真空磁控溅射镀膜生产线出片输送机的制作方法

本发明涉及一种带玻璃缓存功能的真空磁控溅射镀膜生产线的出片输送机，属于机械设备领域。

背景技术：

真空磁控溅射镀膜生产线包括上片装置、清洗装置、烘干装置、清洗干净后的玻璃烘干后需要进入真空保压箱，然后再进入真空镀膜室镀膜。镀膜完成后出片，出来的玻璃经过出片输送机输送到下一工序，如检测、喷粉等，但是，当下一工序的设备(检测设备)出现故障，会导致出来的玻璃输送不过来，玻璃堆积，需要工人将玻璃搬运下来，增加工人劳动强度的同时也会影响玻璃的质量。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本发明提供一种真空磁控溅射镀膜生产线出片输送机，避免因为下一个工序故障导致的玻璃堆积，减轻劳动强度。

为了实现上述目的，本发明的技术方案如下：一种真空磁控溅射镀膜生产线出片输送机，包括输送机左机架和输送机右机架，在输送机左机架和输送机右机架之间分布有若干输送辊，每根所述输送辊上套装有若干橡胶滚轮，其特征在于：在出片输送机的一段上设置有玻璃缓存架，所述玻璃缓存架包括若干个层架，每个层架包括左纵向柱和右纵向柱，左纵向柱和右纵向柱之间从上到下连接多层玻璃支撑梁，每层玻璃支撑梁的上表面覆盖一层橡胶垫层，在相邻两个输送辊之间放置一个层架，所述层架的玻璃支撑梁与输送辊平行，所有层架的左纵向柱和右纵向柱的顶端连接到框架上，所述框架位于出片输送机上方，出片输送机的上方还安装有电动丝杆，所述框架的顶端与电动丝杆的螺杆的下端相连，通过电动丝杆带动框架上下移动，所述输送机左机架和输送机右机架的顶面还分别设置有多个滑动摩擦滚轮，所述输送机左机架上的滑动摩擦滚轮与左纵向柱的外侧面接触，所述输送机右机架上的滑动摩擦滚轮与右纵向柱的外侧面接触。

采用上述方案，当下一工序出现故障时，可以启动电动丝杆，将到达缓存架上的玻璃向上升，并保持下一层玻璃支撑梁与输送辊齐平，这样下一片玻璃到达时，再次启动电动丝杆将玻璃支撑梁上的玻璃向上升，离开出片输送机。当前方故障排除后，又一层一层下降，使得玻璃回到出片输送机上。避免玻璃堆积，减少工人劳动强度。设置滑动摩擦滚轮，起到对层架的限位作用，避免上下的过程中出现的位置偏移。

上述方案中：还包括两个门形架，出片输送机穿过两个门形架，两个门形架的顶梁之间通过平行于出片输送机的两根横梁连接，所述电动丝杆装在横梁上。方便安装电动丝杆。

上述方案在中：所述电动丝杆为四副，分别与框架的四个角相连。使得上升下降更可靠。

有益效果：本发明通过在真空磁控溅射镀膜生产线出片输送机上安装玻璃缓存架，将前方不能及时处理的玻璃暂存在玻璃缓存架上，等到故障排除后再一片一片放下来，避免玻璃的堆积，减轻工人劳动强度。

附图说明

图1为本发明的左侧视图。

图2为前侧视图。

图3为框架的俯视图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明：

实施例1，如图1-2所示：本发明的真空磁控溅射镀膜生产线出片输送机由输送机左机架1、输送机右机架2、输送辊3、橡胶滚轮4、玻璃缓存架、滑动摩擦滚轮6、门形架7、横梁8等部件组成。

在输送机左机架1和输送机右机架2之间分布有若干输送辊3，每根输送辊3上套装有若干橡胶滚轮4，橡胶滚轮4的作用是减少对玻璃的划伤，此为现有技术，在此不做赘述。在出片输送机的其中一段上设置有玻璃缓存架，玻璃缓存架包括若干个层架，层架的个数根据生产的玻璃的规格，当玻璃较长时，层架的个数较多，一般在安装时根据最长规格的玻璃安装，这样既能满足长玻璃的使用，也能满足短玻璃的生产需求，每个层架包括左纵向柱51和右纵向柱52，左纵向柱51和右纵向柱52之间从上到下连接多层玻璃支撑梁54，每层玻璃支撑梁54的上表面覆盖一层橡胶垫层，在相邻两个输送辊3之间放置一个层架，层架的玻璃支撑梁54与输送辊3平行，所有层架的左纵向柱51和右纵向柱52的顶端连接到框架53上，框架53为由四根梁围成的矩形框架，在矩形框架之间还连接有中间梁，起到支撑的作用。框架53位于出片输送机上方，出片输送机的上方还安装有电动丝杆55，具体的出片输送机穿过两个门形架7，两个门形架7的顶梁之间通过平行于出片输送机的两根横梁8连接，两根横梁8分别靠近输送机左机架1和输送机右机架2，电动丝杆55装在横梁8上，每根横梁8上安装两个电动丝杆，每根横梁8上的电动丝杆的螺杆的下端分别连接框架53的四个角。通过电动丝杆55带动框架53上下移动，输送机左机架1和输送机右机架2的顶面还分别设置有多个滑动摩擦滚轮6，具体的，在输送机左机架1和输送机右机架2的顶端分别设置两块支撑板，在两块支撑板之间设置转轴，滑动摩擦滚轮6套在转轴上。输送机左机架1上的滑动摩擦滚轮6与左纵向柱51的外侧面接触，输送机右机架2上的滑动摩擦滚轮6与右纵向柱52的外侧面接触。

本发明不局限于上述具体实施例，应当理解，本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本发明的构思做出诸多修改和变化。总之，凡本技术领域中技术人员依本发明的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。