一种抛光垫的清洗装置的制作方法

本实用新型属于领域，具体涉及一种抛光垫的清洗装置。

背景技术：

化学机械抛光技术综合了化学抛光和机械抛光的优势，其应用领域非常广泛，包括蓝宝石晶片，硅片，玻璃，不锈钢，铝合金，以及其它半导体晶片的研磨与抛光。化学机械抛光通常是用抛光机配合抛光垫和抛光液使用，每次抛光结束后为了保证下一次抛光的抛光速率和表面质量，要对抛光机上的抛光垫进行清洗。目前多数由人工使用毛刷手工刷洗，刷洗过程用水量大，费时费力，还不能确保刷洗干净。在连续化生产过程中，洗盘的时间影响了生产效率，盘面是否清洗干净也会对抛光效果产生影响。

技术实现要素：

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型提出了一种抛光垫的清洗装置，用于解决现有技术中手工清洗抛光垫效率低的缺点。

实现上述技术目的，达到上述技术效果，本实用新型通过以下技术方案实现：

一种抛光垫的清洗装置，包括：

清洗盘，所述清洗盘的内部设有空腔，其顶表面设有内凹槽，所述内凹槽的横截面呈圆形，且所述内凹槽的直径r大于抛光机上盘的直径R，内凹槽的深度h小于或者等于抛光机上盘的厚度H；所述清洗盘顶表面上远离凹槽处或者侧壁上还设有与所述空腔连通的进水孔；所述清洗盘的底表面上设有若干个与所述空腔相连通的出水孔；

引流管，所述引流管的一端与所述清洗盘顶表面上的进水孔相连通，另一端用于连接水源；

若干个刷头，各刷头均设于所述清洗盘的底表面上，且垂直于所述清洗盘的底表面设置。

作为本实用新型的进一步改进，所述抛光机上盘的直径R与内凹槽的直径r相差2-3mm。

作为本实用新型的进一步改进，所述内凹槽的深度h与抛光机上盘的厚度H之间的关系为H/2<h<H。

作为本实用新型的进一步改进，所述刷头和出水孔均匀布置在所述清洗盘的底表面。

作为本实用新型的进一步改进，所述刷头的分布密度为8-20/dm²，相邻刷头之间设有一个出水孔，所述出水孔的分布密度与刷头的分布密度相同。

作为本实用新型的进一步改进，所述刷头上刷毛的材质为塑料、动物毛或者海绵中的任意一种。

作为本实用新型的进一步改进，所述清洗盘的横截面呈圆形，且清洗盘的直径大于或者等于抛光机下盘半径。

作为本实用新型的进一步改进，所述清洗盘的材质为塑料、木材或者金属。

作为本实用新型的进一步改进，所述清洗盘的材料为HDPE、PC或者PP材质。

作为本实用新型的进一步改进，所述空腔的体积大于或者等于清洗盘体积的1/3。

本实用新型的有益效果：

本实用新型提出了一种抛光垫的清洗装置，在抛光结束取下被抛件后，将清洗盘套在抛光机上盘，清洗盘上的进水口通过引流管连接水源，调整抛光机压力2-4kg，开启抛光机，随着抛光机下盘和上盘的转动，刷头自动清洗抛光机的抛光垫，2-5分钟即可完成。本实用新型的抛光垫的清洗装置，避免了人工操作的不可控性，大大提高了清洗抛光垫的效率，而且节约用水。

附图说明

图1为本实用新型一种实施例的使用结构示意图；

图2为本实用新型装置的结构示意图；

其中：

1-抛光机上盘；2-清洗盘；3-刷头；4-抛光垫；5-抛光机下盘；6-内凹槽；7-引流管。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

下面结合附图对本实用新型的应用原理作详细的描述。

如图1-2所示，本实用新型中的抛光垫的清洗装置，包括清洗盘、引流管和若干个刷头；

所述清洗盘2的内部设有空腔，优选地，所述空腔的体积大于或者等于清洗盘2体积的1/3；所述清洗盘2的横截面呈圆形，且清洗盘2的直径大于或者等于抛光机下盘5半径；

所述清洗盘2的顶表面设有用于容纳抛光机上盘1的内凹槽6，所述内凹槽6的横截面呈圆形，且所述内凹槽6的直径r大于或者等于抛光机上盘1的直径R，优选地，所述抛光机上盘1的直径R与内凹槽6的直径r相差2-3mm；所述内凹槽6的深度h小于或者等于抛光机上盘1的厚度H，优选地，所述内凹槽6的深度h与抛光机上盘1的厚度H之间的关系为H/2<h<H；所述清洗盘2顶表面上远离凹槽处或者侧壁上还设有与所述空腔连通的进水孔；所述清洗盘2的底表面上设有若干个与所述空腔相连通的出水孔；所述清洗盘2的材质为塑料、木材或者金属，优选地，所述清洗盘2的材料为HDPE、PC或者PP材质；

所述引流管7的一端与所述清洗盘2顶表面上的进水孔相连通，另一端用于连接水源；本实用新型中的引流管7的作用是实现引流，因此，不对其材质做任何限定，只要是能够实现引流的管子都适用于本实用新型中的清洗装置，可以直接从市面上采购得到；

各刷头3均设于所述清洗盘2的底表面上，且垂直于所述清洗盘2的底表面设置；在本实用新型的优选实施例中，所述刷头3和出水孔均匀布置在所述清洗盘2的底表面；所述刷头3的分布密度为8-20/dm²，相邻刷头3之间设有一个出水孔，所述出水孔的分布密度与刷头3相同；所述刷头3上刷毛的材质为塑料、动物毛或者海绵中的任意一种。

综上所述，本实用新型中的清洗装置的工作原理具体为：

在抛光结束后，取下被抛件后，将清洗盘2套在抛光机上盘1，清洗盘2上的进水口通过引流管7连接水源，调整抛光机压力2-4kg，开启抛光机；

随着抛光机的下盘和上盘的转动，刷头3自动清洗抛光机的抛光垫4，在刷头3自动清洗的过程中，出水孔中不断有水流出，以配合刷头3进行清洗，2-5分钟即可完成清洗工作。

实施例1

以小型试验用抛光机沈阳科晶Unipol-1200s为例，制作抛光垫的清洗装置，其中，清洗盘2的直径为180mm，厚度为25mm，位于清洗盘顶表面的内凹槽6的直径为162mm，内凹槽6深度为10mm，刷头3采用塑料纤维。

实际清洗时，将清洗盘套在抛光机上盘1后，将清水通过引流管连接至进水孔，调节水流。打开抛光机，调整抛光机上盘1的转速为45rpm，抛光机下盘5的转速为50rpm，调整压力为2kg，自动清洗3分钟，抛光垫4孔隙中残余的抛光粉已经完全清洗干净。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。