具有气体导引装置的光罩盒的制作方法
【专利摘要】本发明是有关于一种具有气体导引装置的光罩盒，其装设有一气体导引装置，气体导引装置连通光罩盒的至少一进气孔，并具有对应光罩盒的一第一气体流动空间的一第一出气开口及对应光罩盒的一第二气体流动空间的一第二出气开口。当进气孔供应一高洁净气体至气体导引装置，高洁净气体流经气体导引装置，并由第一出气开口及第二出气开口分别流至第一气体流动空间及第二气体流动空间，以使高洁净气体均匀分布于第一气体流动空间及第二气体流动空间，并提升对光罩的清洁效率及有效保护光罩并避免光罩与空气接触，所以减少高洁净气体的使用量，进而提升高洁净气体的充填效率。
【专利说明】具有气体导引装置的光罩盒
【技术领域】
[0001]本发明是有关于一种光罩盒，特别是指一种具有气体导引装置的光罩盒。
【背景技术】
[0002]近代半导体科技发展迅速，其中光学微影技术扮演重要的角色，只要是关于图形定义，皆需仰赖光学微影技术。光学微影技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状可透光的光罩。利用曝光原理，则光源通过光罩投影至硅晶圆可曝光显示特定图案。由于任何附着于光罩上的尘埃颗粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影成像的质量劣化，用于产生图形的光罩必须保持绝对洁净，因此在一般的晶圆制程中，都提供无尘室的环境以避免空气中的颗粒污染。然而，目前的无尘室也无法达到绝对无尘的状态。
[0003]现代的半导体制程皆利用抗污染的光罩盒进行光罩的保存与运输，以使光罩保持洁净。光罩盒在半导体制程中用于存放光罩，以利光罩在机台之间的搬运与传送，并隔绝光罩与大气的接触，避免光罩被杂质污染而产生变化。因此，在先进的半导体厂中，通常会要求光罩盒的洁净度要符合机械标准接口(Standard Mechanical Interface ;SMIF),也就是说保持洁净度在Classl以下。故，为了使光罩盒的洁净度符合机械标准接口，主要透过于光罩盒中充入高洁净气体。
[0004]目前光罩盒的底部具有至少一进气孔，所以可从进气孔填充一高洁净气体至光罩盒内，而高洁净气体自然流动于光罩盒内，大部分高洁净气体流动于光罩与光罩盒的底部间的空间，少部分的高洁净气体流动至光罩与光罩盒的顶部间的空间，导致高洁净气体于光罩盒内分布不均匀，使高洁净气体对光罩的清洁效果不佳，如此必须持续填充高洁净气体至光罩盒内，直到光罩清洁干净为止，进而增加高洁净气体的使用量，并导致充气高洁净气体至光罩盒内的效率不佳。
[0005]有鉴于上述问题，本发明提供一种具有气体导引装置的光罩盒，其具有一气体导引装置，气体导引装置导引由光罩盒的进气孔进入的一高洁净气体均匀分布于光罩与光罩盒的顶部间的空间及光罩与光罩盒的底部间的空间，并改善上述问题。
【发明内容】
[0006]本发明的目的，在于提供一种具有气体导引装置的光罩盒，其具有至少一气体导引装置，气体导引装置导引由光罩盒的至少一进气孔进入的一高洁净气体均匀分布于光罩的上下空间，有效提升高洁净气体清洁光罩的效率，进而减少高洁净气体的使用量，并提升高洁净气体的充填效率。
[0007]本发明提供一种具有气体导引装置的光罩盒，其包含:一底座，其具有至少一进气孔；一盖体，其罩设于该底座，并与该底座间具有一容置空间，该容置空间容置一光罩，该光罩分隔该容置空间为一第一气体流动空间及一第二气体流动空间；以及至少一气体导引装置，其设置于该底座，该气体导引装置具有一第一气体导引流道、至少一第二气体导引流道、至少一第三气体导引流道、一第一出气开口及一第二出气开口，该第一气体导引流道与该进气孔相连通，该第二气体导引流道及该第三气体导引流道与该第一气体导引流道相连通，该第一出气开口与该第二气体导引流道相连通，该第二出气开口与该第三气体导引流道相连通，该第一出气开口对应该第一气体流动空间，该第二出气开口对应该第二气体流动空间；其中该第一出气开口的开口面积小于该第二出气开口的开口面积，以使该第一气体流动空间内的一高洁净气体的流量与该第二气体流动空间内的该高洁净气体的流量相同。
