紫外线处理装置的制作方法

本发明涉及用于对纳米压印用模板的表面进行光清洗处理的紫外线处理装置。

背景技术：

以往，作为用于去除附着在纳米压印用模板表面的抗蚀剂残渣的光清洗装置，如图5所示，提案了具有沿着两侧面的各侧面的上缘部65a设置供气体流通的矩形筒状的气体流动路径部件65的壳体60的结构的光清洗装置(参照专利文献1)。

在纳米压印用模板的光清洗处理中，使用波长短的紫外线，例如作为氙准分子灯发光的波长172nm的紫外线。这种波长短的紫外线具有容易被空气吸收的特性，因此，为了提高清洗能力以及清洗效率，需要减小照射紫外线的紫外线照射窗61与模板之间的距离。

然而，在上述的沿着上缘部65a设置了气体流动路径部件65的结构的光清洗装置中，存在如下的问题：由于不能将设置在该气体流动路径部件65的气体供给口减小到一定程度，因此难以使紫外线照射窗与模板之间的距离减小。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2011-155160号公报

技术实现要素：

为了减小紫外线照射窗与模板之间的距离，例如考虑了将紫外线照射窗与气体供给口设置在同一平面上的结构。

然而，在这种结构的光清洗装置中，产生了在紫外线照射窗与模板之间形成的被处理空间中、难以使处理气体平面性地以较高的均匀性扩散这样的问题。

本发明是基于以上的问题而做出的，目的在于提供一种能够使紫外线照射窗与被处理物之间的距离减小，而且使处理气体在形成于紫外线照射窗与被处理物之间的被处理空间中能够以平面性高均匀性地扩散而流通的紫外线处理装置。

本发明的紫外线处理装置具有：紫外线灯，放射紫外线；平面部件，具有大致矩形的平面区域；平板部分，设置于该平面部件，沿着所述平面区域的一边以及与该一边接连的两边以比该平面区域突出的状态延伸；保持部件，在平板状的被处理物与所述平板部分的表面之间形成间隙的状态下，保持平板状的被处理物；处理气体供给口，沿着所述平面区域的所述一边设置；处理气体排出口，在与所述平面区域的所述一边对置的另一边，载置所述被处理物从而形成；以及紫外线照射窗，设置在所述平面部件的所述平面区域中的与所述处理气体供给口相比靠近另一边侧、且所述处理气体供给口与所述处理气体排出口之间，照射来自所述紫外线灯的紫外线。

在本发明的紫外线处理装置中，所述处理气体排出口能够为通过开放与所述平面区域的所述一边对置的另一边而形成的结构。

在本发明的紫外线处理装置中，优选的是，所述平板部分的表面与被处理物之间所形成的间隙的大小为0.1～3mm的范围。

发明的效果

本发明的紫外线处理装置为如下结构，紫外线照射窗与气体供给口被设置在相同的平面区域上，而且该平面区域的三方通过平板部分被包围，并且，在剩余的一方形成有处理气体排出口。因此，能够使紫外线照射窗与被处理物之间的距离非常小，而且，能够使处理气体在紫外线照射窗与被处理物之间所形成的被处理空间中以平面性高均匀性地扩散而流通。

附图说明

图1是表示本发明的紫外线处理装置的一例中的结构的平面图。

图2是表示在图1所示的紫外线处理装置中载置了被处理物的状态的平面图。

图3是表示在载置有被处理物的状态下图1所示的紫外线处理装置的A-A线剖面的剖面图。

图4是表示在载置有被处理物的状态下图1所示的紫外线处理装置的B-B线剖面的剖面图。

图5是表示以往的紫外线处理装置的一例中的结构的立体图。

符号的说明

10平面部件；11紫外线照射窗；12平面区域；12v、12x、12y、12z边；13保持部件；14平板部分；14X纵堤部分；14Y、14Z横堤部分；15处理气体供给口；20处理气体排出口；30紫外线灯；31紫外线灯室；60壳体；61紫外线照射窗；65气体流动路径部件；65a上缘部；S被处理空间；W被处理物。

