光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振板、光学补偿薄膜、防反射薄膜及液晶显示装置的制作方法

专利名称：光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏振板、光学补偿薄膜、防反射薄膜及液晶显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及光学薄膜的制造方法。还涉及由该制造方法制作的光学薄膜、具有特
殊内部结构的光学薄膜以及具有该薄膜的偏振板、液晶显示装置。
背景技术：
近年，随着液晶显示装置市场的昌盛，正开发各种薄膜。例如，专利文献1 3中 公开了倾斜型相位差薄膜。 例如，专利文献1中记载了下述方法和该方法在TN型液晶显示装置中的应用，所
述方法是将薄膜通过圆周速度不同的二个辊之间，由此赋予该薄膜剪切力，从而制作光轴
倾斜的薄膜。但是，在上述文献1记载的方法中，存在薄膜的光学特性不均严重、容易赋予
薄膜表面接触伤痕等问题。另外，也并没有应用于熔融物的启示。与之相对，专利文献2及
3中记载了下述内容使用圆周速度可以与橡胶辊不同的金属辊的二个辊夹持熔融物以赋
予剪切力，由此能得到解决了上述问题的膜厚为100 150iim的光学薄膜。 但是，专利文献2及3中，实际上并未记载具有进行透射型TN或ECB液晶显示装
置、半透射型TN或ECB液晶显示装置的光学补偿所需足够性能的光学薄膜。 另一方面，目前已知如果提高辊压力，则较大的压縮力在厚度方向上发挥作用，从
而可以制作分子链选择性地在厚度方向取向的薄膜。但是，专利文献4中公开了下述内容，
由于提高辊压而产生较大残留变形的薄膜引起光散射和双折射现象，所以无法用于光学用
途和液晶显示装置，膜厚也限于约300 ii m。因此，另外公开了优选在光学用途中降低辊压来
降低相位差的内容。还已知实际上与用熔融浇铸法制作的薄膜相比，用熔融接触辊法制作
的薄膜在厚度方向进行取向。 但是，目前未知制造进行透射型TN或ECB液晶显示装置、半透射型TN或ECB液晶
显示装置的光学补偿所需足够性能的光学薄膜的方法。并且，并未详细研究上述薄膜的光
学特性与薄膜内部结构上的特征的关系。专利文献1日本特开平6-222213号公报专利文献2日本特开2003-25414号公报专利文献3日本特开2007-38646号公报专利文献4日本专利第3194904号公报参考文献1高分子企& 6《3 、高分子加工0ne Point〈4〉、第3章、P. 37

发明内容
目前，在光学薄膜领域中，如专利文献1的比较例1和参考文献1所记载的那样， 推测提高辊间的压力时，压縮力会增大，所以分子链选择性地向厚度方向取向(面取向)， 相位差的倾斜结构的大小相对降低。需要说明的是，此处所谓相位差的倾斜结构，是指下述 Re[+40° ]-Re[-40° ] |的大小。
另外，在上述专利文献2等所记载的现有技术中，使用金属辊和低硬度的弹性辊(例如，记载于该文献中的用金属涂布表面得到的橡胶辊)时，以施加20MPa以上的较大压力的方式施加相同程度的力时，橡胶辊发生变形。因此，与熔融物的接触面积增加，结果无法在挟压装置间施加高压力。因此，现状是还没有深入研究为了得到相位差的倾斜结构较大的薄膜而提高挟压装置间压力来制造薄膜的方法。事实上，在专利文献4的背景技术栏中，提高辊挟压力时，在薄膜上产生的变形成比例地提高，具有上述残留变形的片材引起特别是光的散射和双折射现象，所以无法用于光学用途例如液晶等的显示装置中。即，提高挟压装置间的压力具有无法避免的倾向，特别是在光学薄膜领域中上述倾向特别显著。
本发明是考虑了上述课题而得到的，本发明的第一目的在于提供用于液晶显示装置时可以实现足够的光学补偿的具有特殊内部结构的光学薄膜及其制造方法。另外，本发明的第二目的在于提供使用该光学薄膜的偏振板、光学补偿薄膜、防反射薄膜及液晶显示装置。 针对上述课题，本发明人等研究了用现有方法制造的光学薄膜的内部结构，发现相位差的倾斜结构的大小不充分，不仅如此，薄膜厚度方向的热塑性分子的取向结构也与所要求的薄膜结构不同。 相对于此，本发明人等研究了在构成挟压装置的第一挟压面和第二挟压面之间连续挟压来制作具有倾斜相位差结构的薄膜的制造方法中提高挟压装置间的压力时，惊奇地发现可以制作倾斜结构大、具有与现有已知的薄膜不同的特殊内部结构的薄膜。进而，明确了与现有的液晶涂布型的视野角补偿薄膜相比，本发明的薄膜用于液晶显示装置时，可以提高正面对比度(以下也称为正面CR)，是目前未能制造的薄膜。 S卩，本发明人等为了解决上述课题进行了潜心研究，结果发现了下述制造方法及
用该方法制作的薄膜等可以解决上述课题，从而完成了以下所述的本发明。 [1] —种光学薄膜的制造方法，其特征在于，包括使含有热塑性树脂的组合物的熔
融物通过构成挟压装置的第一挟压面与第二挟压面之间并连续地挟压，从而成形为薄膜状
的工序，其中，所述挟压装置施加在所述熔融物的压力为20 500MPa，并且使所述第一挟
压面的移动速度比所述第二挟压面的移动速度快。 [2]如[1]所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述光学薄膜的制造方法还包括从模中熔融挤出含有所述热塑性树脂的组合物的工序，并使已熔融挤出的熔融物通过所述第一挟压面与所述第二挟压面之间。 [3]如[1]或[2]所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，由下式(1)定义的所述挟压装置的第一挟压面与第二挟压面的移动速度比为0. 60 0. 99，
移动速度比=第二挟压面的速度/第一挟压面的速度(1)。 [4]如[1] [3]中任一项所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，将所述第一挟压面和所述第二挟压面的温度控制在Tg-7(TC Tg+l(TC (其中，Tg表示所述热塑性树脂的玻璃化转移温度)。 [5]如[1] [4]中任一项所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述挟压装置具有圆周速度互不相同的2个辊，其中以圆周速度快的辊的表面作为第一挟压面，以圆周速度慢的辊的表面作为第二挟压面。 [6]如[5]所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述2个辊的肖氏硬度均为
645HS以上。 [7]如[5]或[6]所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述2个辊均为金属辊。 [8]如[1] [7]中任一项所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述热塑性树脂是选自环状烯烃系树脂、丙烯酸纤维素(cellulose acrylate)系树脂、聚碳酸酯系树脂、苯乙烯系树脂及丙烯酸系树脂中的至少一种。 [9] —种光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜由[1] [8]中任一项所述的光学薄膜的制造方法来制造，并且厚度为200 ii m以下。 [10] —种光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜是包含热塑性树脂的具有倾斜方位的光学薄膜，其中，将在面内具有倾斜方位和厚度方向的所述薄膜的切片配置在2张配置成正交尼科耳的偏振板之间，并且一边从与所述偏振板的面相垂直的方向照射光，一边使2张配置成正交尼科耳的偏振板在0。 90°的范围内转动时，沿着厚度方向从薄膜切片的一端向另一端依次观测，最初观测的消光位置和最后观测的消光位置相差超过3° 。
[11]如[10]所述的光学薄膜，其特征在于，在所述薄膜切片的双折射实质上不为0的部分观测到所述消光位置的变化。 [12]如[10]或[11]所述的光学薄膜，其特征在于，沿着厚度方向从薄膜切片的一
端向另一端依次观测时，双折射的大小达到最大的部分存在于薄膜内部。 [13]如[10] [12]中任一项所述的光学薄膜，其特征在于，在具有薄膜倾斜方位
和薄膜法线的面内，从该法线方向测定的波长为550nm下的迟滞Re
、从相对于该法线
向倾斜方位侧倾斜40。的方向测定的迟滞Re[+40。]和从相对于该法线向与倾斜方位相
反侧倾斜40°的方向测定的迟滞Re[-40。]同时满足下式(II)及(III)， 20nm《Re
《300nm (II) 5nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《300nm (III) [14]如[10] [13]中任一项所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜在膜厚
方向的迟滞Rth满足下式(IV)，40nm《Rth《500nm (IV) Rth = ((nx+ny) /2_nz) X d(式中，nx、ny、nz表示折射率椭圆体的各主轴方向的折射率，d表示膜厚。) [15]如[13]或[14]所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜含有热塑性树
脂，同时满足下式(V) (VII)， 60nm《Re
《200nm (V)60nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《250nm (VI)40nm《Rth《350nm (VII)。 [16] —种光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜是包含热塑性树脂的具有倾斜方位的光学薄膜， 其中，在具有薄膜倾斜方位和薄膜法线的面内，从该法线方向测定的波长为550nm下的迟滞Re[O。]、从相对于该法线向倾斜方位侧倾斜40。的方向测定的迟滞Re[+40。]和从相对于该法线与倾斜方位相反侧倾斜40。的方向测定的迟滞Re[-40。]同时满足下式(VIII)及(IX)，
7
60nm《Re
《300nm (VIII)40nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《300nm (IX) [17]如[16]所述的光学薄膜，其特征在于，膜厚方向的迟滞Rth满足下式(X)，
40nm《Rth《500nm (X)
Rth = ((nx+ny) /2_nz) X d(式中，nx、ny、nz表示折射率椭圆体的各主轴方向的折射率，d表示膜厚。)
[18]如[16]或[17]所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜同时满足下式(XI) (XIII)，60nm《Re
《200nm (XI)60nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《250nm (XII)40nm《Rth《350nm (XIII)。 [19]如[9] [18]中任一项所述的光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜实质上不含有残留溶剂。 [20]如[9] [19]中任一项所述的光学薄膜，其特征在于，膜厚为lOOym以下。
[21] —种偏振板，其特征在于，具有偏振片和[9] [20]中任一项所述的光学薄膜。 [22] —种光学补偿薄膜，其特征在于，使用[9] [20]中任一项所述的光学薄膜。
[23] —种防反射薄膜，其特征在于，使用[9] [20]中任一项所述的光学薄膜。
[24] —种液晶显示装置，其特征在于，使用[9] [20]中任一项所述的光学薄膜。
根据本发明，可以提供用于液晶显示装置时可以实现良好的光学补偿的薄膜及其制造方法。详细而言，根据本发明，可以提供用于ECB模式、OCB模式、TN模式的液晶显示装置中时，可以实现良好的光学补偿的薄膜及其制造方法。以往，ECB模式的液晶显示装置或TN模式的液晶显示装置中，在偏振片层叠设置有包含液晶组合物的光学补偿层的光学补偿薄膜进行使用。例如，已知NH薄膜(新日本石油制)、WV薄膜(富士胶片制)。根据本发明，可以提供不设置包含液晶组合物、特别是聚合性液晶化合物的光学补偿层的更简易的薄膜及其制造方法。


图1是表示本发明的半透射型ECB模式液晶显示装置的偏振板的吸收轴、液晶单元的取向方向及薄膜的滞相轴的平面图。图2是表示极角和环形延迟(circular retardance)的关系的图表。图3是表示从实施例1及比较例1的薄膜的与接触辊接触一侧的面(接触面)
到膜厚方向的距离与消光位置的关系的图表。图4是正交尼科耳下的薄膜的偏光显微镜照片，(A) (D)表示使实施例1的薄膜分别转动10° 、60° 、70°及80°时的消光位置，(a) (d)表示使比较例1的薄膜分别转动IO。 、60° 、70°及80°时的消光位置。图5是正交尼科耳下的薄膜的偏光显微镜照片，(A) (D)表示使比较例9的薄膜分别转动IO。 、60° 、70°及80°时的消光位置。图6是表示配置成正交尼科耳的偏振板的转动角度与薄膜的消光位置的关系的
8示意图，(A)表示本发明的薄膜的消光位置，(B)表示现有的单轴拉伸薄膜的消光位置，(C)表示现有的倾斜取向薄膜的消光位置，(D)表示配置成正交尼科耳的偏振板的转动角度。