[0008]实施本发明产生的有益效果是:本发明的具有气体导引装置的光罩盒，于光罩盒内设置至少一气体导引装置，透过气体导引装置导引由进气孔所流入的高洁净气体均匀分布于光罩的上下空间，使高洁净气体可均匀地对光罩清洁，有效提升高洁净气体对光罩的清洁效率，以维持光罩盒于高洁度的状态，避免光罩与外界的空气接触，同时减少高洁净气体的使用量，有效提升高洁净气体的充填效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为本发明的第一实施例的光罩盒的外观图；
[0010]图2为本发明的第一实施例的光罩盒的组装图；
[0011]图3为本发明的第一实施例的光罩盒的剖面图；
[0012]图4A为本发明的第一实施例的气体导引装置的外观图；
[0013]图4B为本发明的第一实施例的气体导引装置的组装图；
[0014]图4C为本发明的图4A的A区域的局部放大图；
[0015]图5为本发明的第一实施例的光罩盒的使用状态图；
[0016]图6A为本发明的第二实施例的气体导引装置的外观图；
[0017]图6B为本发明的第二实施例的气体导引装置的组装图；
[0018]图7为本发明的第二实施例的光罩盒的使用状态图；
[0019]图8A为本发明的第三实施例的光罩盒的仰视图；
[0020]图8B为本发明的图8A的B区域的局部放大图；以及
[0021]图8C为本发明的第三实施例的锁扣件的示意图。
[0022]【图号对照说明】
[0023]I 光罩盒10 底座
[0024]10a第一侧边10b第二侧边
[0025]101第一表面102第二表面
[0026]104闩孔11 容置空间
[0027]111第一气体流动空间 112第二气体流动空间
[0028]12 盖体121底面
[0029]122锁扣件1221锁扣部
[0030]1222转动臂1223滚轮
[0031]123 安装槽1231 缺口
[0032]13 定位件14 进气孔
[0033]141充气阀15 出气孔
[0034]17 连接件18 限制件
[0035]181座体182限制挡片
[0036]2 光罩21 上表面
[0037]22 下表面3 气体导引装置
[0038]31 导引座体31a第一本体
[0039]311a 第一端312a 第二端
[0040]313a第一表面314a第二表面
[0041]315a贯孔316a第一容置槽
[0042]31b第二本体311b第一端
[0043]312b 第二端313b 第一表面
[0044]314b第二表面316b第二容置槽
[0045]317b支撑凸部32 覆盖体
[0046]32a第一覆盖部321a第一凹槽
[0047]323a支撑柱32b第二覆盖部
[0048]321b第二凹槽321c第三凹槽
[0049]322a第一出气开口322b第二出气开口
[0050]33a第一气体导引流道 33b第二气体导引流道
[0051]33c第三气体导引流道 4 高洁净气体
【具体实施方式】
[0052]为了使本发明的结构特征及所达成的功效有更进一步的了解与认识，特用较佳的实施例及配合详细的说明，说明如下:
[0053]习知光罩盒的底座具有至少一进气孔，所以可透过进气孔填充一高洁净气体至光罩盒内，而高洁净气体从光罩盒的底座流入光罩盒内，大部分高洁净气体自然流动于光罩盒的底座与容置于光罩盒的一光罩间的空间，少部分的高洁净气体流动至光罩与光罩盒的一盖体间的空间，导致高洁净气体于光罩盒内分布不均匀，使高洁净气体对光罩的清洁效果不佳，甚至高洁净气体无法完全阻隔外界空气与光罩的接触，如此必须持续填充高洁净气体至光罩盒内，直到光罩清洁干净为止，进而增加高洁净气体的使用量，而未能有效率对光罩盒进行高洁净气体填充。
[0054]有鉴于上述问题，本发明提供一种具有气体导引装置的光罩盒，其透过气体导引装置导引高洁净气体均匀分布于光罩与光罩盒的盖体间的空间及光罩与光罩盒的底座间的空间，以提升高洁净气体清洁光罩的效率，并减少外界的空气与光罩接触的机会，如此不但降低高洁净气体的使用量，同时也提升高洁净气体的充填效率。
