1.一种水处理装置，具备：
倾斜板，相对水平面倾斜地配置，被处理水沿着上表面流动；
放电形成体，隔着气体层配置于在所述倾斜板上流动的所述被处理水形成的水膜的上方；以及
水滴形成装置，通过对所述水膜提供动力，使所述被处理水的至少一部分成为水滴，朝向所述倾斜板的上方喷射，使所述水滴接触到所述放电形成体形成的放电，从而对所述被处理水进行处理。
2.根据权利要求1所述的水处理装置，其特征在于，
所述放电形成体具有至少一对电极，对所述电极之间施加电压来形成放电。
3.根据权利要求1或者2所述的水处理装置，其特征在于，
对所述放电形成体与所述倾斜板之间施加电压来形成放电，使所述水膜接触到所述放电，从而对所述被处理水进行处理。
4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
分别具有所述倾斜板和所述放电形成体的多个水处理部件在上下方向上排列配置，
所述倾斜板相对水平面交替反向地倾斜，以使所述被处理水从最上级的所述水处理部件至最下级的所述水处理部件连续流下。
5.根据权利要求4所述的水处理装置，其特征在于，
各所述水处理部件还具有框体，该框体包围所述倾斜板以及所述放电形成体，
上下邻接的所述水处理部件的所述框体相互连结。
6.根据权利要求1至5中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
所述倾斜板的倾斜角度、所述被处理水的流量以及放电电力中的至少1个是可调节的。
7.根据权利要求6所述的水处理装置，其特征在于，还具备：
水质计，检测所述被处理水的水质；以及
集中控制部件，根据来自所述水质计的信息，调节所述倾斜板的倾斜角度、所述被处理水的流量以及放电电力中的至少1个。
8.根据权利要求1至7中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
所述水滴形成装置是超声波振子。
9.根据权利要求1至7中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
所述水滴形成装置是超声波均化器。
10.根据权利要求1至7中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
所述水滴形成装置是与所述被处理水相接并且使所述被处理水机械性地跳起而水滴化的跳起机构。
11.根据权利要求1至7中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
所述水滴形成装置是通过对所述被处理水喷出气体来使所述被处理水跳起而水滴化的气体喷出装置。
12.根据权利要求1至7中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
在所述倾斜板，设置有在厚度方向上贯通所述倾斜板的细孔，
所述水滴形成装置是通过在所述细孔内朝向上方喷出气体来使所述被处理水跳起而水滴化的气体喷出装置。
13.根据权利要求1至7中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
还具备处理槽，该处理槽收容所述倾斜板以及所述放电形成体，
在所述倾斜板，设置有在厚度方向上贯通所述倾斜板的细孔，
所述水滴形成装置是从所述处理槽吸入气体并将所吸入的气体在所述细孔内朝向上方喷出的气体循环装置。
14.根据权利要求12或者13所述的水处理装置，其特征在于，
在所述倾斜板，覆盖所述细孔的所述水膜的厚度比覆盖所述倾斜板的除了所述细孔以外的区域的所述水膜的厚度厚。
15.根据权利要求14所述的水处理装置，其特征在于，
所述倾斜板具有设置有所述细孔的下板和重叠于所述下板上的上板，
在所述上板设置贯通孔，
所述贯通孔的开口面积比所述细孔的开口面积大，
在使所述上板重叠于所述下板的状态下，所述细孔被配置成在所述贯通孔内开口。
16.根据权利要求1至15中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
使所述水滴碰撞到所述放电形成体。
17.根据权利要求1至16中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
使所述水滴形成装置间歇性地动作。
18.根据权利要求1至17中的任意一项所述的水处理装置，其特征在于，
使所述水滴形成装置与所述放电的形成同步地动作。
19.一种水处理方法，
使被处理水沿着相对水平面倾斜地配置的倾斜板的上表面流动，在所述倾斜板上形成水膜，并且在隔着气体层配置于所述水膜的上方的至少一对电极之间形成放电，对所述水膜提供动力，从而使所述被处理水的至少一部分成为水滴，朝向所述倾斜板的上方喷射，使所述水滴接触到所述放电而对被处理水进行处理。
20.一种水处理方法，
使被处理水沿着相对水平面倾斜地配置的倾斜板的上表面流动，在所述倾斜板上形成水膜，并且在隔着气体层配置于所述水膜的上方的电极与所述倾斜板之间形成放电，使所述水膜接触到所述放电而对所述被处理水进行处理，其中，对所述水膜提供动力，从而使所述被处理水的至少一部分成为水滴，朝向所述倾斜板的上方喷射。