图7是表示在本发明的制造方法中将模所提供的金属落入由冷硬轧辊和接触辊挟压的部分中央的方案的挟压装置的模式图。图8是表示在本发明的制造方法中使用挡风板的挟压装置的方案的模式图。[符号说明]1移动速度快的第一挟压面侧的薄膜表面2移动速度慢的第二挟压面侧的薄膜表面10模ll接触辊12冷硬轧辊13模口调整螺栓14含有丙烯酸纤维素树脂的组合物15前方挡风板16后方挡风板17侧面挡风板
具体实施例方式
以下，更详细地说明本发明。需要说明的是，本说明书中，使用" "表示的数值范围是指包括以" "前后记载的数值为下限值及上限值的范围。另外，本说明书中，所谓"薄膜长度方向"，是指MD(机械方向(machinedirection))方向。本发明中，所谓"含有热塑性树脂的组合物"或"包含热塑性树脂的薄膜"表示含有50%以上能熔融制膜的热塑性树脂，特别是指实质上不含有聚合性液晶的化合物。
[薄膜](面内方向的迟滞Re 、厚度方向的迟滞Rth) 本发明的薄膜含有热塑性树脂，其特征在于，在具有薄膜倾斜方位和薄膜法线的面内，从该法线测定的波长为550nm下的迟滞Re[(T ]、从倾斜+40°的方向测定的迟滞Re[+40。]和从相对于该法线倾斜-40°的方向测定的迟滞Re[-40。]同时满足下式(II)及(III)， 20nm《Re
《300nm (II) 5nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《300nm (III) 本说明书中，所谓"相对于薄膜法线倾斜9°的方向"，定义为从法线方向沿着倾
斜方位向薄膜面方向仅倾斜e °的方向。即，薄膜面的法线方向为倾斜角度o。的方向，薄
膜面内的任意方向为倾斜角度90。的方向。 本发明的薄膜中，面内方向的迟滞Re[O。]为20 300nm，优选为60 300nm，较优选为60 250nm，特别优选60 200nm，进一步优选80 180nm。另外，本发明的薄膜中，I Re [+40 ° ] -Re [-40 ° ] |为5 300nm，优选为40 300nm，较优选为60 250nm，特别优选为60 200nm，进一步优选为80 180nm。 进而，本发明的薄膜在厚度方向的迟滞Rth优选为40 500nm，较优选为40 350nm，更优选为40 300nm。 进一步，本发明的薄膜优选同时满足下式(V) (VII)。
60nm《Re
《200nm (V)
60nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《250nm (VI)
40nm《Rth《350nm (VII) |Re[+40° ]-Re[-40。 ]|、Re
及Rth在上述优选范围的薄膜可以通过下述本发明的制造方法制作。另外，将上述优选的光学特性的光学薄膜利用于TN模式、ECB模式、OCB模式等的液晶显示装置的光学补偿中时，有利于改善视野角特性，从而可以达到广视野角化。 另外，波长为550nm的薄膜面内的迟滞Re
(550nm)与波长为450nm的薄膜面内的迟滞Re[O。 ] (450nm)之差、即Re[O。 ] (550nm)-Re
(450nm)的值优选为-10 60nm，较优选为0 50nm，特别优选为10 40nm。 本发明薄膜的膜厚优选为200ym以下，较优选为100ym以下。用于液晶显示装置等时，从薄型化的观点来看，优选为80 ii m以下，较优选为60 ii m以下，特别优选为40 y m以下。本发明的薄膜的制造方法可以制作上述薄度的膜，这是与现有技术的差异之一。
在用于液晶显示装置中时，Re[O。 ]、Re[+40。]及Re[-40。]的不均造成了显示不均，所以该不均越小越理想，具体而言，优选为士3nm以内，更优选为士lnm以内。同样，滞相轴的角度不均也导致显示不均，所以该不均越小越理想，具体地优选在±1°以内，更优选在±0.5°以内，特别优选在±0. 25°以内。 本说明书中，Re[O。 ] 、 Rth表示光学各向异性层、薄膜、层叠体等薄膜状的测定对象物的面内迟滞(nm)及厚度方向的迟滞(nm)。通过在KOBRA 21ADH或WR(王子计测机器(株)制)中，使波长为550nm的光向薄膜状的测定对象物的法线方向入射来测定Re[O。]。选择测定波长入nm时，可以手动转换波长选择过滤器或用程序等转换测定值来测定。 测定的薄膜状的测定对象物为由单轴或双轴的折射率椭圆体表示的对象物时，可通过以下的方法计算Rth。 Rth如下测定，以面内的滞相轴(通过KOBRA 21ADH或WR判断)作为倾斜轴(转动轴)(没有滞相轴时，以薄膜状的测定对象物的面内的任意方向为转动轴)，相对于薄膜状的测定对象物的法线方向，在与法线方向成-50°至+50°的范围内以IO度的跨度分别倾斜的方向入射波长为550nm的光，测定11处的迟滞值，以该迟滞值和平均折射率的假定值及输入的膜厚值为基础，计算KOBRA 21ADH或WR。 上述内容中，以面内的滞相轴为转动轴，在具有相对于法线方向的某个倾斜角度下迟滞的值为零的方向的薄膜的情况下，在比该倾斜角度大的倾斜角度下的迟滞值在其符号变更为负后计算KOBRA 21A匿或WR。 需要说明的是，以滞相轴为转动轴(没有滞相轴时，以薄膜状的测定对象物面内的任意方向为转动轴)时，可以从任意倾斜的2个方向测定迟滞值，以该值和平均折射率的假定值及输入的膜厚值为基础，通过以下的数学式(A)及式(B)计算Rth。
数学式(A)
10
Re问-
sin
sin
sin(-61)—
〃
+ cos
sin
「 sin(-。
、、
cos sin
、"'〃 数学式(B) Rth = {(nx+ny) /2_nz} X d 需要说明的是，式中，Re[ 9 ]表示在相对于法线方向倾斜角度e的方向上的迟滞 另外，式(A)中，nx表示面内的滞相轴方向的折射率，ny表示面内与nx正交的方
向的折射率，nz表示在与nx及ny正交的方向上的折射率，d表示膜厚。 被测定的薄膜状的测定对象物为无法用单轴或双轴折射率椭圆体表现时的对象
物、所谓没有光学轴(optic axis)的测定对象物时，通过以下的方法计算Rth。Rth如下测定以面内的滞相轴(通过KOBRA 21ADH或WR判断)为倾斜轴(转动
轴)，在相对于薄膜法线方向成-50° +50°的范围内以10度跨度分别从所述倾斜的方向
入射波长为550nm的光，测定11处上述Re，以该测定的迟滞值和平均折射率的假定值及输
入的膜厚值为基础，计算K0BRA21ADH或WR。 在上述测定中，平均折射率的假定值可以使用聚合物手册(J0H丽ILEY&S0NS、 INC)、各种光学补偿薄膜的目录值。平均折射率的值不是已知值时，可以使用阿贝折射计测 定。以下，列举主要的光学补偿薄膜的平均折射率的值，如下丙烯酸纤维素(1.48)、环烯
烃聚合物a.52)、聚碳酸酯a.59)、聚甲基丙烯酸甲酯a.49)、聚苯乙烯a.59)。通过输
入上述平均折射率的假定值和膜厚，用K0BRA 21ADH或WR计算nx、 ny、 nz。通过该算出的 nX、 ny、 nz进一步计算Nz = (nx-nz) / (nx-ny)。 需要说明的是，Re[e ° ]、Rth及折射率的测定波长只要没有特别说明，均是测定 波长为550nm下的值。 本说明书中，薄膜的Re[O。 ]、Re[+40。]及Re[-40。]表示下述迟滞值，即在具 有下述倾斜方位和薄膜法线的面内，从该法线方向测定的(倾斜角度为0。下的)波长为 550nm下的迟滞值、从相对于该法线向倾斜方位侧倾斜40。的方向测定的(倾斜角度为40 度下的)迟滞值及从相对于该法线向与倾斜方位相反侧倾斜40。的方向测定的(倾斜角度 为-40度下的)迟滞值。 此处，倾斜方位按照以下的方法确定。 (1)以薄膜面内的滞相轴方向为O。，以薄膜面内的进相轴方向为90。，以O. r 的跨度在O。 90°之间设定临时倾斜方位。 (2)在具有各临时倾斜方位和薄膜法线的面内，测定Re [+40° ]和Re [-40° ]，求 出Re[+40° ]-Re[-40° ] | 。 (3)确定以|Re[+40° ]-Re[-40。
] |达到最大的方位为倾斜方位。本说明书中，薄膜的Rth是在倾斜方位中由K0BRA21ADK或WR算出的值。 另外，Re[O。
]、Re[+4(T ]及Re[-4(T ]的不均可以通过以下的方法来测定。
在薄膜中央部的彼此分离2mm以上的任意10处以上的位置进行采样，用上述方法测定
11Re
、Re[+40° ]及Re[-4(T ]，以其最大值与最小值之差作为Re
、Re[+40° ] 及Re[-40。]的不均。另外，本发明中，以上述lO处的平均值作为Re[O。 ]、Re[+40° ]、 Re [-40° ]。 进而，滞相轴及下述Rth的不均也同样测定。
(消光位置) 本发明的薄膜是包含热塑性树脂的具有倾斜方位的光学薄膜，其特征在于，将在 面内具有倾斜方位和厚度方向的所述薄膜的切片配置在2张配置成正交尼科耳的偏振板 之间， 一边从与所述偏振板相垂直的方向照射光， 一边使2张配置成尼科耳的偏振板在 0° 90°的范围内转动时，沿着厚度方向从薄膜切片的一端向另一端依次观测时，最初观 测的消光位置与最后观测的消光位置相差超过3° 。 此处，本说明书中，所谓从所述薄膜切片的一端开始向厚度方向的距离表示从薄 膜切片的一端开始向厚度方向的距离。 另外，所谓消光位置是指使所述薄膜切片在正交尼科耳下于O。 90°的范围内 转动，观测亮度的变化时，达到最暗的状态的角度。 本发明的薄膜中，较优选使配置成正交尼科耳的2张偏振板在0。 90°的范围 内转动时，沿着厚度方向从薄膜切片的一端向另一端依次观测时，最初观测的消光位置与 最后观测的消光位置相差超过5。，特别优选相差超过IO。。 另外，也优选本发明的薄膜在上述条件下观测时观测的消光位置相对于膜厚方向 的距离急剧变化。例如，优选相对于lPm膜厚，消光位置变化0.2。以上，较优选相对于 lPm膜厚，消光位置变化r以上，特别优选相对于lym膜厚，消光位置变化5。以上。
本发明的薄膜中，由于在薄膜切片的双折射实质上不为0的部分观测到所述消光 位置的变化，所以用于液晶显示装置时具有优异的视野角补偿功能。本说明书中，所谓双折 射实质上不为0，是指通过偏振光显微镜观察薄膜切片，并与干涉色图表对照测定双折射的 大小时，薄膜的取向度为2X10—5以上。 另外，本发明的薄膜优选根据从上述薄膜切片的一端开始向厚度方向的距离，在 超过0° 、小于90°的范围内的不同角度、或从0。至小于90°的范围内的不同角度处存在 多个消光位置。进而，较优选在5。以上、小于9(T的范围内的不同角度处观测到消光位 置，特别优选在5。以上、小于85。的范围内的不同角度处观测到消光位置。
具体而言，本发明的薄膜的消光位置可以通过例如以下的方法来测定。
(1)采集薄膜，制成5mm(与倾斜方位平行)X 10mm(与倾斜方位正交)。
(2)对于上述样品薄膜，将与倾斜方位平行的一个端部的面用切片机(RAIKA公司 制RM2265)进行平滑化。 (3)将在与倾斜方位垂直的方向上距离进行了平滑化的面为500ym的面用剃刀 (日新EM公司制刀修整用剃刀)与倾斜方位平行地切断，制作面内具有薄膜的倾斜方位和 厚度方向的薄膜切片。 (4)使用该薄膜切片，用2个偏振板被配置成正交尼科耳的偏振光显微镜(尼康 公司制Eclipse E600P0L)观测薄膜厚度方向的消光变化(在正交尼科耳下达到最暗的状 态)。具体而言，将该薄膜切片与所述2张偏振板平行地配置，将该2张偏振板固定成配置 成正交尼科耳的状态，使配置成正交尼科耳的2张偏振板在0。 90°的范围以5。的跨度
12转动，观测消光变化。 需要说明的是，用于利用偏振光显微镜进行观察的光源没有特别限定，但优选使 用白色光源。另外，观测消光位置只要用正交尼科耳来进行，就没有特别限定，或者优选以 用正交尼科耳通过偏振光显微镜观测到的图像为基础，确定消光位置。另外，所述薄膜切片 与具有所述2张偏振板的各个吸收轴的面平行地配置。 图6是观察(A)本发明的薄膜、(B)现有的单轴拉伸薄膜、(C)现有的倾斜取向薄 膜时的偏振光显微镜图像的示意图。为了简易说明本发明薄膜的优点，分割成4层，制作示 意图，但本发明的薄膜并不限定于分成4层的方案，由图4的本发明的观察图像可知，本发 明的薄膜形成连续的层。请注意仅为示意图。另外，所谓现有的拉伸薄膜如下制作在下 述本发明的制造方法中不进行接触辊制膜，制成未拉伸薄膜后，用拉幅机在Tg+5t:下拉伸 2.0倍而制成。 图6中，用涂黑的部分表示在直角尼科耳下达到最暗，点密度越小表示亮度越大。
中央图(B)是观察现有的拉伸薄膜切片的示意图，消光在厚度方向均匀地变化，并且在O。
和90°处存在消光位置。另外，右(C)是观察以日本特开平6-222213号公报、日本特开
2007-38646号公报的方法为基础制作的现有的倾斜取向薄膜切片的示意图，消光在厚度方
向均匀地变化，在约15。处具有消光位置。与此相对，左(A)为本发明的薄膜，令人惊奇的
是，消光没有在厚度方向均匀地变化，在O。 90°的范围存在多个消光位置。 实际上观察的偏振光显微镜图像不形成图6所示明确的4层的构成，而形成连续
的层。由于无法超出显微镜的分辨能力来测定层的构成，所以本发明中，可以如下述(i)及
(ii)所述地确定厚度方向的消光变化。另外，可以判定本发明的薄膜满足下述条件(iii)。 (i)将在O。 90°以T的跨度观察得到的偏振光显微镜图像在厚度方向以20
