专利名称：改进的光氧化污水处理装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种废水处理装置，是一种改进的光氧化法废水处理装置。
背景技术：
多种含有各种有机物的工业废水，有毒，致癌，严重威胁人类健康，危害大且处理 难。目前处理有机废水的方法主要有物化法、高级氧化法、厌氧生化法和好氧生化法等， 其中光化学氧化是高级氧化法中的一种。
光化学氧化又称紫外光催化氧化，是将紫外线辐射(uv)和氧化剂结合，通过紫外
线的激发，使氧化剂光分解产生氧化能力更强的自由基，从而可以氧化许多单独使用氧 化剂无法分解的难降解有机污染物。紫外线与氧化剂的共同作用，使其无论在氧化能力 还是在反应速率上，也都远远超过单独利用光诱导产生自由基的处理效果。目前此类处 理装置在用氧化剂进行处理时，采用的方式是将氧化剂直接注入反应器的被处理污水中，
使其在水中收到紫外线的照射而分解产生自由基(HO ，)。由于其瞬间产生大量自由基后， 会发生部分自由基间的相互结合而形成H20分子，从而导致了氧化剂的自消耗，降低了 氧化剂的利用率低，也提高了废水的处理成本。
实用新型内容
针对上述情况，本实用新型将提供一种改进的光氧化法废水处理装置，可以满意地 解决上述问题。
本实用新型改进的光氧化污水处理装置是以目前同类污水处理装置为基础，即在分 别设置有废水进口、废水出口、与氧化剂瀑入管连接的氧化剂加入口、曝气空气进口和 废气排出口的废水处理单元的容储处理空间的底部设置有托层和设置于其中的与空气进 口连接并设有若干曝气头的曝气管，在容储处理空间中设置有紫外线发射结构。在容储 处理空间的水面上方设置有第二组紫外线发射结构，而且与氧化剂加入口连接并带有投 料结构的氧化剂瀑入管也设置在容储处理空间的水面上方位置。
采用上述结构后，氧化剂经出水混合后由穿孔投料管投加于废水处理单元中，可以 使氧化剂先受到第二组紫外线发射结构的紫外线照射并开始分解产生适量自由基，然后 才进入废水溶液中，接受按常规方式设置在容储处理空间废水溶液中的紫外线发射结构 的紫外线照射，继续分解产生自由基。这样不仅可提高氧化剂的活性，既增加了单位溶液体积中的自由基数量，也降低了自由基瞬间同时产生导致的自由基间相互结合的自消 耗，同时氧化剂与污水中有机物的混合也可更加均匀，进一步提高了氧化剂利用率，加 快了废水处理速度。
由此可以理解，在上述结构基础上的一种更好方式，是将所说的第二组紫外线发射 结构设置在氧化剂穿孔投料管的下方。并且，以使所说的该第二组紫外线发射结构采用 设置为沿容储处理空间中水面上方的平行平面设置的若干个的形式为佳。
还可以理解的是，在上述结构基础上进一步改进的另一种措施，是在所说的第二组 紫外线发射结构和氧化剂穿孔投料管的上方，设置有适当形式的反射板等光学反射结构。 例如，在一个可供参考的实施例中，所说的该反射板等光学反射结构采用的是设置在装 置顶部位置的形式。
本实用新型上述结构形式改进的光氧化污水处理装置，可显著提高氧化剂的利用率， 从而解决了目前同类装置对氧化剂利用率低的问题，大幅度的降低了废水处理成本，可 应用于处理各种有机工业废水如含酚废水、染料废水、洗涤剂废水等高难降解有机废水。
以下结合附图所示实施例的具体实施方式
，对本实用新型的上述内容再作进一步的 详细说明。但不应将此理解为本实用新型上述主题的范围仅限于以下的实例。在不脱离 本实用新型上述技术思想情况下，根据本领域普通技术知识和惯用手段做出的各种替换 或变更，均应包括在本实用新型的范围内。
图1是一种本实用新型改进的光氧化污水处理装置的俯视状态结构示意图。 图2是图1的A-A剖面状态结构示意图。
具体实施方式
如图所示的是本实用新型改进的光氧化污水处理装置的结构设置形式。在分别设置 有废水进口、废水出口、与氧化剂瀑入管连接的氧化剂加入口、曝气空气进口和废气排 出口的废水处理单元l的容储处理空间的底部设置有托层7和设置于其中的与空气进口 连接并设有若干曝气头8的布气装置9，在容储处理空间中按常规方式设置有可淹没于 被处理污水溶液中的紫外灯管等紫外线发射结构6，在容储处理空间的水面上方沿容储 处理空间中水面上方的平行平面还设置有由若干个紫外灯管组成的第二组紫外线发射结 构5，与氧化剂加入口连接并带有布水装置4的氧化剂穿孔投料管3则设置在容储处理 空间的水面上方、且高于第二组紫外线发射结构5的位置处，在第二组紫外线发射结构 5和氧化剂穿孔投料管3的布水装置4上方的处理装置顶部，还设置有一块反射板形式 的光学反射结构2。
权利要求1.改进的光氧化污水处理装置，在分别设置有废水进口、废水出口、与氧化剂瀑入管连接的氧化剂加入口、曝气空气进口和废气排出口的废水处理单元(1)的容储处理空间的底部设置有托层(7)和设置于其中的与空气进口连接并设有若干曝气头(8)的布气装置(9)，在容储处理空间中设置有紫外线发射结构(6)，其特征是在容储处理空间的水面上方设置有第二组紫外线发射结构(5)，与氧化剂加入口连接并带有布水装置(4)的氧化剂穿孔投料管(3)也设置在容储处理空间的水面上方位置。
2. 如权利要求1所述的改进的光氧化污水处理装置，其特征是所说的第二组紫外线 发射结构(5)设置在氧化剂穿孔投料管(3)的布水装置(4)下方。
3. 如权利要求1所述的改进的光氧化污水处理装置，其特征是所说的第二组紫外线 发射结构(5)为沿容储处理空间中水面上方的平行平面设置的若千个。
4. 如权利要求1至3之一所述的改进的光氧化污水处理装置，其特征是所说的第二 组紫外线发射结构(5)和氧化剂穿孔投料管(3)的布水装置(4)的上方设置有光学反 射结构(2)。
5. 如权利要求4所述的改进的光氧化污水处理装置，其特征是所说的光学反射结构 (2)设置在装置的顶部。
专利摘要改进的光氧化污水处理装置，在分别设置有废水进口、废水出口、与氧化剂曝入管连接的氧化剂加入口、曝气空气进口和废气排出口的废水处理单元的容储处理空间的底部设置有托层和设置于其中的与空气进口连接并设有若干曝气头的曝气管，在容储处理空间中设置有紫外线发射结构。在容储处理空间的水面上方还设置有第二组紫外线发射结构，与氧化剂加入口连接并带有投料结构的氧化剂曝入管也设置在容储处理空间的水面上方位置。该污水处理装置可提高氧化剂的利用率，解决了目前同类装置对氧化剂利用率低的问题，大幅度地降低了废水处理成本，可应用于处理各种有机工业废水如含酚废水、染料废水、洗涤剂废水等。
文档编号C02F1/72GK201317702SQ20082022335
公开日2009年9月30日 申请日期2008年12月12日 优先权日2008年12月12日
发明者张成甫, 欣 潘, 谦 范, 谷雪荣 申请人:利尔化学股份有限公司