具体实施方式

以下，详细说明本发明的实施方式。

图1是表示本发明的紫外线处理装置的一例的结构的平面图，图2是表示在图1所示的紫外线处理装置中载置有被处理物的状态的平面图，图3是表示在载置有被处理物的状态下图1所示的紫外线处理装置的A-A线剖面的剖面图，图4是表示在载置有被处理物的状态下图1所示的紫外线处理装置的B-B线剖面的剖面图。

该紫外线处理装置被用于例如将纳米压印用模板作为被处理物而对其表面进行光清洗处理。

该紫外线处理装置，在具有大致矩形的平面区域12的平面部件10的该平面区域12上，同时设置有紫外线照射窗11以及处理气体供给口15。并且，在平面部件10上，沿着平面区域12的一边(图1中的左边)12x以及与其连续的两边(图1中的上边以及下边)12y、12z，设置有以比该平面区域12突出的状态延伸的、在俯视时呈日语的コ字形状的平板部分14。具体而言，具有：从平面区域12的一边12x连续地延伸的纵堤部分14X，从与该一边12x连续的两边12y以及12z分别连续地延伸的横堤部分14Y、14Z，通过其一体地连续从而形成日语的コ字形状。进而，平面部件10中的与平面区域12的一边12x对置的另一边(图1中的右边)12v没有闭塞而是开放，以通过载置被处理物W从而堵塞平面区域12的上部(图4中的上部)形成处理气体排出口20。

在平面部件10的四角分别形成有保持部件13，在平板状的被处理物W被载置时、与平板部分14的表面之间形成有间隙的状态下，该保持部件13保持该被处理物W。

另外，在本实施例中，示出了在平板部件10的四角设置有保持部件13的结构，但是也可以不使用保持部件13而是通过吸附部件吸附被处理物W的背面来保持、在平板部分14的表面与被处理物W之间形成间隙的结构。

总之，只要是以被处理物W与平板部分14的表面之间形成间隙的方式保持被处理物W的结构，任何结构，都可以相当于本发明的保持部件。

处理气体供给口15沿着平面区域12的一边12x设置，例如为多个气体供给孔(图1中为3个)沿着该一边12x排列的结构。

在平面部件10的平面区域12中的与处理气体供给口15相比靠近另一边12v侧，即处理气体供给口15与形成于另一边12v的处理气体排出口20之间，设置有紫外线照射窗11。

在本发明的紫外线处理装置中，平面部件10的下部设置有紫外线灯室31，在该紫外线灯室31中的与平面部件10的平面区域12的紫外线照射窗11对置的位置，配置有紫外线灯30。

作为平面部件10以及紫外线灯室31的材料，常使用具有耐紫外线性以及耐臭氧性的材料，例如能够使用硬质耐热绝缘性铝或SUS。

在本发明的紫外线处理装置中，优选的是，平板部分14的表面与被处理物W之间形成的间隙的大小h1，例如为0.1～3mm的范围。如果该间隙的大小过大，则从处理气体供给口15供给的处理气体从该间隙向外部泄漏，结果有可能在平面区域12的紫外线照射窗11上不能使该处理气体以高的均匀性流通。

此外，平板部分14从平面区域12的突出高度(图4中的上下方向的高度)h2例如为0.8mm以下。

如果表示紫外线处理装置的尺寸的一例，有平面部件10的大小为165mm×165mm，平板部分14的表面与被处理物W之间形成的间隙的大小h1为0.3mm，平面区域12与平板部分14的高度(图4中的上下方向的高度)h2为0.7mm，平板部分14的纵堤部分14X的宽度(图1中的左右方向的长度)为15mm，横堤部分14Y、14Z的宽度(图1中的上下方向的长度)分别为35mm、平面区域12的宽度(图1中的上下方向的长度)为70mm，紫外线照射窗11的大小为60mm×60mm。