份(例如如果膜厚为lOOym，则为5ym)进行分割，从单侧的表面依次分层。 (ii)将O。 90°的观察得到的图像按照所述各层测定亮度的变化，确定在
0° 90°的范围内达到最暗时的角度、即消光位置。 (iii)判断是否至少2个层的消光位置相差超过3° 。 进而，本发明的薄膜的特征在于，双折射的大小成为最大的部分存在于薄膜内部。 本发明中，所谓薄膜内部，是指上述分成20份的部分的3 18份的部分，特别是指存在于 5 15份的部分。 [OH2](环形迟滞) 本发明的薄膜是包含热塑性树脂的薄膜，其特征在于，在具有与薄膜倾斜方位正 交的方位和薄膜法线的面内，从相对于该法线倾斜40°的方向测定的波长为550nm下的 环形迟滞为5nm以上。光学薄膜的环形迟滞如下计算，将薄膜在特定的测定波长中使用 AXOMETRICS公司(美国)的米勒矩阵 偏振计在具有与倾斜方位正交的方向(y轴)和薄 膜法线(z轴)的面内测定光学特性的倾斜角依赖性，由此算出。 通常，ECB、OCB及TN单元由于液晶分子的倾角变化，所以具有环形迟滞。为此，进 行液晶单元的视野角补偿中，优选也可以补偿该环形迟滞。与此相对，本发明的薄膜与上述 专利文献1、2、3中制作的现有的薄膜不同，令人惊奇的是，由于上述环形迟滞为5nm以上， 所以可以进行有效的视野角补偿。优选环形迟滞的范围为与液晶单元所具有的环形迟滞相 同的程度，具体而言，为5nm以上、500nm以下，更优选为10nm以上、300nm以下，特别优选为
1310nm以上、100nm以下。
(去偏光度) 薄膜的去偏光度是使用JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 98， 016106 (2005)的式(2)
定义的。具体而言，在偏振板之间插入薄膜，并使薄膜面内的滞相轴与偏振板的吸收轴平
行，从相对于上述偏振板的面垂直的方向照射光，分别测定将偏振板配置成正交尼科耳和
平行尼科耳时的各个配置下的亮度，通过以下的式子求出所得的结果。 去偏光度=2X (正交尼科耳下的亮度)/(平行尼科耳下的亮度)(式) S卩，所述去偏光度大是指光从配置成正交尼科耳的偏振板漏出，用于液晶显示装
置时导致对比度降低。如下述实施例所示，令人惊奇的是，明确与现有的液晶涂布型视野
角补偿薄膜相比，本发明的薄膜的去偏光度小1 2位，用于液晶显示装置时，可以将对比
度提高50%以上。去偏光度实质上优选为1.0X10—4 1.0X10—6，较优选为1.0X10—4
5. 0X10—5，最优选为0。 除上述倾斜结构及环形迟滞之外，如上所述去偏光度较小可以同时实现并达到液 晶显示装置的视野角补偿和提高对比度，这也是与现有薄膜不同的本发明的薄膜的特征之(残留溶剂量) 本发明的薄膜优选实质上不含有残留溶剂，从降低薄膜的去偏光度的观点来看较 优选相对于薄膜重量的残留溶剂量小于0. 01质量％。残留溶剂量特别优选小于0. 008质 量％ ，进一步特别优选小于0. 005质量％ 。本说明书中，所谓溶剂是在25°C下为液体，并且 指分子量为20 200的分子。 关于残留溶剂量的测定没有特别限定，例如可以使薄膜溶解于测定用溶剂中，通 过GC进行测定。作为溶解测定用薄膜的溶剂，只要溶解上述热塑性树脂即可，没有特别限 定，例如如果是丙烯酸纤维素系薄膜、聚碳酸酯系薄膜、丙烯酸系薄膜，则可以使用乙酸甲 酯、二氯甲烷、丙酮等，如果是环烯烃(COC、 COP)系薄膜，则可以使用正己烷、环己烷、甲苯、
二甲苯等。(表面粗糙度) 本发明薄膜的表面粗糙度Ra为200nm以下，但从与偏振板的密接性、降低去偏光 度的观点来看而优选。较优选表面粗糙度Ra为100nm以下，特别优选为30nm以下。
(热塑性树脂) 用于本发明的热塑性树脂只要具有上述光学特性，就没有特别限定，上述热塑性 树脂的玻璃化转移温度(以下也称为Tg)优选为-30 23(TC，较优选为50 20(TC，特别 优选为60-170°C。 需要说明的是，热塑性树脂的玻璃化转移温度如下求出使用扫描型示差 热量计(DSC)，在测定盘中放入树脂，将其在氮气流中以l(TC /分钟从3(TC升温至 30(TC后(lst-run)，以-l(TC /分钟冷却至30°C，再次以l(TC /分钟从30。C升温至 300°C (2nd-run)。以在2nd-run中基线从低温侧开始偏离的温度作为玻璃化转移温度 (Tg)。 上述热塑性树脂的热分解温度(Td)优选为300。C以上，较优选为26(TC以上，特别 优选为22(TC以上。
下述挤出温度中的所述热塑性树脂的熔融粘度优选为10 10000Pa 's，较优选为 100-5000Pa s，特别优选为100 3000Pa s。 所述热塑性树脂的Tg+10(TC下与HCr的剥离负荷优选为120N以下，较优选为 100N以下，特别优选为80N以下。 所述热塑性树脂在Tg (Tg+100rC下的双折射的呈现时间优选为2秒以下，较优 选为l秒以下，特别优选为0.5秒以下。 所述热塑性树脂在Tg (Tg+100rC下的双折射的张弛时间优选为0.5秒以上，较 优选为1秒以上，特别优选为2秒以上。 所述热塑性树脂在25。C下的热传导率优选为0. 01 10W/m k，较优选为0. 1 10W/m k，特另U优选为0. 1 1W/m k。 所述热塑性树脂在25。C下的表面张力优选为10 60mN/m，较优选为20 50mN/ m，特别优选为25 50mN/m。 所述热塑性树脂的固有双折射的绝对值优选为0. 001 0. 2，较优选为0. 001 0. ll，特别优选为0. 002 0. 05。 所述热塑性树脂的折射率优选为1. 35 1. 17，较优选为1. 40 1. 65，特别优选 为1. 45 1. 60。 所述热塑性树脂的总光线透射率(试验法ISO 13468-2)优选为70 95% ，较优 选为80 95 % ，特别优选为90 95 % 。 所述热塑性树脂的薄膜浊度优选为3. 0%以下，较优选为2. 0%以下，特别优选为 1.0%以下。 所述热塑性树脂所含的直径为50ym以上的异物优选为200个/cm2以下，较优选 为100个/cm2以下，特别优选为50个/cm2以下。 所述热塑性树脂的弹性模量优选为500 lOOOOMPa，较优选为1000 80000MPa， 特别优选为1500 7000MPa。 所述热塑性树脂的断裂伸度优选为1%以上，较优选为3%以上，特别优选为4% 以上。 利用熔融挤出法制作时，优选使用该树脂的熔点Tm和热分解温度Td满足Tm < Td 的热塑性树脂，较优选利用熔融挤出成型性良好的材料，从该观点来看，优选环状烯烃系树 脂、丙烯酸纤维素系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酯类、透明聚乙烯、透明聚丙烯等聚烯烃类、 聚芳酯类、聚砜类、聚醚砜类、马来酰亚胺系共聚物类、透明尼龙类、透明氟树脂类、透明苯 氧基类、聚醚酰亚胺类、聚苯乙烯类、丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂。可以含有一种上述树 脂，也可以含有互不相同的2种以上上述树脂。本发明的薄膜优选含有环状烯烃系树脂、丙 烯酸纤维素系树脂、聚碳酸酯系树脂、苯乙烯系树脂及丙烯酸系树脂中的至少一种。另外， 所述环状烯烃类优选为通过加成聚合得到的环状烯烃类。 本发明的薄膜中，优选所述热塑性树脂的浓度在薄膜厚度方向均匀。另外，本发明 的薄膜含有下述添加剂时，优选该添加剂的浓度在薄膜厚度方向均匀。如上所述，本发明的 薄膜组成整体上是均匀的，而薄膜的去偏光度降低，用于液晶显示装置时，正面CR提高而 优选。 特别是显示正的固有双折射性的丙烯酸纤维素系树脂、环状烯烃系树脂、聚碳酸酯系树脂在用2个辊施加剪切变形时，滞相轴朝向倾斜方位，可以制作 Re[+40° ]-Re[-40° ] | > 0的薄膜，例如，将2个辊与模出口平行配置时，倾斜方位与薄 膜长度方向相同。 另外，显示负的固有双折射性的丙烯酸系树脂及苯乙烯系树脂在进行上述加工 时，进相轴朝向倾斜方位，可以制作|Re[+40° ]-Re[-40° ] | > 0的薄膜。
本发明的薄膜作为视野角补偿薄膜应用于液晶显示装置中时，考虑到液晶显示装 置的特性和加工偏振板的便利性，可以适当选择使用上述正或负的固有双折射树脂。
能用于本发明的环状烯烃系树脂的例子中，含有通过聚合降冰片烯系化合物得到 的降冰片烯系树脂。另外，可以为由开环聚合及加成聚合中的任一种聚合方法得到的树脂。
作为加成聚合及通过该聚合得到的环状烯烃系树脂，可以举出例如记载在日本专 利3517471号公报、日本专利3559360号公报、日本专利3867178号公报、日本专利3871721 号公报、日本专利3907908公报、日本专利3945598号公报、日本特表2005-527696号公报、 日本特开2006-28993号公报、日本特开2006-113361公报、国际公开WO第2006-/004376 号公报、国际公开WO第2006-/030797号公报说明书中的例子。其中，特别优选日本专利 3517471号公报中记载的例子。 作为开环聚合及通过该聚合得到的环状烯烃系树脂，可以举出国际公开W098第 98/14499号公报说明书、专利3060532号公报、专利3220478号公报、专利3273046号公报、 专利340402号公报、专利3428176号公报、专利3687231号公报、专利3873934号公报、专 利3912159号公报中记载的例子。其中，特别优选记载在国际公开W0第98/14499号公报 说明书、专利3060532号公报中的例子。 上述环状烯烃系树脂中，从双折射的呈现性、熔融粘度的观点考虑优选通过加成 聚合得到的树脂，可以使用例如"T0PAS恥013" (Polyplastics公司制)。
能用于本发明的丙烯酸纤维素系树脂的例子中，也包括纤维素单元中3个羟基的 至少一部分被酰基取代的任一种丙烯酸纤维素。该酰基(优选碳原子数为3 22的酰基) 可以为脂肪族酰基及芳香族酰基中的任一种。其中，优选具有脂肪族酰基的丙烯酸纤维素， 较优选具有碳原子数为3 7的脂肪族酰基的丙烯酸纤维素，更优选具有碳原子数为3 6 的脂肪族酰基的丙烯酸纤维素，进一步优选具有碳原子数为3 5的脂肪族酰基的丙烯酸 纤维素。可以在1分子中存在多种上述酰基。优选酰基的例子包括乙酰基、丙酰基、丁酰基、 戊酰基、己酰基等。上述酰基中，更优选的是具有选自乙酰基、丙酰基及丁酰基中的1种或2 种以上的丙烯酸纤维素，进一步优选具有乙酰基及丙酰基两种基团的丙烯酸纤维素(CAP)。 从容易合成树脂、挤出稳定性高的观点来看优选上述CAP。 通过包括本发明的制造方法的熔融挤出法制作薄膜时，优选所用的丙烯酸纤维素
满足以下的式(S-l)及(S-2)。满足以下式的丙烯酸纤维素熔解温度低，能改善熔解性，所
以熔融挤出制薄膜性优异。<formula>formula see original document page 16</formula> 所述式(S-l)和(S-2)中，X表示乙酰基相对于纤维素的羟基的取代度，Y表示酰 基相对于纤维素的羟基的取代度总和。本说明书中所说的"取代度"是指纤维素的2位、3 位及6位的各个羟基的氢原子被取代的比例的总和。2位、3位及6位所有羟基的氢被酰基取代时，取代度为3。 进而，较优选使用满足下式(S-3)及(S-4)的丙烯酸纤维素。
式(S-3) 2. 3《X+Y《2. 95
式(S-4) 1. 0《Y《2. 95 更优选使用满足下式(S-5)及(S-6)的丙烯酸纤维素。
式(S-5) 2. 7《X+Y《2. 95
式(S-6) 2. 0《Y《2. 9 丙烯酸纤维素系树脂的质量平均聚合度及数均分子量没有特别限定。通常，质量 平均聚合度为350 800左右，以及数均分子量为70000 230000左右。上述丙烯酸纤维 素系树脂可以使用酸酐或酰氯化物作为酰基化剂来合成。工业上最通常的合成方法中，将 由棉花纤维或木材浆料等得到的纤维素用含有对应于乙酰基及其他酰基的有机酸(乙酸、 丙酸、丁酸)或它们的酸酐(乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐)的混合有机酸成分进行酯化，合成纤 维素酯。作为满足所述式(S-l)及(S-2)的丙烯酸纤维素的合成方法，可以参照发明协会 公开技报(公技编号2001-1745、2001年3月15日发行、发明协会)7 12页的记载、日本 特开2006-45500号公报、日本特开2006-241433号公报、日本特开2007-138141号公报、日 本特开2001-188128号公报、日本特开2006-142800号公报、日本特开2007-98917号公报 记载的方法。 作为能用于本发明的聚碳酸酯系树脂，可以举出具有双酚A骨架的聚碳酸酯树 脂，是使二羟基成分和碳酸酯前体通过界面聚合法或熔融聚合法反应得到的树脂，可以 优选使用例如日本特开2006-277914号公报、日本特开2006-106386号公报、日本特开 2006-284703号公报中记载的树脂。例如，作为市售品，可以使用"特氟隆MD1500"(出光兴 产公司制)。 所谓能用于本发明的苯乙烯系树脂，是指聚合苯乙烯及它们的衍生物作为主要成 分得到的树脂以及其他树脂的共聚物，只要无损本发明的效果，就没有特别限定，可以使用 公知的苯乙烯系热塑性树脂等，特别优选可以改善双折射、薄膜强度、耐热性的共聚树脂。