[0055]请参阅图1、图2及图3，其是本发明的第一实施例的光罩盒的外观图、组装图及剖面图；如图所不，本实施例提供一种光罩盒I，光罩盒I包含一底座10及一盖体12,盖体12罩设于底座10，并与底座10间具有一容置空间11，容置空间11用以容置一光罩2，而底座10具有相对的二第一侧边10a及相对的二第二侧边100b。底座10朝向容置空间11的一第一表面101设有二定位件13，二定位件13相对设置并分别邻近于底座10的二第一侧边10a0底座10具有二进气孔14,每一进气孔14从底座10朝向光罩盒I外部的一第二表面102贯穿至底座10的第一表面101，而本实施例的二进气孔14邻近二第二侧边10b之一者(如图3中底座10右侧的第二侧边100b)，每一进气孔14内更设有一充气阀141。当光罩2设置于光罩盒I的底座10时,光罩2从二第二侧边10b之一者移动至另一第二侧边10b (即以图3为例，从底座10的左侧移动至右侧)，并设置于二定位件13，二定位件13顶持光罩2,并防止光罩2于二第一侧边10a之间产生位移。然后盖体12罩设于底座10,使光罩2位于容置空间11内。接着透过二进气孔14充入一高洁净气体，充气阀141过滤高洁净气体，并让高洁净气体流入容置空间11，高洁净气体清洁位于容置空间11内的光罩2及阻隔光罩2与外界的空气接触。
[0056]当光罩2设置于容置空间11内时，光罩2将容置空间11划分成一第一气体流动空间111及一第二气体流动空间112，第一气体流动空间111指光罩2的一下表面22与底座10间的空间，第二气体流动空间112指光罩2的一上表面21与盖体12间的空间。为了使第一气体流动空间111及第二气体流动空间112的高洁净气体的流量相同，本实施例的光罩盒I主要设有二气体导引装置3，每一气体导引装置3设置于底座10，并位于二定位件13之间，且邻近底座10的二第二侧边10b之一者。每一气体导引装置3覆盖于对应的进气孔14的上方，以与对应的进气孔14连通，每一气体导引装置3导引由进气孔14进入的高洁净气体流动至第一气体流动空间111及第二气体流动空间112，以使第一气体流动空间111及第二气体流动空间112内的气体流量相同。
[0057]下述详细说明本实施例的气体导引装置3的细部结构。请一并参阅图4A至图4C图，其是本发明的第一实施例的气体导引装置的外观图、组装图及图4A的A区遇的局部放大图；如图所示，本实施例的气体导引装置3包含一导引座体31及一覆盖体32，导引座体31呈L字型，并具有一第一本体31a及一第二本体31b。当导引座体31设置于底座10的第一表面101时，第一本体31a设置于底座10的第一表面101，并具有一第一端311a及一第二端312a,第一端311a位于对应的进气孔14的上方,第二端312a邻近底座10的第二侧边10b ;第二本体31b亦具有一第一端311b及一第二端312b,第二本体31b的第一端311b设置于第一本体31a的第二端312a，而第二本体31b的第二端311b往远离底座10的方向延伸，第二本体31b垂直于第一本体31a，以形成L字形的导引座体31。
[0058]第一本体31a具有一第一表面313a及相对于第一表面313a的一第二表面314a,第一表面313a远离底座10的第一表面101，第二表面314a与底座10的第一表面101接触。第一本体31a的第一端311a具有一贯孔315a,贯孔315a贯穿第一本体31a的第一表面313a及第二表面314a，并对应进气孔14，即与进气孔14相连通。第一本体31a的第一表面313a具有一第一容置槽316a，第一容置槽316a的一端与贯孔315a相连通，其另一端往第二本体31b延伸。第二本体31b亦具有一第一表面313b及相对于第一表面313b的一第二表面314b，第一表面313b朝向底座10的内部，并具有一第二容置槽316b。第二容置槽316b从第二本体31b的第一端311b往第二本体31b的第二端312b延伸，并与第一容置槽316a相连通。本实施例的第一本体31a与第二本体31b可为一体成型，于此不再赘述。