在这样的紫外线处理装置中，首先，被处理物W被载置于平面部件10的保持部件13上，由此形成了平面区域12的另一边12v与被处理物W的一边所包围的处理气体排出口20。

接着，处理气体被从处理气体供给口15向在紫外线照射窗11与被处理物W之间形成的被处理空间S供给，由于平面区域12与被处理物W之间的距离比平板部分14与被处理物W之间的距离h1大，该处理气体一边一点点地从平板部分14与被处理物W之间的间隙泄漏，一边整体地朝向处理气体排出口20稳定地流通。通过处理气体从平板部分14与被处理物W之间的间隙一点点地泄漏，产生针对来自外部的气体的流动阻力，抑制外部气体向被处理空间S的流入。而且，在该状态下，通过使紫外线灯30点灯，从紫外线灯30的紫外线经由紫外线照射窗11向被处理空间S以及被处理物W的被照射面照射，由此，进行被处理物W的光清洗处理。

在上述中，紫外线照射窗11与被处理物W之间的间隙中流通的处理气体的供给量例如是0.1～10L/min。

此外，针对被处理物W的紫外线的照射时间例如是3～3600秒。

作为处理气体，只要是通过照射紫外线产生臭氧的气体即可，例如能够使用CDA(Clean Dry Air，清洁干燥空气)。

上述的紫外线处理装置构成为，紫外线照射窗11以及处理气体供给窗口15被设置于相同的平面区域12上，而且，该平面区域12的三方被平板部分14包围，并且剩余的一方形成处理气体排出口20。因此，能够使紫外线照射窗11与被处理物W之间的距离非常小，而且，能够使处理气体在被处理空间S中以平面性高均匀性扩散地流通，结果是能够高效率地进行被处理物W的光清洗处理。

以上，说明了本发明的实施方式，但是本发明并不限定于上述实施方式，而是能够加以各种变更。

例如，在本发明中，也可以是处理气体供给口15是由沿着平面区域12的一边12x延伸的狭缝构成。

此外，例如，本发明的紫外线处理装置的被处理物并不限定于纳米压印用模板，而是能够适用于需要紫外线照射处理的各种被处理物。

以下，表示为了确认本发明的效果而进行的实验，但是本发明并不限定于此。

【实施例1】

制作了图1所示的紫外线处理装置。紫外线处理装置的各尺寸如下所示。将其作为紫外线处理装置【1】。

·平面部件10的整体大小：165mm×165mm

·平面区域12与平板部分14的高度h2：0.7mm

·纵堤部分14X的宽度：15mm

·横堤部分14Y、14Z的宽度：35mm

·平面区域12的宽度：70mm

·紫外线照射窗11与被处理物W的距离：1mm

(·平板部分14的表面与被处理物W之间形成的间隙的大小h1:

0.3mm)

·紫外线照射窗11的大小：60mm×60mm

使用上述的紫外线处理装置【1】，以下述的光清洗处理条件(处理气体的供给条件以及紫外线的照射条件)进行被处理物(模板)的光清洗处理时，被处理物(模板)上粘附的抗蚀剂的灰化(ashing)量不产生不均匀。

·处理气体种类：CDA

·处理气体的供给量：0.5L/min

·紫外线照射窗11的紫外线照度：70mW/cm²

·紫外线的照射时间：600秒

【比较例1】

在实施例1中使用的紫外线处理装置中，除了使紫外线照射窗与被处理物的距离为3.8mm，即，平板部分的表面与被处理物之间形成的间隙的大小为3.1mm之外，都相同，制作比较用的紫外线处理装置【2】。

使用该紫外线处理装置，进行与上述的紫外线处理装置【1】相同的光清洗条件下的被处理物(模板)的光清洗处理，由于平板部分的表面与被处理物之间形成的间隙的大小过大，处理气体向平面区域的外部流出，不能在紫外线照射窗上使处理气体以高的均匀性流通。并且，进行该光清洗处理的被处理物(模板)上粘附的抗蚀剂的灰化量产生了不均匀。