作为共聚树脂，可以举出例如苯乙烯_丙烯腈系树脂、苯乙烯_丙烯酸系树脂、苯 乙烯-马来酸酐系树脂或者上述树脂的多元(二元、三元等)共聚聚合物等。上述共聚树 脂中，从耐热性 薄膜强度的观点考虑优选苯乙烯_丙烯酸系树脂或苯乙烯_马来酸酐系 树脂。 所述苯乙烯-马来酸酐系树脂优选苯乙烯和马来酸酐的质量组成比为苯乙烯 马来酸酐=95 : 5 50 : 50，较优选苯乙烯马来酸酐=90 : io 70 : 30。另外，为
了调节固有双折射，可以优选对苯乙烯系树脂加氢。 作为所述苯乙烯-马来酸酐系树脂，可以举出例如NOVA Chemicals公司制的 "Daylark D332"等。 另外，作为苯乙烯-丙烯酸系树脂，可以使用下述旭化成化学公司制的"德路牌特 (亍》《7卜)980N"等。 所谓能用于本发明的丙烯酸系树脂，是指聚合丙烯酸、甲基丙烯酸及它们的衍生 物作为主要成分得到的树脂及其衍生物，只要无损本发明的效果，就没有特别限定，可以使 用公知的甲基丙烯酸系热塑性树脂等。
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作为聚合丙烯酸、甲基丙烯酸及它们的衍生物得到的树脂，可以举出例如下述通
式(1)表示的结构的树脂。
通式(1)
R2
CH2=C——g——OH GOOR1 所述通式(1)中，R1及R2分别独立地表示氢原子或碳原子数为1 20的有机残 基。所谓有机残基，具体地表示碳原子数为1 20的直链状、支链状或环状烷基。
作为聚合所述丙烯酸、甲基丙烯酸及它们的衍生物所得的树脂的具体例，优选 (甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、 (甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸 2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2，3，4，5，6-五羟基己酯及(甲 基)丙烯酸2，3，4，5-四羟基戊酯，从热稳定性优异的观点来看，较优选(甲基)丙烯酸甲 酯(以下也称为MMA)。可以使用上述树脂中的仅一种，也可以并用2种以上。另外，可以为 上述树脂中一种的均聚物，也可以为2种以上的共聚物，还可以为其他树脂的共聚物，但从 提高玻璃化转移温度的观点来看，特别优选与其他树脂的共聚物。 所述丙烯酸类共聚物树脂中，优选在构成树脂的全部聚合物中含有30摩尔％以 上MMA单元(单体)，较优选除MMA以外还含有内酯环单元、马来酸酐单元、戊二酸酐单元中 的至少一种单元，可以使用例如以下的单元。
(1)具有内酯单元的丙烯酸树脂 可以使用日本特开2007-297615号、日本特开2007-63541号、日本特开 2007-70607号、日本特开2007-100044号、日本特开2007-254726号、日本特开2007-254727 号、日本特开2007-261265号、日本特开2007-293272号、日本特开2007-297619号、日本特 开2007-316366号、日本特开2008-9378号、日本特开2008-76764号各公报中记载的树脂。 其中，较优选日本特开2008-9378中记载的树脂。
(2)具有马来酸酐单元的丙烯酸树脂 可以使用日本特开2007-113109号、日本特开2003-292714号、日本特开平 6-279546号、日本特开2007-51233号(此处记载的酸改性乙烯基)、日本特开2001-270905 号、日本特开2002-167694号、日本特开2000-302988号、日本特开2007-113110号、日本特 开2007-11565号各公报中记载的树脂。其中，较优选记载于日本特开2007-113109中的树 脂。另外，也可以优选使用市售的马来酸改性MAS树脂(例如旭化成化学(株)制德路牌 特980N)。 (3)具有戊二酸酐单元的丙烯酸树脂 可以使用日本特开2006-241263号、日本特开2004-70290号、日本特开 2004-70296号、日本特开2004-126546号、日本特开2004-163924号、日本特开2004_291302 号、日本特开2004-292812号、日本特开2005-314534号、日本特开2005-326613号、
18日本特开2005-331728号、日本特开2006-131898号、日本特开2006-134872号、日 本特开2006-206881号、日本特开2006-241197号、日本特开2006-283013号、日本 特开2007-118266号、日本特开2007-176982号、日本特开2007-178504号、日本特开 2007-197703号、日本特开2008-74918号、国际公开W02005/105918等各公报中记载的树 脂。其中，优选记载于日本特开2008-74918号公报中的树脂。 上述树脂的玻璃化转移温度(Tg)优选为106°C 17(TC，较优选为110°C 160。C，更优选为115°C 150°C。 上述树脂中，作为所述热塑性树脂，优选为环状烯烃系树脂，从高透明性、双折射 呈现性及耐热性的观点来看，较优选为降冰片烯系树脂，特别优选为加成聚合系的降冰片 烯系树脂。 另外，所述热塑性树脂为共聚物时，可以为无规共聚物，也可以为嵌段共聚物。
(添知剂) 本发明的薄膜可以含有上述热塑性树脂以外的材料，但优选含有1种或2种以上 上述热塑性树脂作为主成分(表示组合物中的所有材料中含有比例最高的材料，在含有2 种以上该树脂的方案中，表示上述树脂的总含有比例比其他材料各自的含有比例高)。作为 上述热塑性树脂以外的材料，可以举出各种添加剂，该例子中，包括稳定剂、紫外线吸收剂、 光稳定剂、增塑剂、微粒及光学调整剂。
稳定剂 本发明的薄膜可以含有至少一种稳定剂。优选在加热熔融所述热塑性树脂前或加 热熔融时添加稳定剂。稳定剂具有防止薄膜构成材料氧化、捕获分解而产生的酸、抑制或禁 止起因子光或热产生的自由基种的分解反应等作用。稳定剂通过包括未阐明的分解反应等 的各种分解反应，对于抑制引起着色或分子量降低等变质及生成挥发成分等有用。要求稳 定剂在用于将树脂制成薄膜的熔融温度下其本身不分解地发挥功能。稳定剂的代表例中包 括苯酚系稳定剂、亚磷酸系稳定剂(亚磷酸酯类)、硫醚系稳定剂、胺系稳定剂、环氧系稳定 剂、内酯系稳定齐U、胺系稳定齐U、金属惰性化剂(锡系稳定剂)等。上述稳定剂在日本特开 平3-199201号公报、日本特开平5-1907073号公报、日本特开平5-194789号公报、日本特 开平5-271471号公报、日本特开平6-107854号公报等中有记载，本发明中，优选使用苯酚 类或亚磷酸系稳定剂中的至少一种以上。苯酚系稳定剂中，特别优选添加分子量为500以 上的苯酚系稳定剂。作为优选的苯酚系稳定剂，可以举出受阻酚系稳定剂。
上述原料能作为市售品容易获得，由下述厂商销售。可以作为来自汽巴精化公 司的Irganox 1076、 Irganox 1010、 Irganox 3113、 Irganox 245、 Irganox 1135、 Irganox 1330、 Irganox 259、 Irganox 565、 Irganox 1035、 Irganox1098、 Irganox 1425WL获得。另 外，可以作为来自旭电化工业株式会社的Adekastab AO_50、 Adekastab AO_60、 Adekastab AO-20、 Adekastab AO_70、 Adekastab AO-80获得。进而，还可以作为来自住友化学株式会 社的S咖ilizer BP_76、Sumilizer BP-101、Sumilizer GA-80获得。另外，也可以作为来自 西普洛化成株式会社的Shinox 326M、Shinox 336B获得。 另外，作为上述亚磷酸系稳定剂，可以较优选使用日本特开2004-182979号公报 的

中记载的化合物。作为亚磷酸酯系稳定剂的具体例，可以举出日本特 开昭51-70316号公报、日本特开平10-306175号公报、日本特开昭57-78431号公报、日本
19特开昭54-157159号公报、日本特开昭55-13765号公报中记载的化合物。进而，作为其他稳定剂，可以优选使用发明协会公开技报(公技编号2001-1745、2001年3月15日发行、发明协会)17页 22页中详细记载的原料。 为了保持在高温下的稳定性，上述亚磷酸酯系稳定剂为高分子量是有用的，分子量为500以上，较优选为分子量为550以上，特别优选分子量为600以上是理想的。进而，优选至少一个取代基为芳香族性酯基。另外，亚磷酸酯系稳定剂优选为三酯，优选不混入磷酸、单酯或二酯杂质。存在上述杂质时，其含量优选为5质量％以下，较优选为3质量％以下，特别优选为2质量％以下。作为上述稳定剂，可以举出日本特开2004-182979号公报的

中记载的化合物等，进而也可以举出日本特开昭51-70316号公报、日本特开平10-306175号公报、日本特开平57-78431号公报、日本特开昭54-157159号公报、日本特开昭55-13765号公报中记载的化食物。作为亚磷酸酯系稳定剂的优选具体例，可以举出下述化合物，但可以用于本发明的亚磷酸酯系稳定剂并不限定于此。 上述稳定剂可以作为来自旭电化工业株式会社的Adekastab 1178、Adekastab2112、AdekastabPEP-8、AdekastabPEP-24G、PEP-36G、AdekastabHP-10市售，以及作为来自科莱恩公司的Sandostab P-EPQ市售，从而能获得。进而，也可以优选使用在同一分子内具有苯酚和亚磷酸酯的稳定剂。对于上述化合物，在日本特开平10-273494号公报中还有详细记载，该化合物例含有在所述稳定剂的例中，但并不限定于此。作为代表性的市售品，有住友化学株式会社的Sumilizer GP。上述稳定剂可以作为来自住友化学株式会社的S咖ilizer TPL、 S咖ilizerTPM、 S咖ilizerTPS、 S咖ilizerTDP市售。也能作为来自旭电化工业株式会社的AdekastabAO-412S获得。 所述稳定剂可以分别单独使用或组合2种以上进行使用，可以在不损害本发明目的的范围内适当选择其配合量。相对于热塑性树脂的质量，稳定剂的添加量优选为0. 001 5质量％，较优选为0. 005 3质量％，更优选为0. 01 0. 8质量％。
紫外线吸收剂 本发明的薄膜可以含有1种或2种以上紫外线吸收剂。紫外线吸收剂优选从防止劣化的观点来看波长为380nm以下的紫外线吸收性能优异且从透明性的观点来看波长为400nm以上的可见光吸收少的紫外线吸收剂。例如，可以举出氧基二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水杨酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、镍配位化合物盐系化合物等。特别优选的紫外线吸收剂为苯并三唑系化合物或二苯甲酮系化合物。其中，苯并三唑系化合物对于纤维素混合酯的不必要的着色少，故而优选。上述紫外线吸收剂在日本特开昭60-235852号、日本特开平3-199201号、日本特开平5-1907073号、日本特开平5-194789号、日本特开平5-271471号、日本特开平6-107854号、日本特开平6-118233号、日本特开平6-148430号、日本特开平7-11056号、日本特开平7-11055号、日本特开平7-11056号、日本特开平8-29619号、日本特开平8-239509号、特开2000-204173号的各公报中有记载。 紫外线吸收剂的添加量优选为热塑性树脂的0. 01 2质量％，更优选为0. 01
1.5质量％。
光稳定剂 本发明的薄膜可以含有1种或2种以上光稳定剂。作为光稳定剂，可以举出受阻胺
20光稳定剂(HALS)化合物，较具体而言，如美国专利第4， 619， 956号说明书的第5 11栏及美国专利第4， 839， 405号说明书的第3 5栏中所记载，包括2， 2， 6， 6-四烷基哌啶化合物或上述化合物的酸加成盐或它们与金属化合物的配位化合物。上述光稳定剂作为来自旭电化的Adekastab UV-57、Adekastab UV-52、Adekastab UV-67、Adekastab UV-62、AdekastabLA-77以及作为来自汽巴精化的TINUVIN 765、TINUVIN 144市售。 上述受阻胺类光稳定剂可以分别单独使用或组合2种以上进行使用。当然上述受阻胺类光稳定剂还可以与增塑剂、稳定剂、紫外线吸收剂等添加剂并用，也可以导入上述添加剂的一部分分子结构中。在无损本发明效果的范围内确定其配合量，通常相对于100质量份热塑性树脂为0. 01 20质量份左右，优选为0. 02 15质量份左右，特别优选为0. 05 10质量份左右。光稳定剂可以在调制热塑性树脂组合物的熔融物的任一个阶段中添加，例如也可以在调制熔融物工序的最后添加。
增塑剂 本发明的薄膜可以含有增塑剂。从提高机械性质、赋予柔软性、赋予耐吸水性、降低水分透射率等薄膜改质的观点来看优选添加增塑剂。另外，用熔融制薄膜法制造本发明的薄膜时，与所用的热塑性树脂的玻璃化转移温度相比，添加增塑剂来降低薄膜构成材料的熔融温度，或与无添加的热塑性树脂相比，在相同的加热温度中降低粘度，基于上述目的而添加。本发明的薄膜中，优选使用例如选自磷酸酯衍生物、羧酸酯衍生物中的增塑剂。另外，优选使用日本特开2003-12859号中记载的聚合重均分子量为500-10000的乙烯性不饱和单体得到的聚合物、丙烯酸系聚合物、侧链上具有芳香环的丙烯酸系聚合物或侧链上具