[0059]覆盖体32覆盖于导引座体31，所以覆盖体32与导引座体31—样呈L字型。覆盖体32具有一第一覆盖部32a及一第二覆盖部32b,第一覆盖部32a设置于第一本体31a,与第一本体31a的第一表面313a接触的第一覆盖部32a的表面具有一第一凹槽321a，本实施例的第一凹槽321a完全覆盖第一本体31a的贯孔315a及第一容置槽316a，即第一凹槽321a的形状符合贯孔315a与第一容置槽316a所构成的形状，然第一凹槽321a与贯孔315a及第一容置槽316a之间形成一第一气体导引流道33a。
[0060]第二覆盖部32b完全容置于第二容置槽316b内，与第二本体31b接触的第二覆盖部32b的表面具有至少一第二凹槽321b及至少一第三凹槽321c，第二凹槽321b及第三凹槽321c与第一凹槽321a相连通。未与第二本体31b接触的第二覆盖部32b的表面具有一第一出气开口 322a及一第二出气开口 322b，第一出气开口 322a对应第一气体流动空间111，而第二出气开口 322b位于第一出气开口 322a的上方，并对应第二气体流动空间112 (请参阅图3)。第一出气开口 322a与第二凹槽321b相连通，第二出气开口 322b与第三凹槽321c相连通。当第二覆盖部32b容置于第二本体31b的第二容置槽316b内时，第二凹槽321b及第三凹槽321c与第二容置槽316b间分别形成至少一第二气体导引流道33b及至少一第三气体导引流道33c，第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c分别与第一气体导引流道33a相连通，另分别与第一气体出口 322a及第二气体出口 322b相连通。
[0061]再一并参阅图5，其是本发明的第一实施例的光罩盒的使用状态图；如图所示，当从光罩盒I的二进气孔14填充高洁净气体4时，高洁净气体4从进气孔14进入并流动至对应的气体导引装置3的第一气体导引流道33a。然，高洁净气体4从第一气体导引流道33a分别流入第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c。最后流入第二气体导引流道33b的高洁净气体4从第一出气开口 322a流至第一气体流动空间111 ;同时地，流入第三气体导引流道33c的高洁净气体4从第二出气开口 322b流至第二气体流动空间112。
[0062]本实施例的第一出气开口 322a的开口面积小于第二出气开口 322b的开口面积，于气体流速及气体流动至第一出气开口 322a及第二出气开口 322b的距离相同下，从第一出气开口 322a流入第一气体流动空间111的高洁净气体4的瞬间流量小于从第二出气开口 322b进入第二气体流动空间112的高洁净气体4的瞬间流量。另外，本实施例的第二气体导引流道33b的长度小于第三气体导引流道33c的长度,若第一出气开口 322a的开口面积等于第二出气开口 322b的开口面积，于相同的气体流速及相同时间下，高洁净气体4从第一出气开口 322a进入第一气体流动空间111的流量多于高洁净气体4从第二出气开口322b进入第二气体流动空间112的流量。
[0063]由上述可知，本实施例的第一出气开口 322a的开口面积小于第二出气开口 322b的开口面积，与第二气体导引流道33b的长度小于第三气体导引流道33c的长度等条件搭配下，即将上述两种情况的结果综合，使从第一出气开口 322a流至第一气体流动空间111内的高洁净气体4的流量与从第二出气开口 322b流至第二气体流动空间112内的高洁净气体4的流量一致，让高洁净气体4均匀地清洁光罩2的各部位，以提升高洁净气体4对光罩2的清洁效率，当缩短对光罩2的清洁时间时，也同时减少高洁净气体4的供应时间，进而减少高洁净气体4的使用量，即表示透过气体导引装置3可有效率地充填高洁净气体4至光罩盒I内。
