专利名称：防垢装置及系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及防垢除垢技术领域，尤其涉及一种防垢装置及系统。
背景技术：
在工业生产过程中，管线系统内的水一般含有较多的成垢离子，且通过这些成垢 离子所产生的垢主要是由碳酸盐和硫酸盐所组成的盐类垢，典型的是碳酸钙、硫酸钙、硫酸 钡、硫酸锶等。这类垢的形成一般会经历成核长大的过程先是少数垢核心在管道表面形 成、附着，然后更多的成垢化合物在这些核心周围聚集，成为更大的垢团。随着水流的冲刷， 一部分垢被冲掉，但其它的垢又在不断生成，最终可能阻塞管线系统。在工业生产领域，垢的生成不仅会对安全生产带来威胁，甚至可能会造成巨大的 经济损失。为防止垢的生成，通常在管线系统内添加相应的化学阻垢剂，通过化学阻垢剂的 添加可以在一定程度上解决垢的生成问题，但也带来了对管线系统中水的二次污染，从而 增加了后续对污染水进行再处理的成本。
实用新型内容本实用新型提供一种防垢装置及系统，用以解决现有技术中通过添加化学阻垢剂 以防止垢的生成的过程中，添加化学阻垢剂会对管线系统中水产生二次污染的技术缺陷， 实现了无污染防止垢生成的目的。本实用新型提供一种防垢装置，其中，包括一壳体、一法兰盘、一导电杆组、一第二 导电杆和一端盖；所述导电杆组包括至少两个第一导电杆，每个所述第一导电杆绝缘穿设于所述法
兰盘上；所述第二导电杆设置于所述至少两个第一导电杆之间，且所述第二导电杆穿设于 所述法兰盘上；所述壳体的侧壁上设置有出水口，所述壳体的一端与所述法兰盘密封连接，且每 个所述第一导电杆的一端及所述第二导电杆的一端设置于所述壳体内；所述端盖上设置有进水口，且所述端盖密封连接于所述壳体的另一端。本实用新型提供一种防垢系统，其中，包括至少一个上述防垢装置、供电电源和管 线系统；每个所述防垢装置通过其所包括进水口和出水口，串接于所述管线系统中；所述供电电源的阴极连接于每个所述防垢装置的第一导电杆，所述供电电源的阳 极连接于每个所述防垢装置的第二导电杆。本实用新型的防垢装置及系统，提供了一种防垢的方式，通过在导电杆组和第二 导电杆之间所形成的电磁场，使成垢反应加速进行，并对垢进行捕捉的技术方案，解决了现 有技术中通过添加化学阻垢剂以防止垢的生成的过程中，添加化学阻垢剂会对管线系统中 水产生二次污染的技术缺陷，实现了无污染防止垢生成的目的，避免了对水的二次污染，同时还具有防垢装置的占地面积小，能耗低的特点。
为了更清楚地说明本实用新型或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有 技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用 新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可 以根据这些附图获得其他的附图。图1为本实用新型防垢装置实施例一的剖视图；图2为本实用新型防垢装置实施例二的剖视图；图3为本实用新型防垢系统的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型中的 附图，对本实用新型中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用 新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术 人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。图1为本实用新型防垢装置实施例一的剖视图。如图1所示，本实施例的防垢装 置包括一壳体101、一法兰盘102、一导电杆组、一第二导电杆104和一端盖105，其中，导电 杆组包括至少两个第一导电杆103，每个第一导电杆103绝缘地穿设于法兰盘102上，第二 导电杆104同样绝缘地穿设于法兰盘102上，且位于至少两个第一导电杆103之间，在每个 第一导电杆103连接供电电源的阳极、以及第二导电杆104连接供电电源的阴极后，使导电 杆组和第二导电杆104之间形成对称的电磁场；壳体101可为一通芯圆筒，壳体101上设置 有出水口 1011，壳体101的一端与法兰盘102之间可通过螺栓密封连接，壳体101的另一端 上密封连接一端盖105，并端盖105上设置有进水口 1501，且每个第一导电杆103的一端及 第二导电杆104的一端设置于壳体101内。