有环己基的丙烯酸系聚合物等。
微粒 本发明的薄膜可以含有微粒。作为微粒，可以举出无机化合物的微粒和有机化合物微粒，可以为任一种。从抑制浊度为较低的观点来看，本发明的热塑性树脂中所含微粒的平均一次粒子大小优选为5nm 3 u m，较优选为5nm 2. 5 u m，更优选为10nm 2. 0 u m。此处，微粒的平均一次粒子大小如下确定，用透射型电子显微镜(倍率为50万 100万倍)观察热塑性树脂，求出100个粒子的一次粒子大小的平均值。微粒的添加量相对于热塑性树脂优选为0. 005 1. 0质量％，较优选为0. 01 0. 8质量％，更优选为0. 02 0. 4质 光学调整剂 本发明的薄膜可以含有光学调整剂。作为光学调整剂，可以举出迟滞调整剂，可以使用例如日本特开2001-166144号、日本特开2003-344655号、日本特开2003-248117号、日本特开2003-66230号各公报记载的迟滞调整剂。通过添加光学调整剂，可以控制面内的迟滞(Re)、厚度方向的迟滞(Rth)。优选添加量为0 10质量％ ，较优选为0 8质量％ ，更优选为0 6质量％。 另一方面，本发明的薄膜包含热塑性树脂，并且由于以单层呈现光学补偿性能，所以优选实质上不含有用于涂布型薄膜的聚合性液晶化合物。本发明中，所谓聚合性液晶化合物，是指下述化合物如日本特开2001-328973号公报、日本特开2006-227630号公报、日本特开2006-323069号公报、日本特开2007-248780号公报所记载的，涂布在支撑体使其取向后，通过聚合，可以固定取向状态的液晶化合物。上述聚合性液晶化合物优选小于10质
21量％，进一步特别优选小于5质量％。 作为上述聚合性液晶化合物，可以举出例如日本特开2001-328973号公报的

、日本特开2006-227630号公报的
、日本特开2007-248780号公报 的

中记载的化合物。
[薄膜的制造方法] 本发明的薄膜制造方法是包括下述工序的薄膜制造方法，所述工序为使含有热 塑性树脂的组合物的熔融物通过构成挟压装置的第一挟压面与第二挟压面之间并连续地 挟压，从而成形为薄膜状，所述方法的特征在于，所述挟压装置施加在该熔融物的压力为 20 500MPa，且所述第一挟压面的移动速度比所述第二挟压面的移动速度快。施加上述较 大的压力是与现有方法不同的本发明的特征。通过在上述条件下制薄膜，可以得到满足下 式(II)及(II)的特征之一的本发明的薄膜。
20nm《Re
《300nm (II)
5nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《300nm (III) 作为在所述第一挟压面和第二挟压面速度不同的挟压装置，可以举出例如圆周速 度互不相同的2个辊的组合或日本特开2000-219752号公报中记载的速度互不相同的辊 与接触带的组合(单面带方式)或带与带的组合(两面带方式)等。其中，从均匀地施加 20 500MPa的高压考虑，优选圆周速度不同的2个辊。可以将压力测定薄膜(富士薄膜公 司制中压用PRESCALE等)利用二个辊来测定辊压力。 以下，详细说明本发明的薄膜制造方法(以下也称为本发明的制造方法)。
〈供给热塑性树脂组合物的熔融物> 本发明的制造方法中，首先，熔融挤出含有热塑性树脂的组合物(有时称为"热塑 性树脂组合物")。包括使热塑性树脂组合物通过构成挟压装置的第一挟压面和第二挟压 面之间并连续地挟压，从而成形为薄膜状(以下，也称为挟压工序)的工序，但在上述挟压 工序中，供给含有热塑性树脂的组合物的熔融物(以下也称为熔体)的方法没有特别限定。 例如，作为熔体的具体供给方法，可以为使用将热塑性树脂组合物熔融并挤出为薄膜状的 挤出机的方案，也可以为使用挤出机和模的方案，还可以为将热塑性树脂一次性固化制成 薄膜状后，通过加热装置熔融形成熔体，供给到制薄膜工序中的方案。 本发明的薄膜制造方法包括下述工序从模熔融挤出含有所述热塑性树脂的组合 物(以下也称为热塑性树脂组合物)的工序，使熔融挤出的熔融物通过所述第一挟压面与 所述第二挟压面之间的工序，这从进一步抑制所得薄膜的光学特性的不均的观点来看是优 选的。 熔融挤出所述热塑性树脂组合物时，进行熔融挤出前，优选将热塑性树脂组合物 进行颗粒化。市售品的热塑性树脂(例如T0PAS恥013、特氟隆MD1500、德路牌特980N、 DayLark D332等)有时也可以被颗粒化，但未被颗粒化时，可以使用以下的方法。作为所述 热塑性树脂，可以使用作为本发明薄膜中所含的热塑性树脂进行说明的热塑性树脂，优选 范围也相同。 干燥所述热塑性树脂组合物后，使用双轴混炼挤出机在150°C 30(TC下熔融后， 将挤出成颗粒状的树脂组合物在空气中或水中进行固化剪碎来进行制作。另外，也可以用 挤出机熔融后，边从喷嘴直接向水中挤出边进行剪切的水中剪切法等进行颗粒化。作为用于颗粒化的挤出机，可以使用单螺杆挤出机、非咬合型异向转动双螺杆挤出机、咬合型异向转动双螺旋挤出机、咬合型同向转动双螺杆挤出机等。挤出机的转动数优选为10rpm 1000rpm，较优选为20rpm 700rpm。挤出滞留时间为10秒 10分钟，较优选为20秒 5分钟。颗粒的大小没有特别限定，通常为10mm3 1000咖3左右，较优选为30咖3 500咖3左右。 优选在供给热塑性树脂组合物的熔融物前减少颗粒中的水分。优选干燥温度为40 20(TC，更优选为60 150°C。优选由此将含水率设定为1. 0质量％以下，更优选设定为O. 1质量％以下。进而，优选减少颗粒中的溶剂量。优选的干燥温度与水分的优选干燥温度相同。由此，可以将本发明的薄膜中的残留溶剂量控制在理想的范围。干燥可以在空气中进行，也可以在氮中进行，还可以在真空中进行。 使用挤出机进行熔融挤出时，接下来，经由挤出机的供给口将干燥后的颗粒供给到汽缸内，使其混炼及熔融。汽缸内优选例如从供给口侧依次由供给部、压縮部、计量部构成。挤出机的螺杆压縮比优选1. 5 4. 5，汽缸长度相对于汽缸内径之比(L/D)优选20 70，汽缸内径优选30mm 150mm。供给所述热塑性树脂组合物的供给装置(例如模)的挤出温度(以下也称为喷出温度)根据热塑性树脂的熔融温度来确定，但通常优选为190 30(TC左右。进而，为了防止残留氧导致的熔融树脂氧化，优选使挤出机内处于惰性(氮等)气流中或边使用带有通风口的挤出机进行真空排气边实施。 为了过滤热塑性树脂组合物中的异物，优选设置组合了整流板(breaker plate)式的过滤或叶型盘式过滤器的过滤装置。过滤可以以一个阶段进行，也可以以多个阶段过滤进行。过滤精度优选为15 ii m 3 ii m，更优选为10 y m 3 y m。作为滤材，优选使用不锈钢。滤材的构成可以使用编织线材得到的构成、烧结金属纤维或金属粉末得到的构成(烧结滤材)，其中，优选烧结滤材。 为了减少喷出量的变化来提高厚度精度，优选在挤出机与供给所述热塑性树脂组合物的供给装置(例如模)之间设置齿轮泵。由此，可以将供给所述热塑性树脂组合物的供给装置(例如模)内的树脂压力变化幅度设定在±1%以内。为了提高齿轮泵的定量供给性能，可以采用改变螺杆的转动数，将齿轮泵前的压力控制为一定的方法。
通过如上所述构成的挤出机熔融，根据需要经由过滤器、齿轮泵，熔融树脂被连续地输送到供给所述热塑性树脂组合物的供给装置(例如模)中。所述模可以为T模、鱼尾形模、衣架模中的任一种类型的模。另外，优选在供给所述热塑牲树脂组合物的供给装置(例如模)紧前方装上用于提高树脂温度均匀性的静态混合器。 所述供给装置为模时，模出口部分的间隙(以下也称为模口缺口 )通常可以为薄膜厚的1. 0 30倍，优选为5. 0 20倍。具体而言，优选为0. 04 3mm，较优选为0. 2 2mm，特别优选为0. 4 1. 5mm。 本发明的制造方法中，模口前端的曲率半径没有特别限定，可以使用公知的模。
所述模优选能以5 50mm的间隔调整厚度。另外，计算下游的薄膜厚、厚度偏差，使该结果回馈至模的厚度调整的自动厚度调整模也是有效的。
除单层制薄膜装置以外，也能使用多层制薄膜装置。 由此，树脂从供给口进入挤出机后直至从供给所述热塑性树脂组合物的供给装置
23(例如模)排出的滞留时间优选为3分钟 40分钟，更优选为4分钟 30分钟。
〈挟压工序> 下面，使被供给的热塑性树脂组合物的熔融物通过构成挟压装置的第一挟压面与
第二挟压面之间，并连续地挟压从而成形为薄膜状，冷却固化，得到薄膜。此时，从生产率稳
定化的观点来看，优选熔融物与第一挟压面和第二挟压面中任一个面先剥离，然后熔融物
再与另一个面剥离。本发明的制造方法中，第一挟压面的移动速度比所述第二挟压面的移
动速度快，虽然先剥离一侧的面可以为第一挟压面，也可以为第二挟压面，但从抑制剥离断
裂的观点来看，优选先剥离一侧的面为第一挟压面(移动速度快的挟压面)。 本发明的制造方法中，除了将供给的热塑性树脂组合物的熔融物在构成挟压装置
的第一挟压面与第二挟压面之间连续地挟压，成形为薄膜状的现有技术以外，还在挟压装
置间施加20 500MPa的压力，由此制作具有本发明的光学特性的薄膜。优选压力为25
300MPa，更优选为25 200MPa，特别优选为30 150MPa。 本发明的制造方法中，优选将下式(I)定义的所述挟压装置的第一挟压面与第 二挟压面的移动速度比调节为0. 60 0. 99，所供给的热塑性树脂组合物的熔融物通过挟 压装置时赋予剪切应力，由此制造本发明的薄膜。挟压装置的移动速度比优选为0. 60 0. 99，较优选为0. 75 0. 98。 移动速度=第二加压面的速度/第一挟压面的速度(I) 如果2个挟压面的移动速度比为0.60以上，则所得薄膜的Re[+40。]与 Re[-40。]之差的绝对值增加，可以满足所述式(III)而优选。如果移动速度比为0. 60以 上，则难以赋予所得薄膜的表面伤痕而优选。如果所述2个挟压面的移动速度比为0. 60 0. 99，则难以赋予薄膜表面伤痕，可以稳定地制造平滑性良好的薄膜，所以优选。
(喷出温度) 本发明的制造方法中，从提高热塑性树脂组合物的熔融物的成型性和抑制劣化 的观点来看，喷出温度(供给装置出口处的热塑性树脂组合物的熔融物温度)优选为 Tg+50 Tg+200。C，较优选为Tg+70 Tg+180。C，特别优选为Tg+90 Tg24+150。C。即，如 果为Tg+5(TC以上，则热塑性树脂组合物的熔融物的粘度充分降低，所以成型性良好，如果 为Tg+200°C以下，则热塑性树脂组合物的熔融物难以劣化。
(空隙) 本发明的制造方法中，从例如模等供给装置向挟压装置供给热塑性树脂组合物 时，从空隙间熔体的保温的观点来看，空隙(从供给装置的出口至挟压装置的熔融物着地 点的距离)优选尽可能地接近，具体地优选为10 300mm，较优选为20 250mm，特别优选 为30 200mm。
(线速度) 本发明的制造方法中，从在空隙中熔体的保温的观点来看，优选线速度(制膜速 度)为2m/分钟，较优选为5m/分钟以上，特别优选为10m/分钟以上。线速度加快时，可以 抑制空隙中熔体的冷却，并且可以在熔体温度较高的状态下，通过挟压装置赋予更均匀的 剪切变形。需要说明的是，所谓线速度，表示热塑性树脂组合物的熔融物通过挟压装置间的 速度及传输装置的膜传输速度。 本发明的制造方法中，所述第一挟压面与所述第二挟压面的温度使用被挟压的熔融树脂的玻璃化转移温度Tg，优选设定为Tg-70°C Tg+1(TC，较优选设定为Tg-50°C Tg+5t:，更优选设定为Tg-40°C Tg°C。另外，与被挟压的熔融树脂相比，优选设定为低于 20°C 200。C，较优选设定为低于20°C 150。C，特别优选设定为低于20°C IO(TC。上述 温度控制可以通过在所述挟压面内部通入调节温度的液体、气体来达到。进而，为了控制 Re[4(T ]与Re[-4(T ]之差，可以赋予所述第一挟压面与所述第二挟压面的表面温度差 异。优选的温度差为5°C 8(TC，较优选为20°C 8(TC，更优选为20°C 60°C。
本发明的制造方法中，薄膜状熔融物的宽度没有特别限定，例如可以为200 2000mm。(使用2个辊的铸件) 使热塑性树脂熔融物通过构成所述挟压装置的第一挟压面与第二挟压面之间并 连续地挟压成形为薄膜状的方法中，优选通过2个辊(例如接触辊(第1辊)与冷硬轧辊 (第2辊))间。所述挟压装置具有圆周速度互不相同的2个辊时，并以圆周速度快的辊表 面为第一挟压面，以圆周速度慢的辊表面为第二挟压面。需要说明的是，本说明书中，具有 多个传输所述熔融物的浇铸辊时，将最接近最上游的所述热塑性树脂组合物供给装置(例 如模)的浇铸辊也称为冷硬轧辊。以下，说明使用2个辊的本发明制造方法的优选方案。
本发明的薄膜制造方法中，从所述供给装置挤出的熔融物的着地点没有特别限 定，从该供给装置挤出的熔体的着地点与通过该接触辊与该浇铸辊最接近的部分的间隙中 点的垂直线之间的距离可以为零，也可以偏离。 所谓所述熔体的着地点，是指从供给装置挤出的熔体最初与接触辊或冷硬轧辊接 触(着地)的地点。另外，所谓所述接触辊和浇铸辊的间隙的中点，是指接触辊和浇铸辊的 间隙达到最窄小之处的接触辊表面与浇铸辊表面的中点。 所述2个辊(例如接触辊或浇铸辊)的表面优选算术平均高度Ra为100nm以下， 较优选为50nm以下，更优选为25nm以下。 本发明的制造方法中，上述2个辊的各个宽度没有特别限定，可以对应于薄膜状 熔融物的宽度，自由改变采用。 本发明的制造方法中，为了增加所述范围的辊压力，适当改变汽缸设定值。所述汽 缸设定值根据所用的树脂材料或2个辊的材质而不同，但例如薄膜状熔融物的实效宽度为 200mm时，优选为3 IOOKN，较优选为3 50KN，特别优选为3 25KN。
