技术总结
本发明公开了一种真空炉，包括真空腔室，其底部设置凹槽型水冷套，凹槽型水冷套的凹槽底部有放置工件的载物台，所述凹槽型水冷套的凹槽侧壁和凹槽底部依次排列的加热组件对该工件进行加热；所述凹槽型水冷套用于冷却所述加热组件；为了冷却工件，在凹槽内还设置有环绕工件的环形制冷部件，其上设置有多个排气孔。本发明通过所述第一气体冷却装置经由所述管道向所述环形制冷部件通入第一冷却气体，并通过所述排气孔排出以冷却所述工件，由于输入到工件处的气体是冷却后的气体，因此比直接输出氮气的冷却时间短，冷却效率要高。
技术研发人员：向勇;傅绍英;杨小军;
受保护的技术使用者：成都西沃克真空科技有限公司;
文档号码：201610377867
技术研发日：2016.05.31
技术公布日：2016.10.12