将压敏胶粘剂层或压敏胶粘片层压到隔片之外，以与各实施例和比较例中相同的方式制备光学构件，由此制造了评价样品。将样品固定在玻璃板上并利用NT切割机在lm/s的速率下进行切割。在切割之后瞬间以及在切割之后在40°C下储存24小时之后，对样品的切割表面进行观察并将隔片剥离，在如下标准下对加工性进行评价。
[0166]A:在切割之后瞬间以及在切IllJ之后在40 C下储存24小时之后两种情况下，压敏胶粘剂层都未从切割表面渗出且隔片可以剥离而无任何问题。
[0167]C:在切割之后瞬间以及在切割之后在40°C下储存24小时之后的两种或任一种情况下，在一定程度上发生压敏胶粘剂层的缺失且隔片不能平稳地剥离。
[0168](2)翅曲
[0169]以O~180°的角度对在实施例和比较例中得到的光学构件的片状基材或平板状基材的与压敏胶粘剂层相反侧上的最外表面进行视觉观察并利用如下标准对翘曲进行评价。
[0170]A:不存在翘曲。
[0171]C:存在翘曲。
[0172](3)翘曲指数
[0173]关于在实施例和比较例中得到的层压体(bl)~(b6)中的各层压体，如果已经在压敏胶粘剂层的表面上设置了任何隔片则将所述隔片除去，并将PET膜层压到层压体(bl)~(b6)的压敏胶粘剂层侧或压敏胶粘片侧。使用扫描轮廓仪(KLA Tencor P-15)对层压的PET膜侧(与片状基材或平板状基材侧相反的侧)的最外表面的表面粗糙度进行测量。计算所述表面粗糙度的max值(最大值)和min值(最小值)，并通过下式(A)确定所述翘曲指数。
[0174]翅曲指数(μm) = (max 值)-(min 值)(A)

【权利要求】
1.一种制造光学构件的方法，包括: 在片状基材或平板状基材的一个表面上形成印刷层；和 将选自热熔压敏胶粘剂和活性能量射线固化性压敏胶粘剂中的一种以上压敏胶粘剂涂布在所述片状基材或平板状基材的印刷层侧的表面上，形成所述压敏胶粘剂的压敏胶粘剂层。
2.根据权利要求1的方法，其中所制造的光学构件的翘曲指数为O~0.5 μ m，所述翘曲指数定义如下: 翘曲指数:当将具有100μm厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜层压到所制造的光学构件的所述压敏胶粘剂层的表面时，测量所述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的与所述压敏胶粘剂层相反侧上的表面的表面粗糙度，计算所述表面粗糙度的最大值和最小值，并通过下式(A)确定所述翘曲指数， 翘曲指数(Pm)=(最大值)_(最小值)(Α)。
【文档编号】C09J7/02GK104130722SQ201410181353
【公开日】2014年11月5日 申请日期:2014年4月30日 优先权日:2013年4月30日
【发明者】野中崇弘, 岸冈宏昭, 形见普史 申请人:日东电工株式会社