本发明的制造方法中，为了增加所述范围的辊压力，使用辊的肖氏硬度优选为 30HS以上、较优选为45NS以上的辊。另外，本发明中，由于在辊压较高的状态下连续制薄 膜，所以在辊间夹持薄膜中的异物或空气中的灰尘等时，辊有时凹陷或损伤。因此，特别优 选上述2个辊的肖氏硬度为50HS以上，更优选为60 90HS。 可以由使用JIS Z 2246的方法在辊宽度方向测定5处及在圆周方向测定5处得 到的值的平均值求出肖氏硬度。 从达到所述肖氏硬度的观点来看，优选所述2个辊的材质为金属，较优选为不锈 钢，也优选镀敷处理表面得到的辊。辊的肖氏硬度可以通过金属数据书(日本金属学会编) 的第3章所记载那样的淬火、回火的方法来达到。另外，如果2个辊的材质为金属，则表面 的凹凸小，难以赋予薄膜表面损伤，故而优选。另一方面，橡胶辊或用橡胶涂覆的金属辊只 要能达到上述辊压力，就可以没有特别限定地使用。
对于所述接触辊，可以使用例如日本特开平11-314263号公报、日本特开 2002-36332号公报、日本特开平11-235747号公报、国际公开第97/28950号说明书、日本特 开2004-216717号公报、日本特开2003-145609号公报中记载的接触辊。
进而，本发明的制造方法中，优选通过调整通过薄膜状熔融物的2个辊的圆周速 度比，在熔融树脂通过2个辊时赋予剪切应力，来制造本发明的薄膜。 为了得到本发明的薄膜，虽然所述2个辊的速度任一方较快均可，但接触辊较慢 时，在接触辊侧形成堤(bank)(熔融物的剩余成分滞留在辊上而形成的滞留物)。由于接触 辊与熔融物接触的时间短，所以形成在接触辊侧的堤无法充分冷却，发生剥离断裂，容易导 致面状故障。因此，优选较慢的辊为冷硬轧辊(第2辊)，较快的辊为接触辊(第1辊)。
进而，本发明的制造方法中，作为上述2个辊，优选分别使用直径较大的辊，具体 而言，优选使用直径为200 1500mm，较优选为300mm 1000mm，特别优选为350mm 800mm，进一步特别优选350 600mm，进而优选350 500mm的2个辊。使用直径较大 的辊时，薄膜状熔融物与辊的接触面积扩大，施加剪切的时间进一步延长，所以可以制 造Re[+40。]与Re[-40。]的差较大的薄膜，并且可以抑制Re
、Re[+40。]及 Re[-40。]的不均。另外，由于也可以降低辊的变形，所以优选。需要说明的是，本发明的 制造方法中，所述2个辊的直径可以相同，也可以不同。 本发明的制造方法中，所述2个辊以互不相同的圆周速度驱动。所述2个辊可以 牵连驱动，也可以独立驱动，但为了抑制Re[O。 ]、Re[+4(T ]及Re[-4(T ]的不均，优选 为独立驱动。 另外，本发明的制造方法中，优选将从供给装置供给的热塑性树脂组合物的熔融 物进行保温直至其与2个辊中的至少一个接触前，从而减少宽度方向的温度分布，具体而 言，优选将宽度方向的温度分布设定为5t:以内。为了减少温度分布，优选在所述空隙的至 少一部分配置具有绝热功能或热反射功能的部件，从外部空气隔离该熔融物。由此，通过将 绝热部件配置在通路中而与外部空气隔离，可以抑制外部环境例如风的影响，从而可以抑
制薄膜的宽度方向的温度分布。薄膜状熔融物的宽度方向的温度分布较优选在士3t:以内， 更优选在士rc以内。 进而，使用所述隔离部件时，由于可以在薄膜状熔融物温度较高的状态、即熔融粘 度较低的状态下通过辊间，所以有容易制作本发明的薄膜的效果。 需要说明的是，薄膜状熔融物的温度分布可以通过接触式温度计或非接触式温度 计来测定。 所述隔离部件例如隔开间隙设置在2个辊的两端部的内侧、且热塑性树脂组合物 的供给装置(例如模)的宽度方向的侧面。隔离板可以直接固定在供给装置的侧面，也可 以通过支撑部件支撑固定。隔离部件的宽度例如优选设定为与供给装置侧面的宽度同等， 从而可以有效地隔离供给装置放热导致的上升气流。 隔离部件与薄膜状熔融物的宽度方向端部的间隙优选以有效地隔离沿着辊表面 流入的上升气流的基础上狭窄地形成，较优选距离薄膜状熔融物的宽度方向端部50mm左 右。需要说明的是，供给装置的侧面和隔离部件的间隙不一定需要设置，但优选形成为可以 排出包围在遮蔽部件内的空间内的气流的程度，例如10mm以下。 另外，作为具有绝热功能及/或热反射功能的材料，优选挡风性或保温性优异的材料，例如可以优选使用不锈钢等的金属板。 作为进一步消除Re[O。 ]、Re[+4(T ]及Re[-40。]的不均的方法，有提高薄膜状熔融物与浇铸辊接触时的密接性的方法。具体而言，组合静电施加法、气刀法、气室法、真空喷嘴法等方法，可以提高密接性。上述提高密接性的方法可以对薄膜状熔融物的整面实施，也可以对一部分实施。 由此制膜后，优选除使用通过薄膜状熔融物的2个辊(例如浇铸辊和接触辊)以外，还使用l根以上浇铸辊来冷却薄膜。通常使接触辊与最上游侧(接近热塑性树脂组合物的供给装置、例如模的一侧)的最初的浇铸辊接触地进行配置。通常，使用3根冷却辊能比较良好地进行，但并不是该限定。具有多根浇铸辊的间隔优选在面间为0. 3mm 300mm，较优选为lmm 100mm，更优选为3mm 30mm。 进一步优选将加工后的薄膜两端进行修整。用修整刀切下的部分可以破碎后再次用作原料。另外，优选对一端或两端进行增厚加工(滚花处理)。用增厚加工得到的凹凸高度优选为lym 50iim，较优选为3iim 20iim。增厚加工可以使两面为凸，也可以使单面为凸。增厚加工的宽度优选为lmm 50mm，较优选为3mm 30mm。增厚加工可以在室温 30(TC下实施。 巻绕前，优选在单面或两面粘附层压薄膜。层压薄膜厚优选为5 ii m 100 ii m，较
优选为10iim 50iim。材质为聚乙烯、聚酯、聚丙烯等，没有特别限定。 巻绕张力优选为2kg/m宽度 50kg/m宽度，较优选为5kg/m宽度 30kg/m宽度。 由本发明的制造方法得到的薄膜在未拉伸时的膜厚优选为lOOym以下。用于液
晶显示装置等中时，从薄型化的观点考虑，优选为80 ii m以下，特别优选为60 ii m以下，进一
步特别优选为40iim以下。〈拉伸、张弛处理〉 进而，通过上述方法制膜后，可以进行拉伸及/或张弛处理。例如，可以用以下的
(a) (g)的组合实施各工序。 (a)横拉伸 (b)横拉伸一张弛处理 (c)纵拉伸 (d)纵拉伸一张弛处理 (e)纵(横)拉伸一横(纵)拉伸 (f)纵(横)拉伸一横(纵)拉伸一张弛处理 (g)横拉伸一张弛处理一纵拉伸一张弛处理 上述工序中特别优选工序(a) (d)。 可以使用拉幅机实施横拉伸。即，用夹子夹持膜的宽度方向的两端部，向横向扩幅，由此来拉伸。此时，通过向拉幅机内输送所希望温度的风，可以控制拉伸温度。拉伸温度优选为Tg-10。C Tg+60。C，较优选Tg-5。C Tg+45。C，更优选Tg-10。C Tg+20。C以下。另外，优选的横拉伸倍率为1.2 3.0倍，较优选为1.2 2.5倍，更优选为1.2 2.0倍。
通过在上述拉伸前预热、在拉伸后进行热定型，可以减少拉伸后的Re、 Rth分布，并减小安装所伴有的取向角不均。可以进行预热、热定型中的任一种，但较优选进行两者。上述预热、热定型优选用夹子夹持来进行，即优选与拉伸连续进行。
预热可以在比拉伸温度高1°C 50°C左右的温度下进行，优选高2°C 40°C以下，更优选高3°C 30°C 。优选的预热时间为1秒 10分钟，较优选为5秒 4分钟，更优选为10秒 2分钟。预热时，优选将拉幅机的宽度保持为大致一定。此处，所谓"大致"，是指未拉伸薄膜的宽度的±10%。
热定型可以在比拉伸温度低rc 5(rc的温度下进行，较优选低2t: 4(rc，更优
选低3°C 30°C。进一步优选在拉伸温度以下且Tg以下。优选的预热时间为1秒 10分钟，较优选为5秒 4分钟，更优选为10秒 2分钟。热定型时，优选将拉幅机的宽度保持为大致一定。此处，所谓"大致"，是指拉伸结束后的拉幅机宽度的0% (与拉伸后的拉幅机宽度相同的宽度) _10% (由拉伸后的拉幅机宽度縮小10%的宽度=縮幅)。扩幅至拉伸幅度以上时，容易在薄膜中发生残留变形，故而不优选。 纵拉伸可以通过一边加热2对辊间一边使出口侧的圆周速度比入口侧的圆周速度快来达到的。此时，通过改变间隔(L)和拉伸前的薄膜宽度(W)来改变厚度方向的迟滞的呈现性。L/W(称为纵横比)为2 50以下(长间距拉伸)中，容易制作Rth小的薄膜，L/W为0.01 0.3(短间距)时，可以制作Rth大的薄膜。本实施方案中，可以使用长间距拉伸、短间距拉伸以及长、短间距拉伸之间的区域(中间拉伸=L/W超过0. 3且为2以下)中的任一种，但优选可以减小取向角的长间距拉伸、短间距拉伸。进而，较优选区别下述两种情况进行使用，即要求高Rth时，使用短间距拉伸，要求低Rth时，使用长间距拉伸。
拉伸温度优选为Tg-10 °C Tg+60 °C ，较优选为Tg-5 °C Tg+45 °C ，更优选为Tg-l(TC Tg+2(TC以下。另外，优选的纵拉伸倍率为1.2 3.0倍，较优选为1. 2 2. 5倍，更优选为1.2 2.0倍。 进而，在上述拉伸后进行张弛处理可以改善尺寸稳定性。热张弛优选在制膜后、纵拉伸后、横拉伸后中的任一个工序后进行，或者在其中两种工序后进行。张弛处理可以在拉伸后连续联机进行，也可以拉伸巻绕后脱机进行。 热张弛优选在下述条件边传输边实施，在(Tg-30) °C (Tg+30) 。C，较优选在(Tg-30) °C (Tg+20) "C，更优选在(Tg-15) °C (Tg+10) 。C下，实施1秒 10分钟，较优选5秒 4分钟，更优选10秒 2分钟，张力为0. lkg/m 20kg/m，较优选为lkg/m 16kg/m，更优选为2kg/m 12kg/m。
[偏振板] 通过在本发明的薄膜层叠至少偏振片(以下也称为偏振薄膜)，可以得到本发明的偏振板。以下，说明本发明的偏振板。作为本发明的偏振板的例子，可以举出为了使偏振薄膜的一面具有保护薄膜和补偿视野角这2种功能而制作的偏振板和层叠在TAC等保护薄膜上的复合型偏振板。 本发明的偏振板只要使用本发明的薄膜和偏振片，就没有特别限定。例如，在本发明的偏振板包含偏振片和保护其两面的二张偏振板保护薄膜(透明聚合物薄膜)的情况下，可以将本发明的薄膜用作至少一个面的偏振板保护薄膜。另外，本发明的偏振板可以在至少一个面具有用于与其他部件粘接的粘接剂层。另外，在本发明的偏振板中，如果本发明的薄膜表面为凹凸结构，则具有防眩光性(防眩性)的功能。进而，本发明的偏振板中，也优选使用在本发明薄膜的表面还层叠防反射层(低折射率层)得到的本发明的防反射薄膜或在本发明薄膜的表面还层叠光学各向异性层得到的本发明的光学补偿薄膜。
28
通常，液晶显示装置由于在二张偏振板之间设置有液晶单元，所以具有4张偏振
板保护薄膜。本发明的薄膜可以用于4张偏振板保护薄膜中的任一张，本发明的薄膜可以
特别有利地用作配置在液晶显示装置的液晶单元与偏振板之间的保护薄膜。 本发明的偏振板较优选为依次层叠丙烯酸纤维素薄膜、偏振片及本发明的薄膜的
构成。另外，也较优选依次层叠丙烯酸纤维素薄膜、偏振片、本发明的薄膜及粘接剂层的构成。(光学薄膜) 本发明的偏振板的光学薄膜中可使用本发明的薄膜。另外，也可以预先对所述薄膜实施表面处理。作为表面处理方法，可以举出电晕放电、辉光放电、UV照射、火焰处理等方法。(丙烯酸纤维素薄膜) 本发明的偏振板的丙烯酸纤维素膜中，可使用公知的偏振板用丙烯酸纤维素薄膜。可以优选使用例如公知的三乙酰基纤维素(TAC)薄膜(例如富士胶片(株)制FUJITACT-60)等。另外，也可以预先对上述丙烯酸纤维素薄膜实施表面处理。作为表面处理方法，可以举出例如皂化处理等。
(偏振片) 作为所述偏振片，可以使用例如将聚乙烯醇薄膜浸渍在碘溶液中进行拉伸得到的偏振片等。 用于本发明的偏振片只要能达到本发明的目的，就能选择任意适当的偏振片。作为所述偏振片，可以举出例如使亲水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性物质进行单轴拉伸得到的偏振片、聚乙烯醇的脱水处理物或聚氯乙烯的脱盐酸处理物等聚烯系取向薄膜等。作为上述亲水性高分子薄膜，可以举出例如聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇
系薄膜、乙烯，乙酸乙烯基酯共聚物系部分皂化薄膜等。本发明中，优选使聚乙烯醇系薄膜吸附碘得到的偏振片。 所述偏振片优选进一步具有钾及硼中的至少一种。所述偏振片通过含有钾及硼，可以得到具有优选范围的复合弹性模量(Er)、并且偏光度高的偏振片(偏振板)。制造含有钾及硼中至少一种的偏振片时，例如可以将作为偏振片的形成材料的薄膜浸渍在钾及硼的至少一种的溶液中。所述溶液可以兼作含碘的溶液。 作为得到所述聚乙烯醇系薄膜的方法，能采用任意适当的成型加工法。作为所述成型加工法，可以应用现有公知的方法。另外，也可以在所述聚乙烯醇系薄膜中直接使用市售的薄膜。作为市售的聚乙烯醇系薄膜，可以举出例如(株)Kuraray制的商品名"KurarayVinylon Film"、Tohcello (株)制的商品名"Tohcello Vinylon Film"、日本合成化学工业(株)制的商品名"日合Vinylon Film"等。 关于偏振片的制造方法的一例，例如，以聚乙烯醇系树脂为主成分的高分子薄膜(巻筒薄膜)浸渍在含有纯水的膨润浴、及含有碘水溶液的染色浴中，用速度比不同的辊赋予薄膜长度方向张力，同时实施膨润处理和染色处理。接着，将实施了膨润处理和染色处理的薄膜浸渍在含有碘化钾的交联浴中，用速度比不同的辊赋予薄膜的长度方向张力，同时实施交联处理及最终的拉伸处理。经交联处理后的薄膜用辊浸渍在含有纯水的洗浴中，实施水洗处理。经水洗处理的薄膜进行干燥调节水分率后巻绕。如上所述，将巻筒薄膜拉伸
