一种用于粉体物料场合的上料系统的制作方法

文档序号:12000842阅读:538来源:国知局
一种用于粉体物料场合的上料系统的制作方法与工艺

本实用新型属于电气领域,尤其涉及一种用于粉体物料场合的上料系统。



背景技术:

工业微波设备在石墨烯、氧化锆、多晶硅粉料等粉体材料的生产制造过程应用得越来越广泛。在工业微波的连续生产线上,粉体材料上料过程通常采取一个料斗的结构,上料过程是间歇式的,无法做到全自动连续上料。此外,上料过程的控制缺少完善的控制逻辑,生产过程容易受上料过程的间歇停止而中断,这严重妨碍了生产效率的提高。



技术实现要素:

为解决上述问题,本实用新型提供了一种用于粉体物料场合的上料系统。本实用新型采用两级料斗的结构,原料仓用于储备原始物料,进料斗用于在生产过程将物料输送至传送带上。原料仓容积较大,所储备物料可满足长时间生产的要求,进料斗容积较小,安装于微波设备传送带上方,便于优化空间布局。

为达到上述技术效果,本实用新型的技术方案是:

一种用于粉体物料场合的上料系统,包括原料仓,原料仓通过吸料管连通真空上料机,真空上料机的出料口处于进料斗上方;进料斗底部安装有下料装置;下料装置正下方设置有置有物料承接装置;进料斗的下部安装有进料斗料空料位检测装置;进料斗上部安装有进料斗料满料位检测装置。

进一步的改进,所述进料斗料空料位检测装置安装在进料斗内的底部;进料斗料空料位检测装置为进料斗料空料位开关。

进一步的改进,所述进料斗料满料位检测装置安装在进料斗顶部;所述进料斗料满料位检测装置为进料斗料满料位检测开关。

进一步的改进,所述原料仓的容积为935L;进料斗的容积为104L。

进一步的改进,所述物料承接装置为传送带,将物料送入微波抑制器和微波腔体。

进一步的改进,所述原料仓上安装有原料仓料位检测开关。

进一步的改进,所述原料仓料位检测开关电连接有原料仓缺料报警器。

进一步的改进,所述下料装置为下料电机。

进一步的改进,所述上料系统包括智能控制系统,智能控制系统控制连接真空上料机、下料装置、进料斗料空料位检测装置和进料斗料满料位检测装置运行。

附图说明

图1为本专利的结构示意图;

图2为本专利的控制流程示意图。

1-原料仓;2-真空上料机;3-进料斗;4-下料电机;5-传送带;6-微波抑制器;7-微波腔体;8-原料仓料位开关;9-进料斗料满料位开关;10-进料斗料空料位开关;11-吸料管;12-原料仓缺料报警器。

具体实施方式

以下通过具体实施方式并且结合附图对本实用新型的技术方案作具体说明。

实施例1

如图1所示,使用者将原料放入原料仓1中,在进料斗3缺料的情况下,粉体物料由真空上料机2通过吸料管11送入进料斗3。进料斗3位于传送带5进料端的正上方,下料电机4紧贴进料斗3的底部位置。下料电机4启动后,通过辊筒将物料卸到传送带5上。传送带5将物料送入微波抑制器6及微波腔体7。

如图1所示,进料斗3的底部位置安装有1个进料斗料空料位开关10,顶部位置安装有1个进料斗料满料位开关9。进料斗料空料位开关10检测到“料空”状态,控制系统将启动真空上料机2,物料从原料仓1吸入进料斗3;进料斗料满料位开关9检测到“料满”状态,控制系统将关闭真空上料机2,物料不再进入进料斗3,防止料满溢出。

如图1所示,原料仓1底部安装有1个用于检测“缺料”状态的原料仓料位开关8,一旦原料仓1中检测“缺料”状态,控制系统将接通原料仓缺料报警器12,发出缺料报警信号,通知操作者往原料仓1中加料。原料仓料位开关8、进料斗料满料位开关9、进料斗料空料位开关10均为射频导纳料位计。

如图1所示,原料仓1容积较大,为935L;进料斗3容积较小,为104L。原料仓1加满料之后,可供进料斗3进行多次上料,满足较长时间生产的要求;一旦原料仓1缺料,在原料仓1加料的过程中,进料斗3中存有的物料仍可以继续生产,待原料仓1中完成加料之后,再重启上料的操作,从而实现了生产过程的连续进行。

如图2所示,上料系统的控制流程由开机运行指令开始,初始化的过程将上料启动标志置0。之后进行“上料使能”的判断,“上料使能”命令由操作者在触摸屏上给出。一旦“上料使能”命令给出,系统将检测进料斗的料空料位开关状态,如果有料,则启动下料电机、传送电机,待物料进入微波腔体之后,微波将被启动。如果进料斗中检测到“料空”状态,即进料斗低料位状态,程序会将“上料使能”置1,启动上料流程。进料斗上料过程中,如果原料仓处于有料状态,真空上料机将保持运行,直到进料斗达到“料满”状态,真空上料机将被关闭。进料斗上料过程中,如果原料仓处于缺料状态,原料仓缺料报警器将被启动,真空上料机不会开启,直到操作者将物料加入原料仓。

通过以上系统设计以及控制流程,本专利实现了上料过程的全自动、不间断作业,满足工业化连续生产的要求。

上述仅为本实用新型的一个具体导向实施方式,但本实用新型的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动,均应属于侵犯本实用新型的保护范围的行为。

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