本发明涉及玻璃基板技术领域，具体涉及一种microled玻璃基板超声波清洗方法。
背景技术：
玻璃基板清洗是microled液晶玻璃制程中重复使用频率最高的步骤，在每一道制程步骤之前都必须将玻璃基板表面清洗干净，以去除污染物，避免原生氧化物薄膜之生成，随着玻璃基板的尺寸越来越大，对基板表面的洁净度要求也不断提高。玻璃基板洗净的目的在于清除基板表面的污垢的同时，必须确保基板在洗净完成后其电性参数及特性，确保元件的品质与可靠度。
技术实现要素：
本发明旨在提供了一种microled玻璃基板超声波清洗方法。
本发明提供如下技术方案：
一种microled玻璃基板超声波清洗方法，包括以下步骤：
(1)将microled玻璃基板通过传送机将待清洗的microled玻璃基板送入超声波清洗槽；
(2)向上述超声笔清洗槽中加入清洗液至待清洗的microled玻璃基板完全浸没在超声波清洗槽的清洗液内；通过第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器产生的不同频率超声波施加给清洗液对microled玻璃基板进行超声波清洗；
(3)将上述经清洗液清洗过的microled玻璃基板放入超声波清洗机中，用去离子水进行超声波清洗，水温控制在40-50℃，清洗10-15min；再次用去离子水对玻璃基板进行二次超声清洗，清洗时间为15-20min，清洗温度为40-50℃。
(4)将将清洗过的microled玻璃基板通过传送机从超声波清洗槽运送出来。
所述第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率分别为60khz与90khz。
所述超声波清洗液是正戊醇和无水乙醇按体积比3：2混合而成。
所述去离子水的电阻率为7-9mω·cm。
所述玻璃基板与超声波清洗槽水平面之间的夹角为30-45°。
所述正戊醇的质量浓度大于99.9％。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过在超声波清洗槽设置不同频率的超声波频率发生器，每个频率波段的超声波频率发生器对应一定范围粒径的颗粒进行清洗，不需更换清洗槽，缩短清洗制程时间，节约了成本，且microled玻璃基板相对于该些超声波频率发生器倾斜设置，更有效的清除附着于microled玻璃基板的颗粒；本发明的清洗方法清洗出的玻璃无水印，无污点，能充分满足液microled玻璃基板后续工作需要。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一种microled玻璃基板超声波清洗方法，包括以下步骤：
(1)将microled玻璃基板通过传送机将待清洗的microled玻璃基板送入超声波清洗槽；
(2)向上述超声笔清洗槽中加入清洗液至待清洗的microled玻璃基板完全浸没在超声波清洗槽的清洗液内；通过第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器产生的不同频率超声波施加给清洗液对microled玻璃基板进行超声波清洗；
(3)将上述经清洗液清洗过的microled玻璃基板放入超声波清洗机中，用去离子水进行超声波清洗，水温控制在40-50℃，清洗10-15min；再次用去离子水对玻璃基板进行二次超声清洗，清洗时间为15-20min，清洗温度为40-50℃。
(4)将将清洗过的microled玻璃基板通过传送机从超声波清洗槽运送出来。
所述第一超声波频率发生器与第二超声波频率发生器的频率分别为60khz与90khz。
所述超声波清洗液是正戊醇和无水乙醇按体积比3：2混合而成。
所述去离子水的电阻率为7-9mω·cm。
所述玻璃基板与超声波清洗槽水平面之间的夹角为30-45°。
所述正戊醇的质量浓度大于99.9％。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。