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聚乙烯醇系薄膜及其制造方法、以及偏振膜与流程
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来源:国知局
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聚乙烯醇系薄膜及其制造方法、以及偏振膜与流程
技术特征:
技术总结
一种聚乙烯醇系薄膜,其中,厚度为5~60μm、宽度为2m以上、长度为2km以上,雾度为0.2%以下。因此,能够得到雾度低、表面平滑性也优异的聚乙烯醇系薄膜,进而,通过使用该聚乙烯醇系薄膜,能够得到偏振度、光线透射率优异的偏振膜。
技术研发人员:
方山智广;早川诚一郎;枝泽敏行;御手洗宏志
受保护的技术使用者:
日本合成化学工业株式会社
技术研发日:
2016.03.16
技术公布日:
2017.08.01
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