热处理后的降温装置的制作方法

文档序号:11705695阅读:372来源:国知局

本发明属于一种降温装置,具体涉及一种热处理后的降温装置。



背景技术:

在运行考核期前,根据工艺要求需要对某些设备进行“热处理”工艺,即为其通入一定温度范围的热水并维持一定时间。通过上述方法除去设备内的水分和有机物,保证设备能够安全、稳定的运行。

当“热处理”工艺达到合格的标准后,按照技术要求对该设备按照一定的降温速率(℃/h)的标准进行降温处理。在降温过程中若降温速度过快,将导致设备受热不均匀,连接件出现松动,进而对设备的安全运行构成威胁。

因此,需要设计、制作一套热处理降温装置来满足工艺要求。



技术实现要素:

本发明是为了克服现有技术中存在的缺点而提出的,其目的是提供一种热处理后的降温装置。

本发明的技术方案是:

一种热处理后的降温装置,包括通过管路和设备串联成完整回路的热水箱、温度计、热水泵和流量计;热水箱和温度计之间的管路上设置有ⅰ号阀门;热水泵和流量计之间的管路上设置有ⅱ号阀门;设备出口与热水箱入口之间的管路上依次设置有ⅳ号阀门和ⅴ号阀门;表冷器与ⅳ号阀门和ⅴ号阀门并联连接,且在表冷器进口和出口段管路上分别设置ⅲ号阀门和ⅵ号阀门;表冷器一侧安装有轴流风机。

所述ⅴ号阀门与热水箱进口之间的管路上设置有压力表。

所述轴流风机出风口正对表冷器。

所述管路均为不锈钢管件。

所述温度计和热水泵与热水箱的出口连通。

本发明的有益效果是:

本发明在设备“热处理”工艺结束后,在降温过程中,可以有效、平稳的控制水温,保证水温能够按照一定的降温速率(℃/h)的标准降温,从而保证设备受热均匀,能够安全稳定的运行。此项装置已广泛的应用到试验系统中。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

其中:

1热水箱2温度计

3热水泵4流量计

5表冷器6轴流风机

7设备8压力表

9ⅱ号阀门10ⅲ号阀门

11ⅳ号阀门12ⅴ号阀门

13ⅵ号阀门14ⅰ号阀门。

具体实施方式

下面结合说明书附图及实施例对本发明热处理后的降温装置进行详细说明:

如图1所示,一种热处理后的降温装置,包括通过管路和设备7串联成完整回路的热水箱1、温度计2、热水泵3和流量计4;温度计2和热水泵3与热水箱1的出口连通;热水箱1和温度计2之间的管路上设置有ⅰ号阀门14;热水泵3和流量计4之间的管路上设置有ⅱ号阀门9;设备7出口与热水箱1入口之间的管路上依次设置有ⅳ号阀门11和ⅴ号阀门12;表冷器5与ⅳ号阀门11和ⅴ号阀门12并联连接,且在表冷器5进口和出口段管路上分别设置ⅲ号阀门10和ⅵ号阀门16;表冷器5一侧安装有轴流风机6。

所述ⅴ号阀门12与热水箱1进口之间的管路上设置有压力表8。

所述轴流风机6出风口正对表冷器5。

所述管路均为不锈钢管件。

本发明的使用方法:

(ⅰ)将表冷器5与ⅳ号阀门11和ⅴ号阀门12以并联的方式,并入到热水回水的干管上,形成降温过程完整的供水回路;

(ⅱ)打开ⅰ号阀门14,ⅱ号阀门9,启动热水泵3,使热水箱1内的热水流经流量计4,通过设备7,最后回到热水箱1;

(ⅲ)关闭ⅳ号阀门11和ⅴ号阀门12,打开表冷器5所在回水管路上的ⅲ号阀门10和ⅵ号阀门16,将表冷器5串联到供热水系统中,这样构成了“降温”回路;

(ⅳ)启动轴流风机6将冷空气吹向表冷器5,利用冷风将热水降温;通过换热给系统中的热水降温,为轴流风机安装开关按钮方便控制风机的启动、停止;

(ⅴ)通过查看温度计2控制水温,当水温下降较快时停止轴流风机6,这样通过循环往复的启动轴流风机6来控制降温速度维持在标准降温速率,达到工艺要求;

(ⅵ)当系统中的热水温度降至工艺要求后,停止降温系统;

(ⅶ)打开ⅳ号阀门11和ⅴ号阀门12;关闭ⅲ号阀门10和ⅵ号阀门16,关闭轴流风机6电源,降温过程结束,将系统恢复到正常的工作状态。

本发明在设备“热处理”工艺结束后,在降温过程中,可以有效、平稳的控制水温,保证水温能够按照一定的降温速率(℃/h)的标准降温,从而保证设备受热均匀,能够安全稳定的运行。此项装置已广泛的应用到试验系统中。



技术特征:

技术总结
本发明公开了一种热处理后的降温装置,包括通过管路和设备串联成完整回路的热水箱、温度计、热水泵和流量计;热水箱和温度计之间的管路上设置有Ⅰ号阀门;热水泵和流量计之间的管路上设置有Ⅱ号阀门;设备出口与热水箱入口之间的管路上依次设置有Ⅳ号阀门和Ⅴ号阀门;表冷器与Ⅳ号阀门和Ⅴ号阀门并联连接,且在表冷器进口和出口段管路上分别设置Ⅲ号阀门和Ⅵ号阀门;表冷器一侧安装有轴流风机。本发明在设备“热处理”工艺结束后,在降温过程中,可以有效、平稳的控制水温,保证水温能够按照一定的降温速率(℃/h)的标准降温,从而保证设备受热均匀,能够安全稳定的运行。此项装置已广泛的应用到试验系统中。

技术研发人员:袁宝和;李登伟;蔡斌;王东红;裴远星;刘伟;高玉鹏;刘万林;刘佳
受保护的技术使用者:核工业理化工程研究院
技术研发日:2017.05.23
技术公布日:2017.07.18
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1