[0064]然而，本实施例的第一出气开口 332a及第二出气开口 332b分别为狭长的一矩形孔，使高洁净气体4从第一出气开口 332a及第二出气开口 332b流至第一气体流动空间111及第二气体流动空间112的气压增加，以使高洁净气体4喷射于第一气体流动空间111及第二气体流动空间112，并使高洁净气体4快速地流动至第一气体流动空间111及第二气体流动空间112，而且第一出气开口 332a及第二出气开口 322b为狭长的矩形孔，从第一出气开口 332a及第二出气开口 322b流出的高洁净气体4可大面积的分布于第一气体流动空间Ill及第二气体流动空间112，进而有效提升充填高洁净气体4至光罩盒I的效率。
[0065]同时，光罩盒I的底座10更包含至少一出气孔15，出气孔15相对于二进气孔14，出气孔15邻近另一第二侧边10b (以图5为例，即位于底座10的左侧)。当光罩2设置于底座10时，二进气孔14与出气孔15位于光罩2的两侧，使从二进气孔14进入的高洁净气体4通过二气体导引装置3导引至第一气体流动空间111及第二气体流动空间112，高洁净气体4从第一气体流动空间111及第二气体流动空间112的一端流动至其另一端，即高洁净气体4通过光罩2的一上表面21及一下表面22。当高洁净气体4通过光罩2时，高洁净气体4与光罩2的残留物混合，而含有残留物的高洁净气体4流动至出气孔15，并从出气孔15排出，以有效保持光罩盒I内维持高洁度。
[0066]然而,第一本体31a的第一端311a位于对应的进气孔14的上方,第一本体31a的贯孔315a对应进气孔14，贯孔315a的孔径须大于或等于进气孔14的孔径。从进气孔14流入的高洁净气体4可完全流入贯孔315a，而高洁净气体4完全流入第一气体导引流道33a，然高洁净气体4沿第一气体导引流道33a进入第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c，并从与第二气体导引流道33b的第一出气开口 322a及与第三气体导引流道33c的第二出气开口 322b分别流入第一气体流动空间111及第二气体流动空间112，如此避免高洁净气体4的流失，更减少高洁净气体4的使用量，并提升高洁净气体4填充至光罩盒I内的效率。
[0067]此外，设置于第一本体31a的第一覆盖部32a的第一凹槽321a对应进气孔14的侧壁呈圆弧形。当高洁净气体4从进气孔14进入气体导引装置3时，高洁净气体4呈发散状并自由流动于第一气体导引流道33a，即部分的高洁净气体4往第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c流动，部分的高洁净气体4接触到呈圆弧形的侧壁，高洁净气体4将沿着圆弧形的侧壁流动，并使高洁净气体4改往第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c流动，如此导引高洁净气体4的流动，并确使从进气孔14流入的高洁净气体4完全地提供至光罩盒I内，也可减少高洁净气体4的使用量，并提升高洁净气体4填充至光罩盒I内的效率。
[0068]然本实施例的光罩盒I更包含一连接件17，连接件17的两端分别连接每一气体导引装置3的第一本体31a，使二第一本体31a透过连接件17的连接而形成单一组件，如此可同时装设二气体导引装置3的二第一本体31a于底座10的第一表面101。然连接件17可与二第一本体31a —体成形，如此减少零件数量，有效简化组装程序。本实施例的气体导引装置3又具有定位光罩2于光罩盒I内并防止光罩2脱离二定位件13的功能，当光罩2设置于底座10的二定位件13时，而每一气体导引装置3的第二本体31b的第一表面311b抵接于光罩2的侧边，如此防止光罩2因光罩盒I于运送过程中所产生的震动或晃动而于光罩盒I内产生位移，所以将习知光罩盒I用于抵接光罩2的侧边的限制件更换为本实施例的气体导引装置3，而本实施例的气体导引装置3可视为具有气体导引功能的限制件。