29例如原来长度的5倍 7倍，可以得到偏振片。 为了提高与粘接剂的密接性，所述偏振片可以实施任意的表面改质处理。作为所述表面改质处理，可以举出例如电晕放电处理、等离子体处理、辉光放电处理、火焰处理、臭氧处理、UV臭氧处理、紫外线处理等。上述处理可以单独或组合2种以上进行使用。
(粘接剂层) 本发明的偏振板可以具有粘接剂层作为最外层的至少一层(有时将该偏振板称
为粘接型偏振板)。作为特别优选的方案，可以在没有粘接所述光学薄膜的偏振片的一侧设置用于与其他光学薄膜或液晶单元等其他部件粘接的粘接剂层。(偏振板的制造方法) 说明本发明的偏振板的制造方法。 本发明的偏振板可以通过使用粘接剂在上述偏振片的至少一个面粘合本发明的薄膜的单面(实施表面处理时为表面处理面)来制造。另外，按照丙烯酸纤维素薄膜、偏振片及本发明薄膜的顺序粘合时，可以使用粘接剂在偏振片的两面粘合偏振片和其他薄膜来制造本发明的偏振板。 本发明的偏振板的制造方法中，优选直接粘合本发明的薄膜和偏振片。
作为所述粘接剂，可以使用公知的偏振板制造用粘接剂。另外，也优选在所述偏振片与各薄膜之间具有粘接剂层的方案。作为所述粘接剂的具体例，可以使用聚乙烯醇或聚乙烯醇縮乙醛(例如聚乙烯醇縮丁醛)的水溶液或乙烯基类聚合物(例如聚丙烯酸丁酯)的胶乳。特别优选的粘接剂是完全皂化的聚乙烯醇的水溶液。所述聚乙烯醇类粘接剂优选含有聚乙烯醇系树脂和交联剂。 本发明的偏振板的制造方法不限定于上述方法，也可以使用其他方法。例如，可以使用日本特开2000-171635号、日本特开2003-215563号、日本特开2004-70296号、日本特开2005-189437号、日本特开2006-199788号、日本特开2006-215463号、日本特开2006-227090号、日本特开2006-243216号、日本特开2006-243681号、日本特开2006-259313号、日本特开2006-276574号、日本特开2006-316181号、日本特开2007_10756号、日本特开2007-128025号、日本特开2007-140092号、日本特开2007-171943号、日本特开2007-197703号、日本特开2007-316366号、日本特开2007-334307号、日本特开2008-20891号各公报等中记载的方法。上述方法中，较优选日本特开2007-316366号、日本特开2008-20891号公报中记载的方法。 优选在偏振薄膜的另一个表面也粘附保护薄膜，上述保护薄膜可以为本发明的薄膜。另外，可以利用丙烯酸纤维素膜、环状聚烯烃系聚合物薄膜等用作现有偏振板的保护薄膜的各种薄膜。 由此得到的本发明的偏振板优选在液晶显示装置内使用，可以设置在液晶单元的可见侧、背光侧的任一个单侧，也可以设置在两侧，没有限定。作为能应用本发明的偏振板的图像显示装置的具体例，可以举出电致发光(EL)显示器、等离子体显示器(PD)、场致发射显示器(FED :Field EmissionDisplay)之类自发光型显示装置。液晶显示装置适用于透射型液晶显示装置、反射型液晶显示装置等。
[液晶显示装置] 本发明的薄膜及偏振板可以用于各种模式的液晶显示装置。可以优选用
30于TN(Twisted Nematic)、 OCB (Optically Compensatory Bend) 、ECB(ElectricallyControlled Birefringence)模式的液晶显示装置，其中，可以较优选用于TN、 ECB模式液晶显不。[光学补偿薄膜] 本发明的薄膜可以优选用作光学用途用薄膜，可以特别优选用作光学补偿薄膜。
〈层叠薄膜> 从削减薄膜的粘合工序或抑制光在层叠界面上反射的观点来看优选本发明的薄膜为单层薄膜，但也可以通过在本发明的薄膜进一步层叠功能层，制成层叠薄膜。本发明的
薄膜为包含2层以上层的层叠薄膜时，从低去偏光度化的观点来看优选所有层不含有所述液晶性聚合化合物。 本发明的薄膜还可以制成赋予光学各向异性层的层叠薄膜。可以用于本发明的光学各向异性层没有特别限定，可以举出例如日本特开2001-328973号公报的

、日本特开2006-227630号公报的
、日本特开2007-248780号公报的

中记载的光学各向异性层。[O352][防反射薄膜] 通过在本发明的薄膜上赋予防反射层，能得到本发明的防反射薄膜。通常在(透明)支撑体上设置也作为防污性层的低折射率层和具有比低折射率层高的折射率的至少一层(高折射率层及中折射率层)而得到防反射层。可以用于本发明的防反射层没有特别限定，可以优选使用例如日本特开2007-65635号公报的

、日本特开2008-262187号公报的

或

、日本特开2008-268939号公报的

中记载的防反射层。
实施例
以下举出实施例更具体地说明本发明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的主旨，可以适当变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。[制造例1]制造环状烯烃共聚物颗粒 作为环状烯烃共聚物，使用Polyplastics公司制的"T0PAS恥013"颗粒。需要说明的是，"T0PAS恥013"显示正的固有双折射性。另外，该树脂的玻璃化转移温度为136°C。
[制造例2]制造丙烯酸纤维素颗粒 根据日本特开2006-348123号公报的实施例1中记载的方法制造醋酸丙酸纤维素(CAP)，根据常规方法将其颗粒化。需要说明的是，使用的CAP组成中，乙酰化度为0. 15，丙酰化度为2. 60，所有酰基取代度为2. 75，数均聚合度DPn = 118，显示正的固有双折射性。另外，该树脂的玻璃化转移温度为137°C。
[制造例3]制造聚碳酸酯的颗粒 作为聚碳酸酯，使用出光兴产公司制的"特氟隆MD1500"颗粒。需要说明的是，"特氟隆MD1500"显示正的固有双折射性。另外，该树脂的玻璃化转移温度为142°C。
[制造例4]制造丙烯酸系树脂颗粒 作为丙烯酸系树脂，使用作为苯乙烯_丙烯酸类共聚物的旭化成化学产品公司制的"德路牌特980N"的颗粒。需要说明的是，"德路牌特980N"显示负的固有双折射性。另外，该树脂的玻璃化转移温度为123°C。
[实施例1][O365](薄膜的制作) 使用环状烯烃共聚物T0PAS恥013颗粒，在10(TC下干燥2小时以上，在26(TC下熔融，使用单轴混炼挤出机进行混炼挤出。此时，在挤出机与模之间依次配置筛滤器、齿轮泵、叶盘式过滤器，用熔体配管连接这些装置。用表1所记载的挤出温度(喷出温度)将其从宽度为450mm、模口间距为lmm的模中挤出。 然后，在用浇铸辊与冷硬轧辊挟压的部分的中央(参见图7)挤出熔体(熔融树脂)。此时，在最上游侧的宽度为1800mm、直径为400mm的镀敷HCr的金属制浇铸辊(冷硬轧辊)中设定汽缸，达到下述表1所记载的接触压力，使其与宽度为200mm、直径为350mm的镀敷MCr的金属制接触辊接触。在没有熔体的状态下将Presscale(富士胶片公司制)夹持在2个辊中来测定接触压力，将该值作为制膜时施加在熔体中的压力。需要说明的是，测定压力时的辊温度为25t:，辊速度均为5m/分钟。接触辊和冷硬轧辊使用下述表1记载的肖氏硬度的辊。使用上述辊，将接触辊速度、冷硬轧辊速度及周速度比设定为下述表1所记载的条件，进行制膜。 需要说明的是，接触辊、冷硬轧辊的温度设定为Tg-5°C，模与熔体着地点的距离设定为200mm。另外，制膜的气氛为25°C 、60% 。 然后，巻绕前将两端(总幅度的各5cm)进行修整后，在两端施加宽度为10mm、高度为20ym的增厚加工(滚花)。另外，制膜宽度为200mm，在制膜速度为5m/分钟(冷硬轧辊速度)下巻绕450m。制膜后膜厚为lOOym，制作了实施例1的薄膜。
(薄膜的迟滞) 在所得的实施例1的薄膜中央部的彼此离开2mm以上的任意10处位置进行采样，使用K0BRA，测定薄膜倾斜方位的迟滞值Re[+40。]和Re[-40。]，将其平均值记载于表1 。同样地，使用米勒矩阵偏振计，将与薄膜倾斜方位垂直的方向的CRe[+40。] 一并记载于表1。需要说明的是，实施例1的薄膜的倾斜方位为薄膜的长度方向。
(薄膜的去偏光度) 将所得的实施例1的薄膜采样为10X10cm，在偏振板之间插入样品薄膜，使其面内的滞相轴与偏振板的吸取轴平行，从相对于所述偏振板的面垂直的方向照射光，通过将偏振板配置成正交尼科耳配置与平行尼科耳配置时的亮度，使用下式计算。
去偏光度=2X (正交尼科耳下的亮度)/(平行尼科耳下的亮度)(式)
(薄膜的残留溶剂量) 将300mg所得的实施例1的薄膜溶解于30ml溶剂(只要是溶解薄膜的溶剂即可，
没有特别限定，但本实施例中，对于CAP、苯乙烯丙烯酸酯及PC，使用二氯甲烷，对于环状烯
烃，使用正己烷)中。使用气相色谱(GC)在下述条件下测定该薄膜溶解液。柱OB-WAX( 0.25mmcpx30m 、膜厚0. 25 ym) 柱温50。C 载气氮 分析时间15分钟 试样注入量liil
32
从预先测定的标准曲线求出实施例1的薄膜的残留溶剂量。其结果示于下述表1。[O383](薄膜的表面粗糙度) 根据以下的方法求出实施例1的薄膜的表面粗糙度Ra。其结果示于下述表1。
将薄膜采样为10X 10cm，使用激光干涉计F601 (富士能(株)公司制)，求出Ra值。(薄膜的消光位置) —边以l。的跨度从O。转动至90° ，一边用偏光显微镜(MKON公司制EclipseE600P0L)观测实施例1的薄膜切片的消光位置，将观察到的偏光显微镜图像在厚度方向分割成20份，从单侧的表面依次分层，将从与实施例1的薄膜移动速度快的第一挟压面(接触辊)接触的一侧的面(下述图4中的薄膜下侧表面)向薄膜厚方向的距离与消光位置的关系总结于图3中。由图3可知，本发明的薄膜形成消光位置沿着厚度方向变化的特别的内部结构。另外，由图3可知，本发明的薄膜中，消光位置在距离薄膜下侧表面60 80ym的部位急剧变化。 进而，关于实施例1的膜，将用偏光显微镜(NIKON公司制EclipseE600P0L)拍摄使2张偏振板转动10。时和转动6(T 、70° 、80°时的薄膜切片的消光位置，总结于图4的(A) (D)。可知在使2张偏振板转动10°时的情况(A)中，在距离薄膜下侧表面约80ym的部分消光，而在其以外的部分不消光。另一方面，使2张偏振板转动60。的情况(B)中，在距离薄膜下侧表面约5 ii m的部分消光，而其以外的部分不消光，使2张偏振板转动70°的情况(C)下，在约35 ii m的部分消光，在使2张偏振板转动80°的情况(D)下，在约70 y m的部分消光，而其以外的部分不消光。 由以上可知，实施例1的薄膜中，从薄膜切片的下侧表面向上侧表面依次观测时，最初观测的消光位置与最后观测的消光位置相差超过3。。另外，与干涉色图表对照，测定双折射的大小，结果与现有的涂布型薄膜不同(现有的涂布型薄膜在厚度方向的双折射的大小一定)，双折射的大小为最大的部分存在于薄膜内部。
[实施例2 21 、比较例1 8] 除变更所用的树脂和如下述表1所述变更制薄膜条件之外，与实施例1相同的操作，得到各实施例及比较例的光学薄膜。各实施例及比较例的光学薄膜的光学特性示于下述表l。需要说明的是，比较例4中所用的橡胶辊的肖氏硬度不能基于JIS Z 2246的测定方法测定，为20HS以下。 另外，用与实施例1相同的方法确认实施例2 21的膜厚度方向的消光位置、双折射的大小，均从薄膜切片的下侧表面向上侧表面依次观测时，最初观测的消光位置与最后观测的消光位置相差超过3。。另一方面，从薄膜切片的下侧表面向上侧表面依次观测比较例1及2的薄膜时，最初观测的消光位置与最后观测的消光位置仅相差3。以下。需要说明的是，实施例、比较例的薄膜的倾斜方位均为薄膜的长度方向。另外，薄膜面内的滞相轴在实施例20、实施例21、比较例7为薄膜宽度方向，其他薄膜为薄膜长度方向。
術 由表1可知，实施例1 21中，均形成良好的相位差的倾斜结构。另外，实施例1 21的薄膜中，薄膜厚均为200ym以下，除此之外，环形迟滞超过5nm，残留溶剂量实质
