一种化学机械抛光液的制作方法

技术特征：

技术总结
本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈磨料颗粒、聚季铵盐及pH调节剂。本发明中的聚季铵盐可控制氧化硅的抛光速率，使得在高压下达到高的氧化硅抛光速率，在低压下实现低的氧化硅的抛光速率，从而取得较低碟形凹陷(dishing)。

技术研发人员：李守田;尹先升;贾长征;王雨春
受保护的技术使用者：安集微电子科技（上海）股份有限公司
技术研发日：2017.07.13
技术公布日：2019.01.22