[0069]然本实施例的覆盖体32使用软性材质，因此第二覆盖部32b的厚度小于或等于第二本体31b的第二容置槽316b的高度，即设有第一出气开口 322a及第二出气开口 322b的第二覆盖部32b的表面低于第二本体31b的第一表面311b。当光罩2设置于光罩盒I内时，光罩2的侧边抵接于第二本体31b的第一表面311b，第二本体31b的第一表面311b支撑光罩2,使光罩2未压缩第二覆盖部32b与第二本体31b间的第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c，以使高洁净气体顺畅地流动于第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c。同时，本实施例的第一覆盖部32a也具有一支撑柱323a，支撑柱323a设置于第一凹槽321a内，并对应进气孔14内的充气阀141。当第一覆盖部32a安装于第一本体31a时，支撑柱323a抵接于充气阀141的表面，并未覆盖进气孔14，如此维持第一覆盖部32a与第一本体31a间所形成的第一气体导引流道33a的空间，使高洁净气体也可顺畅地流动于第一气体导引流道33a。
[0070]请参阅图6A至图6B，其是本发明的第二实施例的气体导引装置的外观图及组装图；如图所示，本实施例与上述实施例不同在于，上述实施例的光罩盒I具有二气体导引装置3，每一气体导引装置3对应一个进气孔14，而本实施例的光罩盒I仅设置一个气体导引装置3，此气体导引装置3同时对应二进气孔14。因本实施例的气体导引装置3必须同时对应二进气孔14，所以导引本体31及覆盖体32的结构与上述实施例不同。
[0071]本实施例的导引本体31的第一本体31a具有二贯孔315a，二贯孔315a分别对应二进气孔14。第一本体31a的第一表面313a具有呈T字型的第一容置槽316a，第一容置槽316a与二贯孔315a相连通。然覆盖体32的第一覆盖部32a亦具有与第一容置槽316a及二贯孔315a相对应的第一凹槽321a。请一并参阅图7，当覆盖体32设置于导引本体31时，第一覆盖部32a设置于第一本体31a,第一凹槽321a对应二贯孔315a及第一容置槽316a,并与二贯孔315a及第一容置槽316a间形成第一气体导引流道33a。第一气体导引流道33a与第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c相连通。本实施例的气体导引装置3与上述实施例的气体导引装置3的差异在于结构不同，其功能完全相同，于此不再赘述。
[0072]本实施例的气体导引装置3更包含二限制件18，二限制件18包含一座体181及一限制挡片182，限制挡片182设置于座体181上。二限制件18设置于第一本体31a上，即每一限制件18的座体181设置于第一本体31a，二限制件18分别位于导引本体31的第二本体31b的两侧。当光罩2设置于光罩盒I内时，每一限制挡片182抵接于光罩2的侧边，以避免光罩2于光罩盒I内产生位移。然本实施例的二限制挡片182至邻近的第二侧边10b的距离大于第二覆盖部32b至邻近的第二侧边10b的距离，及第二覆盖部32b较二限制挡片182靠近第二侧边100b，如此使光罩2不会直接抵接于第二覆盖部32b，以避免第二覆盖部32b往第二本体31b压缩，而缩小第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c的空间，使高洁净气体顺畅地流动于第二气体导引流道33b及第三气体导引流道33c。
[0073]同时地，因第二覆盖部32b的第二凹槽321b及第三凹槽321c的面积较大，即第二覆盖部32b的中空区域较多，所以可于第二本体31b的第二容置槽316b内设置至少一支撑凸部317b，支撑凸部317b对应第二覆盖部32b的第二凹槽321b，并支撑第二凹槽321b，以维持第二凹槽321b与第二本体31b间所形成的第二气体导引流道33b的空间，使高洁净气体可顺畅地流动于第二气体导引流道33b内。本实施例与上述实施例一样于第一覆盖部31a也有设置支撑柱322a，于此不再赘述。
