一种等离子清洗机的制作方法

本实用新型涉及基板清洗技术领域，尤其涉及一种等离子清洗机。

背景技术：

在显示技术领域，基板制备的过程中，都会经过清洗、涂覆、曝光、显影、烘烤等工艺以在基板上形成需要的图案。基板在清洗后都需要经过等离子清洗设备。等离子清洗设备喷出的等离子体与基板表面的有机物结合，将有机物氧化分解成水和二氧化碳等以除去基板表面的有机物。

现有技术提供了一种等离子清洗机，如图1所示，包括腔体10’、排气罩20’、以及位于腔体10’与排气罩20’之间的传送装置(图中未示出)，基板100由传送装置在腔体10’与排气罩20’之间进行传送，腔体10’内能够产生等离子体，等离子体由腔体10’下部的多个等离子体出口11’喷到基板100表面，基板100清洗后的污染物200在等离子体出口11’喷出的气流压力的作用下流向排气罩20’，并由排气罩20’下部的排气口21’排出。现有技术的不足之处在于，多个等离子体出口11’共用一个排气罩20’，排气罩20’体积较大，等离子体出口11’喷出的气流压力不足以将污染物200全部从排气口21’排出，排气性能较差，而且漂浮在排气罩20’内的污染物200在等离子清洗机放电或放气时会重新附着在基板100表面，造成产品不良问题。

因此，亟需一种等离子清洗机以解决上述技术问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种等离子清洗机，以解决现有技术中的等离子清洗机存在的排气性能较差的技术问题。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种等离子清洗机，包括腔体和排气罩，所述腔体的下部设置有多个等离子体出口，所述排气罩的数量为多个，且多个所述排气罩与多个所述等离子体出口一一对应设置。

作为优选，所述排气罩内位于进气口与排气口之间设置有防倒流装置。

作为优选，所述排气罩包括平直段和收口段，所述平直段位于靠近所述等离子体出口的一侧，所述进气口设置于所述平直段靠近所述等离子体出口的一端，所述收口段的大端连接于所述平直段远离所述等离子体出口的一端，所述排气口设置于所述收口段的小端，所述防倒流装置设置于所述平直段内。

作为优选，所述防倒流装置与所述进气口之间的距离是所述平直段整体高度的三分之一。

作为优选，所述防倒流装置为单向阀。

作为优选，所述防倒流装置为挡板，所述挡板上设置有若干通气孔。

作为优选，所述等离子清洗机还包括传送装置，所述传送装置设置于所述等离子体出口与所述排气罩之间。

作为优选，所述传送装置包括多个传送杆和套设在每个所述传送杆上的多个传送滚轮。

作为优选，所述腔体内设置有电离电极。

本实用新型相比于现有技术的有益效果：

1)本实用新型提供的等离子清洗机，通过设置多个排气罩，使每个等离子体出口对应一个排气罩，有效缩小了排气罩的体积，使得等离子体出口的气流压力能够将从基板上清洗下来的污染物顺利从排气罩的排气口排出，提升了等离子清洗机的排气性能；

2)本实用新型提供的等离子清洗机，通过在排气罩内设置防倒流装置，防倒流装置防倒流装置使得污染物不会反向流动，避免了基板被二次污染的可能，提高了基板的良率。

附图说明

图1是现有技术提供的等离子清洗机的结构示意图；

图2是本实用新型提供的等离子清洗机的结构示意图。

图中：

100-基板；200-污染物；

10’-腔体；11’-等离子体出口；20’-排气罩；21’-排气口；

10-腔体；11-等离子体出口；20-排气罩；21-平直段；22-收口段；221-排气口；30-防倒流装置。

具体实施方式

下面结合附图和实施方式进一步说明本实用新型的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部。

如图2所示，本实用新型提供一种等离子清洗机，包括腔体10和排气罩20，腔体10下部设置有多个等离子体出口11，排气罩20的数量为多个，且多个排气罩20与多个等离子体出口11一一对应设置。通过设置多个排气罩20，使每个等离子体出口11对应一个排气罩20，有效缩小了排气罩20的体积，使得等离子体出口11的气流压力能够将从基板100上清洗下来的污染物200顺利从排气罩20的排气口221排出，提升了等离子清洗机的排气性能。

进一步地，在排气罩20内位于进气口与排气口221之间设置有防倒流装置30，防倒流装置30能够在排气罩20内部形成只能由进气口向排气口221方向导通的单向导通状态，气流不能从防倒流装置30的下方倒流到其上方，因此污染物200不会随气流反向回到上方腔体，避免了基板100被二次污染的可能，提高了基板100的良率。

再进一步地，排气罩20包括平直段21和收口段22，平直段21位于靠近等离子体出口11的一侧，上述进气口设置于平直段21靠近等离子体出口11的一端，收口段22的大端连接于平直段21远离等离子体出口11的一端，上述排气口221设置于收口段22的小端。通过收口段22的设置能够对气流和污染物200起到收拢作用，使污染物200顺利从排气口221排出。优选地，防倒流装置30设置于平直段21内。更优地，防倒流装置30与进气口之间的距离是平直段21整体高度的三分之一，目的是既能够使气流携带污染物200进入排气罩20并通过防倒流装置30，又能够充分阻断进入排气罩20之后的污染物200的反流。

在本实施例中，防倒流装置30为单向阀，单向阀是一种用于流体管道中控制流体单向流动的元件，其结构为现有技术，在此不在详述。在其他实施例中，防倒流装置30还可以为挡板，在挡板上设置若干通气孔，所述挡板能对气体的倒流产生一定的阻挡作用。当然以上只是示例性说明，防倒流装置30的形式并不局限于此，只要能够实现既能够使气流通过又能对气流产生一定的阻力作用的任何结构均可用于本实用新型。

此外，在本实施例中，等离子清洗机还包括传送装置(图中未示出)，传送装置设置于等离子体出口11与排气罩20之间，用于传送基板100。具体地，传送装置包括多个传送杆和套设在每个传送杆上的多个传送滚轮。基板100放置在传送滚轮上，传送滚轮可以固定套设在传送杆上，由驱动装置驱动传送杆转动，从而传送杆带动传送滚轮转动以传送基板100；或者，传送滚轮还可以转动套设在传送杆上，由驱动装置驱动传送滚轮绕传送杆转动以传送基板100。

本实用新型提供的等离子清洗机的工作原理为：首先从腔体10的顶部向腔体10内通入压缩干燥空气和氮气，压缩干燥空气和氮气在腔体10内的电离电极的作用下形成相应的等离子体；然后等离子体经腔体10下部的等离子体出口11喷向基体表面，等离子体与基板100表面的有机物结合，将有机物氧化分解成水和二氧化碳等污染物200；然后污染物200随等离子体出口11喷出的气流经进气口流向排气罩20，气流能够携带污染物200顺利流向排气口221，并从排气口221排出，同时在防倒流装置30的作用下，污染物200不能反向流动，避免了污染物200对基板100的二次污染。

显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。