本实用新型涉及一种炼钢连铸板坯的输送装置，具体地说是指一种可防止叠坯的红方坯下降输送装置。
背景技术：
炼钢连铸板坯生产工艺为：开浇→结晶器定型→二冷室喷淋冷却→拉矫机拉轧→火切机定尺→精制煤气→输送至割枪割嘴进行火焰切割。其中，输送分为：热线辊道输送与翻转、离线、全落地夹吊汽运两种方式。
红方坯的热线辊道输送通常采用下降输送装置，包括一横移输送机、一下降输送机以及一地坑输送机构，下降输送机倾斜设置在横移输送机的侧面，该下降输送机的顶端与横移输送机的末端对接，下降输送机上设有用于承托红方坯的拨爪，地坑输送机构设于下降输送机底端的外侧面，地坑输送机构对应的下降输送机底部旁侧还设有一个与拨爪配合的限位器。然而，由于红方坯上含有大量温度相对较高的氧化铁物质，这些氧化铁物质在红方坯下降过程中容易脱落，使得限位器被掩埋、损坏，而一旦限位器无法正常工作，即会使后续的红方坯输送信号混乱，导致上一红方坯还没输送离开，下一红方坯由向下输送，出现叠坯现象，造成热送故障，作业人员不能不停机进行维修，影响了红方坯的生产效率。
技术实现要素：
本实用新型提供一种可防止叠坯的红方坯下降输送装置，以解决现有的红方坯下降输送装置的限位器容易出现被掩埋、损坏，导致叠坯现象、热送故障的出现等缺点。
本实用新型采用如下技术方案：
一种可防止叠坯的红方坯下降输送装置，包括一横移输送机、一下降输送机以及一地坑输送机构，所述下降输送机倾斜设置在所述横移输送机的侧面，该下降输送机的顶端与横移输送机的末端对接，所述地坑输送机构设于所述下降输送机底端的外侧面，所述下降输送机包括复数个第一输送辊，头尾两个第一输送辊的两侧分别装配有一个第一环形链条，所述第一环形链条上装配有两个用于承托红方坯的第一拨爪，两个第一拨爪之间相距半个第一环形链条周长的距离，所述下降输送机顶端内侧旁设有一个用于感应第一拨爪的限位器，该限位器位于所述横移输送机机架的下方，当下降输送机的一个第一拨爪下降至与地坑输送机构对应时，另一个第一拨爪则触碰至所述限位器。
所述限位器与下降输送机之间还设有一可弹性复位的摆爪，该摆爪通过一转轴固定在所述下降输送机顶端内侧旁，所述第一拨爪上移使摆爪转动，摆爪转动时触碰到所述限位器。
所述横移输送机包括复数个第二输送辊，头尾两个第二输送辊的两侧分别装配有一个第二环形链条，所述第二环形链条的表面上装配有两个用于承托红方坯的第二拨爪，两个第二拨爪之间相距半个第二环形链条周长的距离。
由上述对本实用新型结构的描述可知，和现有技术相比，本实用新型具有如下优点：该结构的红方坯下降输送装置，将限位器设置在横移输送机机架下方的下降输送机顶端内侧旁，并且在下降输送机的第一环形链条上设置两个距离半个环形链条周长的第一拨爪，工作时，下降输送机一个承托有红方坯的第一拨爪下降至与地坑输送机构对应位置时，另一个空载的第一拨爪则上升触碰至限位器。该实用新型结构合理，方便限位器的安装与维护，限位器不会被下落的氧化铁物质掩埋、损坏，可有效防止叠坯现象的出现，大大延长了限位器的使用寿命，减少了热送故障的发生，提高了红方坯的生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面参照附图说明本实用新型的具体实施方式。为了全面理解本实用新型，下面描述到许多细节，但对于本领域技术人员来说，无需这些细节也可实现本实用新型。对于公知的组件、方法及过程，以下不再详细描述。
一种可防止叠坯的红方坯下降输送装置，包括一横移输送机10、一下降输送机20以及一地坑输送机构30。所述下降输送机20倾斜设置在所述横移输送机10的侧面，该下降输送机20的顶端与横移输送机10的末端对接，所述地坑输送机构30设于所述下降输送机20底端的外侧面，所述下降输送机20包括复数个第一输送辊21，头尾两个第一输送辊21的两侧分别装配有一个第一环形链条22，第一环形链条22的表面上装配有两个用于承托红方坯的第一拨爪23，两个第一拨爪23之间相距半个第一环形链条22周长的距离。横移输送机10包括复数个第二输送辊11，头尾两个第二输送辊的两侧分别装配有一个第二环形链条12，所述第二环形链条12的表面上装配有两个用于承托红方坯的第二拨爪13，两个第二拨爪13之间相距半个第二环形链条12周长的距离。
上述下降输送机20顶端内侧旁设有一个用于感应第一拨爪23的限位器24，该限位器24位于所述横移输送机10机架的下方，当下降输送机20的一个第一拨爪23下降至与地坑输送机构30对应位置时，另一个第一拨爪23则触碰至限位器24。
上述限位器24与下降输送机20之间还设有一可弹性复位的摆爪25，该摆爪25通过一转轴26固定在所述下降输送机20顶端内侧旁，所述第一拨爪23上移使摆爪25转动，摆爪25转动时触碰到所述限位器24，第一抓爪23离开摆爪25时，摆爪25自动复位。
上述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。