[0074]请参阅图8A至图SC，其是本发明的第三实施例的光罩盒的仰视图、图8A的B区域的局部放大图及锁扣件的示意图；如图所示，本实施例的光罩盒I与上述实施例的光罩盒不同在于，光罩盒I的盖体12的底面121更设有复数锁扣件122，而底座10的第二表面102设有复数闩孔104，该些闩孔104对应该些锁扣件122。当盖体12设置于底座10时，该些锁扣件122扣设于底座10的该些闩孔104，使该些锁扣件122夹持于底座10，以固定盖体12于底座10。
[0075]每一锁扣件122具有一锁扣部1221及一转动臂1222，转动臂1222的一端连接锁扣部1221，转动臂1222枢接于对应的盖体12的一安装槽123内，安装槽123具有至少一缺口 1231，缺口 1231对应底座10的闩孔104，并供锁扣部1221设置。当盖体12设置于底座10时，锁扣部1221先往盖体12的外侧移动，并带动转动臂1222转动，然后盖体12设置于底座10，同时释放锁扣部1221，转动臂1222带动锁扣部1221往对应的闩孔104移动而使锁扣部1221扣设闩孔104内。当盖体12脱离底座10时，亦先带动锁扣部1221往盖体12的外侧移动并脱离闩孔104，使底座10脱离盖体12，的后释放锁扣部1221，转动臂1222带动锁扣部1221回复至原始位直。
[0076]本实施例中，每一锁扣部1221与闩孔104接触的表面更具有一滚轮1223，当锁扣部1221扣设于对应的闩孔104时，滚轮1223随着锁扣部1221的移动而滚动，滚轮1223与闩孔104的侧壁接触并滚入对应的闩孔104内。本实施例的每一锁扣件122的锁扣部1221透过滚轮1223的设置而减少与对应的闩孔104间的接触面积，进而减少锁扣部1221与闩孔104间的摩擦力，并使锁扣部1221可顺畅地进入或退出闩孔104。
[0077]本实施例的闩孔104与滚轮1223接触的表面更设有至少一导引凸部1041，导引凸部1041与滚轮1223接触的表面为一斜面，如此更减少滚轮1223与闩孔104间的接触面积，有效减少滚轮1223与闩孔104间的摩擦力，使锁扣部1221更顺畅地进入或退出闩孔104，并增加该些锁扣件122的该些锁扣部1221对底座10的夹持力，使盖体12稳固地固定于底座10上，有效提升盖体12与底座10间的气密性。
[0078]由上述可知，本发明提供一种具有气体导引装置的光罩盒，于光罩盒内设置至少一气体导引装置，透过气体导引装置导引由进气孔所流入的高洁净气体均匀分布于光罩的上下空间，使高洁净气体可均匀地对光罩清洁，有效提升高洁净气体对光罩的清洁效率，以维持光罩盒于高洁度的状态，避免光罩与外界的空气接触，同时减少高洁净气体的使用量，有效提升高洁净气体的充填效率。且本发明的气体导引装置具有防止光罩于光罩盒内产生位移的功效。另外本发明的光罩盒的锁扣件具有滚轮，以减少锁扣件与对应的闩孔间的摩擦，使锁扣件可顺畅地进出闩孔。
[0079]上文仅为本发明的较佳实施例而已，并非用来限定本发明实施的范围，凡依本发明权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本发明的权利要求范围内。
【权利要求】
1.一种具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其包含: 一底座，其具有至少一进气孔； 一盖体，其罩设于该底座，并与该底座间具有一容置空间，该容置空间容置一光罩，该光罩分隔该容置空间为一第一气体流动空间及一第二气体流动空间；以及 至少一气体导引装置，其设置于该底座，该气体导引装置具有一第一气体导引流道、至少一第二气体导引流道、至少一第三气体导引流道、一第一出气开口及一第二出气开口，该第一气体导引流道与该进气孔相连通，该第二气体导引流道及该第三气体导引流道与该第一气体导引流道相连通，该第一出气开口与该第二气体导引流道相连通，该第二出气开口与该第三气体导引流道相连通，该第一出气开口对应该第一气体流动空间，该第二出气开口对应该第二气体流动空间； 其中该第一出气开口的开口面积小于该第二出气开口的开口面积，以使该第一气体流动空间内的一高洁净气体的流量与该第二气体流动空间内的该高洁净气体的流量相同。