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34上为0% ，是表面粗糙度Ra较小的薄膜。 另一方面，比较例1及2是将接触压力设定为本发明的制造方法的下限值以下的例子，所得薄膜的相位差的倾斜结构小，作为相位差薄膜的性能不充分。进而，对于比较例1的薄膜，将从与薄膜移动速度快的第一挟压面(接触辊)接触一侧的面(下述图4中的薄膜下侧表面)向厚度方向的距离与消光位置的关系总结于表3。另外，用偏光显微镜(MK0N公司制EclipseE600P0L)拍摄将2张偏振板转动10°的情况和转动60。 、70° 、80°的情况下的薄膜切片的消光位置，总结于图4(a) (d)。对于图3及图4，与实施例1的薄膜对比，如图3可知道，比较例1的薄膜中，消光位置位于83 86° ，从薄膜切片的下侧表面向上侧表面依次观测时，最初观测的消光位置与最后观测的消光位置之差为3°以下，是大致单一倾斜的薄膜。 进而，实施例1 7及19的薄膜中，在厚度方向分割20份的薄膜的第5 15份的部分观测到最大消光位置的位置。另外，在实施例1 7及19的薄膜中，在厚度方向分割20份的薄膜的第5 15份的部分观测到双折射的最大值的位置。其他实施例的薄膜中，在厚度方向分割20份的薄膜的第3 18份的部分观测最大消光位置的位置及双折射的最大值的位置。 比较例3是将接触压力设定为本发明制造方法的上限值以上的例子，接触辊及浇铸辊(冷硬轧辊)变形，不能制膜。比较例4中，使用橡胶辊作为接触辊，将汽缸压力设定为IOKN，但接触压力仅升高至lMPa，橡胶辊变形，不能制膜。比较例5 7变更树脂的种类，将接触压力设定为本发明的制造方法的下限值以下，所得薄膜的相位差的倾斜结构作为相位差薄膜的性能不充分。进而，比较例1 7的薄膜均是环形迟滞实质上为Onm的薄膜。
实施例的薄膜和比较例的薄膜的内部结构差异较大的原因在于接触压力。S卩，实施例的薄膜中，通过提高接触压力，在辊间积极形成堤，使用堤的流动取向，呈现相位差。因此，呈现起因于堤流速的特殊的内部结构。另一方面，认为比较例的薄膜由于接触压力低，几乎不形成堤，仅赋予树脂起不同圆周速度辊的简单剪切变形，制作基本为单一倾斜的相位差薄膜。 另外，比较例8是将圆周速度比设定为本发明的上限以上的例子，确认了制作不具有倾斜方位的薄膜。 进而，除将接触辊及冷硬轧辊的温度变更为本发明优选范围的上限以上的Tg+15°C以外，与实施例1相同地进行制膜，制作了具有特殊内部结构的薄膜，发生剥离截断故障。然后，除将接触辊及冷硬轧辊的温度变更为本发明优选范围的下限以下的Tg-75t:以外，与实施例l相同地操作，进行制膜，制作了具有特殊内部结构的薄膜，但产生横断。然后，除将圆周速度比变更为本发明优选范围的下限以下的O. 56以外，与实施例l相同地进行制膜，制作了具有特殊内部结构的薄膜，但在薄膜的整个面上发生擦伤，同时在金属辊的表面也发生擦伤。下面，除将辊的肖氏硬度变更为本发明优选范围的下限以下的25HS以外，与实施例l相同地操作，进行制膜，制作了具有特殊内部结构的薄膜，但确认由于在制膜中辊凹陷，所以连续制膜适宜性低。
[比较例9] 按照记载于日本特开平6-222213号公报中的方法制作倾斜取向膜，制成比较例9的薄膜。需要说明的是，比较例9的薄膜的膜厚为100 ym。
比较例9的薄膜中，Re
不均非常严重，并且发生显著的横断，均匀性明显差 于实施例1的薄膜。 进而，关于比较例9的薄膜，用偏光显微镜(NIKON公司制EclipseE600P0L)拍摄 将2张偏振板转动10。的情况和转动60。 、70° 、80°的情况下的薄膜切片的消光位置，总 结于图5的(A) (D)。针对图5说明特别是与实施例1的薄膜对比时特征性的差异点。 首先，由图5可获知，比较例9的薄膜中，消光位置位于约60° ，从薄膜切片的下侧表面向上 侧表面依次观测时，最初观测的消光位置与最后观测的消光位置之差较小，可知为基本单 一倾斜的薄膜。 由此可知，本发明的薄膜具有与用现有方法制造的薄膜完全不同的内部结构。
由上述内容可知，根据本发明的制造方法，通过将接触压设定为本发明的范围，并 赋予2个辊间圆周速度差，可以制造具有良好的倾斜结构、具有特殊内部结构的薄膜。
另外，下面通过实施例1 21，说明本发明的薄膜是具有特殊内部结构的薄膜，特
别是可以优选用作光学补偿薄膜。 [(M08](偏振板的制作、[比较例10]) 使用制成的实施例1的薄膜及比较例1的薄膜制作偏振板。具体而言，首先，使 拉伸后的聚乙烯醇薄膜吸附碘，制作偏振薄膜。使用该偏振薄膜，按照图l所示地配置，粘 合80 ii m的TAC膜(富士胶片公司制)、单轴拉伸后的包含降冰片烯系高分子薄膜的Re = 270nm的A /2板、本发明1或比较例1的薄膜，使本发明1或比较例1的薄膜的冷硬轧辊 面与A /2板接触。由此，分别制作2张使用实施例1的薄膜的偏振板PL1及使用比较例1 的薄膜的PL2。另外，根据日本特开2002-311426号公报的实施例1的方法，制作比较例10 的液晶涂布型薄膜，与上述实施例不同，与偏振板粘合，制作偏振板PL3。
(半透射ECB模式液晶显示装置的制作和评价) 下面，使用上述偏振板，制作ECB型的半透射型液晶显示装置。使用的液晶单元 如下作为液晶材料，使用ZLI-1695 (Merck公司制)，液晶层厚在反射电极区域(反射显示 部)为2.4ym，在透射电极区域(透射显示部)为4.9ym。液晶层的基板两界面的倾角为 2度，液晶单元的And在反射显示部大约为150nm，在投射显示部大约为320nm。
如图1所示地在该液晶单元上下配置上述制作的2种偏振板。偏振板Pl及P2中 的箭头表示各个吸收轴，相位差薄膜中的箭头表示各个滞相轴，ECB单元的箭头表示在各个 对置面上实施的摩擦处理的摩擦方向。此处，12点方向为0。，时针转动为+。
对于本发明实施例的液晶显示装置LCD1，求出黑白显示时的对比度为10以上的 视野角度，LCD1中，左右上下的视野角之和达到280。。另外，正面CR达到250。另一方面， 使用比较例1的薄膜的LCD2中，对比度比为10以上的视野角度在上下左右的视野角之和 为100° ，正面CR也为100以下。另外，比较例10的薄膜中，LCD3中，左右上下的视野角之 和达到280° ，但正面CR低为180。测定比较例10的薄膜的去偏光度，为8. 53X10—4，与实 施例1的薄膜相比，高出一个位数左右。 由此可知，如果使用本发明的薄膜，则组合在液晶显示装置中时，能进行充分的视
野角补偿，并且正面CR上升。(液晶显示装置用防反射薄膜) 将实施例1的光学薄膜根据发明協会公开技报(公技编号2001-1745)的实施例47制作低防反射薄膜，组合在液晶显示装置中时，能得到良好的光学性能。 [O417](有机EL用防反射薄膜) 根据日本特开平9-127885号公报，粘合实施例1的光学薄膜与直线偏振板，使滞 相轴和吸收轴的角度为45度，制作防反射薄膜。将该防反射薄膜组合在有机EL显示装置 中，确认了防反射功能。进而，由本发明膜的特征确认了具有不对称的视野角性能。
3权利要求
光学薄膜的制造方法，其特征在于，包括使含有热塑性树脂的组合物的熔融物通过构成挟压装置的第一挟压面与第二挟压面之间并连续地挟压，从而成形为薄膜状的工序，其中，所述挟压装置施加在所述熔融物的压力为20～500MPa，并且使所述第一挟压面的移动速度比所述第二挟压面的移动速度快。
2. 如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，还包括将含有所述热塑性树脂的组合物从模中熔融挤出的工序，并使已熔融挤出的熔 融物通过所述第一挟压面与所述第二挟压面之间。
3. 如权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，由下式(I)定义的所述挟压装置的第一挟压面与第二挟压面的移动速度比为0.60 0. 99，移动速度比=第二挟压面的速度/第一挟压面的速度(I)。
4. 如权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，将所述第一挟压面与所述第二挟压面的温度控制在Tg-70°C Tg+10°C ，其中，Tg表示 所述热塑性树脂的玻璃化转移温度。
5. 如权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述挟压装置包含圆周速度互不相同的2个辊，其中以圆周速度快的辊的表面作为第 一挟压面，以圆周速度慢的辊的表面作为第二挟压面。
6. 如权利要求5所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于， 所述2个辊的肖氏硬度均为45HS以上。
7. 如权利要求5所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于， 所述2个辊均为金属辊。
8. 如权利要求1或2所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述热塑性树脂是选自环状烯烃系树脂、丙烯酸纤维素系树脂、聚碳酸酯系树脂、苯乙 烯系树脂及丙烯酸系树脂中的至少一种。
9. 一种光学薄膜，其特征在于，由权利要求1 8中任一项所述的光学薄膜的制造方法来制造，且厚度为200 ii m以下。
10. —种光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜为包含热塑性树脂的具有倾斜方位的光学薄膜，其中，将在面内具有倾斜方位和厚度方向的所述薄膜的切片配置在2张配置成正交尼 科耳的偏振板之间，并且一边从与所述偏振板的面相垂直的方向照射光， 一边使2张配置 成正交尼科耳的偏振板在O。 90°的范围内转动时，沿着厚度方向从薄膜切片的一端向 另一端依次观测时，最初观测的消光位置和最后观测的消光位置相差超过3° 。
11. 如权利要求IO所述的光学薄膜，其特征在于，在所述薄膜切片的双折射实质上不为0的部分观测到所述消光位置的变化。
12. 如权利要求10或11所述的光学薄膜，其特征在于，沿着厚度方向从薄膜切片的一端向另一端依次观测时，双折射的大小成为最大的部分 存在于薄膜内部。
13. 如权利要求10或11所述的光学薄膜，其特征在于，在具有薄膜倾斜方位和薄膜法线的面内，从该法线方向测定的波长为550nm下的迟滞 Re
、从相对于该法线向倾斜方位侧倾斜40。的方向测定的迟滞Re[+4(T ]和从相 对于该法线向与倾斜方位相反的侧倾斜40。的方向测定的迟滞Re[-40。]同时满足下式 (II)及(III)，20nm《Re[O。]《300nm (II)5nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《300nm (III)。
14. 如权利要求10或11所述的光学薄膜，其特征在于， 所述光学薄膜在膜厚方向的迟滞Rth满足下式(IV)， 40nm《Rth《500nm (IV)Rth = ((nx+ny)/2-nz)X d式中，nx、ny、nz表示折射率椭圆体的各主轴方向的折射率，d表示膜厚。
15. 如权利要求13所述的光学薄膜，其特征在于， 所述光学薄膜含有热塑性树脂，且同时满足下式(V) (VII)， 60nm《Re[O。]《200nm (V)60nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《250nm (VI) 40nm《Rth《350nm (VII)。
16. —种光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜是包含热塑性树脂的具有倾斜方位的光学薄膜，其中，在具有薄膜倾斜方位和薄膜法线的面内，从该法线方向测定的波长为550nm下 的迟滞Re[O。]、从相对于该法线向倾斜方位侧倾斜40。的方向测定的迟滞Re[+40。]和 从相对于该法线向与倾斜方位相反侧倾斜40。的方向测定的迟滞Re[-40。]同时满足下 式(VIII)及(IX)，60nm《Re[O。]《300nm (VIII)40nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《300nm (IX)。
17. 如权利要求16所述的光学薄膜，其特征在于， 膜厚方向的迟滞Rth满足下式(X)，40nm《Rth《500nm (X) Rth = ((nx+ny)/2-nz)X d式中，nx、ny、nz表示折射率椭圆体的各主轴方向的折射率，d表示膜厚。
18. 如权利要求16或17所述的光学薄膜，其特征在于， 所述光学薄膜同时满足下式(XI) (XIII)，60nm《Re[O。]《200nm (XI)60nm《|Re[+40° ]-Re[_40° ] |《250nm (XII)40nm《Rth《350nm (XIII)。
19. 如权利要求9、10、11、16、17中任一项所述的光学薄膜，其特征在于， 所述光学薄膜实质上不含有残留溶剂。
20. 如权利要求9、10、11、16、17中任一项所述的光学薄膜，其特征在于， 所述光学薄膜的膜厚为100 ii m以下。
21. —种偏振板，其特征在于，具有偏振片和权利要求9 20中任一项所述的光学薄膜。
22. —种光学补偿薄膜，其特征在于， 使用权利要求9 20中任一项所述的光学薄膜。
23. —种防反射薄膜，其特征在于， 使用权利要求9 20中任一项所述的光学薄膜。
24. —种液晶显示装置，其特征在于， 使用权利要求9 20中任一项所述的光学薄膜。
全文摘要
一种膜的制造方法，包括使含有热塑性树脂的组合物的熔融物通过构成挟压装置的第一挟压面与第二挟压面之间并连续地加压，从而成形为薄膜状的工序，其中，所述挟压装置施加在该熔融物的压力为20～500MPa，并且使所述第一挟压面的移动速度比所述第二挟压面的移动速度快。由此，可以制造用于液晶显示装置时可以实现充分的光学补偿、具有特殊内部结构的光学薄膜。
文档编号B29C43/46GK101704287SQ20091016112
公开日2010年5月12日 申请日期2009年8月4日 优先权日2008年8月4日
发明者则常雅彦, 林直毅, 竹上龙太 申请人:富士胶片株式会社