在实际工作中，管线系统中的水从进水口 1501进入壳体101内，由于导电杆组和 第二导电杆104之间所形成对称电磁场的作用下，而使得水中的成垢离子和水分子在各自 运动的同时，加速了成垢反应的加速，具体地，水中的负的碳酸氢根离子和正的成垢离子又 由于受该电磁场中受洛伦兹力的作用做螺旋式圆周运动，且正负离子旋同时转的方向正好 相反，这样正负离子相互磁撞和结合在一起的机会增大，在水中形成大量的微晶，当这些微 晶超过临界晶核时就会生成许多结晶中心，例如加速了 Ca2++2HC03_ — CaCO3丨+C02+H20向 右进行；再通过该电磁场可对加速所形成的垢进行微晶进行捕捉，快速形成垢层，再聚集形 层垢包并吸附在第二导电杆104周围。后续管线系统内水中的钙、镁、钡、锶等成垢离子含 量迅速地减少，降低了管线系统内成垢的可能性，进而阻止了垢的生成，最终达到防垢的目 的。本实施例的防垢装置，通过在导电杆组和第二导电杆之间所形成的电磁场，使成 垢反应加速进行，并对垢进行捕捉的技术方案，解决了现有技术中通过添加化学阻垢剂以 防止垢的生成的过程中，添加化学阻垢剂会对管线系统中水产生二次污染的技术缺陷，实现了无污染防止垢生成的目的。图2为本实用新型防垢装置实施例二的剖视图。如图2所示，本实施例防垢装置 在上述实施例一的基础上，至少两个第一导电杆103沿法兰盘102的圆周均勻设置，每个第 一导电杆103的一端均由一支撑架106连接，以对整个导电杆组起到支撑加固的作用，其中 支撑架106可为一圆环，且端盖105在密封连接壳体101另一端的同时，绝缘连接于该支撑 架106，进一步对整个导电杆组起到支撑加固的作用；进一步地，每个第一导电杆103的另一端设置有第一电极端接头107，第二导电杆 104的另一端设置有第二电极端接头109 ；供电电源的阳极可通过第一电极端接头107而为 第一导电杆103供电，且供电电源的阴极可通过第二电极端接头109而为第二导电杆104 供电；本实施例的防垢装置还包括第一电极保护套108和第二电极保护套110，每个第 一电极保护套108套设于一个第一电极端接头107上，且每个第二电极保护套110套设于 一个第二电极端接头109上，以分别对第一电极端接头上107和第二电极端接头109起到 保护的作用。本实施例防垢装置的工作过程与上述实施例一防垢装置的工作过程类似，这里不 再赘述。本实施例的防垢装置，通过在导电杆组和第二导电杆之间所形成的电磁场，使成 垢反应加速进行，并对垢进行捕捉的技术方案，解决了现有技术中通过添加化学阻垢剂以 防止垢的生成的过程中，添加化学阻垢剂会对管线系统中水产生二次污染的技术缺陷，实 现了无污染防止垢生成的目的，避免了对水的二次污染，同时还具有防垢装置的占地面积 小，能耗低的特点。图3为本实用新型防垢系统的结构示意图。结合图1、图2和图3所示，本实施例 的防垢系统包括至少一个上述实施例一或实施例二的防垢装置301、供电电源302和管线 系统303 ；其中，每个防垢装置301通过其所包括进水口 1051和出水口 1011，串接于管线系 统303中，使管线系统303中的水流经每个防垢装置301 ；供电电源302的阴极连接于每个 防垢装置301的第一导电杆，且供电电源302的阳极连接于每个防垢装置301的第二导电 杆。在实际工作中，管线系统303中的水从防垢装置301的进水口 1501进入防垢装置 301的壳体101内，由于导电杆组和第二导电杆104之间所形成对称电磁场的作用下，而使 得水中的成垢离子和水分子在各自运动的同时，加速了成垢反应的加速，具体地，水中的负 的碳酸氢根离子和正的成垢离子又由于受该电磁场中受洛伦兹力的作用做螺旋式圆周运 动，且正负离子旋同时转的方向正好相反，这样正负离子相互磁撞和结合在一起的机会增 大，在水中形成大量的微晶，当这些微晶超过临界晶核时就会生成许多结晶中心，例如加速 了 Ca2++2HC03- — CaCO3 I +C02+H20向右进行；再通过该电磁场可对加速所形成的垢进行微 晶进行捕捉，快速形成垢层，再聚集形层垢包并吸附在第二导电杆104周围。