2.如权利要求1所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该气体导引装置包含: 一导引本体，其设置于该底座，并位于该进气孔的上方；以及 一覆盖体，其设置于该导引本体，并与该导引本体间形成该第一气体导引流道、该第二气体导引流及该第三气体导引流道，该第一出气开口及该第二出气开口设置于该覆盖体。
3.如权利要求2所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该导引本体包含: 一第一本体，其设置于该底座，并位于该进气孔的上方，该第一本体具有至少一贯孔及一第一容置槽，该贯孔对应该进气孔，该第一容置槽与该贯孔相连通；以及 一第二本体，其设置该第一本体，该第二本体具有一第二容置槽，该第二容置槽与该第一容置槽相连通。
4.如权利要求3所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该覆盖体包含: 一第一覆盖部，其设置于该第一本体，该第一覆盖部具有一第一凹槽，该第一凹槽对应第一容置槽及该贯孔，并形成该第一气体导引流道；以及 一第二覆盖部，其容置于该第二容置槽内，该第二覆盖部具有至少一第二凹槽及至少一第三凹槽，该第二凹槽及该第三凹槽对应该第二容置槽，并分别形成该第二气体导引流道及该第一气体导引流道。
5.如权利要求4所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该第一覆盖部具有至少一支撑柱，该支撑柱位于该第一凹槽内，并抵接于该进气孔内的一充气阀的表面。
6.如权利要求4所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该第二本体的该第二容置槽内设有至少一支撑凸部，该支撑凸部对应该第二覆盖部的该第二凹槽，并支撑该第二覆盖部。
7.如权利要求1所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该第一出气开口与该第二出气开口分别为一矩形孔。
8.如权利要求4所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，更包含: 至少一限制件，其包含一座体及一限制挡片，该座体设置于该第一本体，该限制挡片设置于该座体，并抵接于该光罩的侧边。
9.如权利要求8所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该限制挡片与邻近该限制挡片的该底座的一第二侧边间的距离大于该第二覆盖部与该第二侧边间的距离。
10.如权利要求4所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该第二覆盖部的厚度小于或等于该第二容置槽的高度，该第二容置槽的两侧的表面抵接于该光罩的侧边。
11.如权利要求1所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，更包含: 复数锁扣件，其分别枢设于该盖体的复数安装槽，每一锁扣件包含: 一转动臂，其一端枢接于对应的该安装槽；以及 一锁扣部，其连接该转动臂的另一端，该转动臂随着该锁扣部转动，该锁扣部扣设于该底座的一闩孔，其中该锁扣部与该闩孔接触的表面嵌设有一滚轮。
12.如权利要求11所述的具有气体导引装置的光罩盒，其特征在于，其中该闩孔与该滚轮接触的表 面设有至少一导引凸部，该导引凸部与该滚轮接触的表面为一斜面。
【文档编号】B65D81/20GK104071464SQ201310151706
【公开日】2014年10月1日 申请日期:2013年4月18日 优先权日:2013年3月26日
【发明者】吕保仪, 林添瑞 申请人:家登精密工业股份有限公司