后续管线系统 内水中的钙、镁、钡、锶等成垢离子含量迅速地减少，降低了管线系统内成垢的可能性，进而 阻止了垢的生成，最终达到防垢的目的。本实施例的防垢系统，通过在防垢装置内导电杆组和第二导电杆之间所形成的电 磁场，使成垢反应加速进行，并对垢进行捕捉的技术方案，解决了现有技术中通过添加化学
5阻垢剂以防止垢的生成的过程中，添加化学阻垢剂会对管线系统中水产生二次污染的技术 缺陷，实现了无污染防止垢生成的目的，避免了对水的二次污染，同时还具有防垢装置的占 地面积小，能耗低的特点。 最后应说明的是以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制； 尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解: 其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等 同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术 方案的精神和范围。
权利要求一种防垢装置，其特征在于，包括一壳体、一法兰盘、一导电杆组、一第二导电杆和一端盖；所述导电杆组包括至少两个第一导电杆，每个所述第一导电杆绝缘穿设于所述法兰盘上；所述第二导电杆设置于所述至少两个第一导电杆之间，且所述第二导电杆穿设于所述法兰盘上；所述壳体的侧壁上设置有出水口，所述壳体的一端与所述法兰盘密封连接，且每个所述第一导电杆的一端及所述第二导电杆的一端设置于所述壳体内；所述端盖上设置有进水口，且所述端盖密封连接于所述壳体的另一端。
2.根据权利要求1所述的防垢装置，其特征在于，所述至少两个第一导电杆沿所述法 兰盘的圆周均勻设置。
3.根据权利要求1所述的防垢装置，其特征在于，还包括支撑架，所述支撑架连接于每 个所述第一导电杆的一端。
4.根据权利要求3所述的防垢装置，其特征在于，所述端盖绝缘连接于所述支撑架。
5.根据权利要求1所述的防垢装置，其特征在于，每个所述第一导电杆的另一端设置 有第一电极端接头。
6.根据权利要求5所述的防垢装置，其特征在于，还包括第一电极保护套，所述第一电 极保护套套设于所述第一电极端接头上。
7.根据权利要求1所述的防垢装置，其特征在于，所述第二导电杆的另一端设置有第 二电极端接头。
8.根据权利要求7所述的防垢装置，其特征在于，还包括第二电极保护套，所述第二电 极保护套套设于所述第二电极端接头上。
9.一种防垢系统，其特征在于，包括至少一个上述权利要求1至8任一防垢装置、供电 电源和管线系统；每个所述防垢装置通过其所包括进水口和出水口，串接于所述管线系统中； 所述供电电源的阴极连接于每个所述防垢装置的第一导电杆，所述供电电源的阳极连 接于每个所述防垢装置的第二导电杆。
专利摘要本实用新型提供一种防垢装置及系统，该防垢装置包括一壳体、一法兰盘、一导电杆组、一第二导电杆和一端盖；导电杆组包括至少两个第一导电杆，每个第一导电杆绝缘穿设于法兰盘上；第二导电杆设置于至少两个第一导电杆之间，且第二导电杆穿设于法兰盘上；壳体的侧壁上设置有出水口，壳体的一端与法兰盘密封连接，且每个第一导电杆的一端及第二导电杆的一端设置于壳体内；端盖上设置有进水口，且端盖密封连接于壳体的另一端。本实用新型的防垢装置及系统，解决了现有技术中通过添加化学阻垢剂以防止垢的生成的过程中，添加化学阻垢剂会对管线系统中水产生二次污染的技术缺陷，实现了无污染防止垢生成的目的，具有防垢装置的占地面积小，能耗低的特点。
文档编号C02F5/00GK201686551SQ201020109779
公开日2010年12月29日 申请日期2010年2月5日 优先权日2010年2月5日
发明者刘英慧, 李振国 申请人:刘英慧