硅片清洗装置及降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法与流程

本发明涉及硅片清洗设备，具体涉及硅片清洗装置及降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法。

背景技术：

硅片洗净机药液清洗槽sc-1槽(成分是h2o2、nh4oh和h2o)，硅片进入药液槽后，表面由于h2o2氧化作用生成氧化膜，该氧化膜又被nh4oh腐蚀，腐蚀后立即又发生氧化，氧化和腐蚀反复进行，因此附着在硅片表面的颗粒也随腐蚀层而落入清洗液内。清洗液随着循环泵进入过滤器，通过过滤器内的过滤膜，把清洗液中的颗粒等物质挡住，干净的清洗液再次进入药液槽使用，如此往复循环。

但是药液槽sc-1槽的反应产物部分金属氢氧化物，如al(oh)4^-、fe(oh)4^-、zn(oh)3^-不能溶于清洗液，会残留吸附在sc-1槽体内壁、过滤器管路内壁和过滤器底座。尤其过滤器底座部分长时间的液体集聚，金属氢氧化物越来越多，长此以往影响硅片的表面金属。

过滤器底座部分有积液现象存在，随着过滤器使用时间的推移，积蓄的金属氢氧化物也越来越多，会影响硅片表面的金属水平。

目前确保硅片表面金属水平的做法是定期更换过滤芯，用大量纯水冲洗槽体和过滤器。

但是过滤器底座存在“死角”，集聚的部分金属氢氧化物不会被纯水带走。

技术实现要素：

针对现有技术存在的问题，本发明提供一种硅片清洗装置及降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，定期打开排液阀，排空过滤器中残留的积液，之后关闭排液阀；然后向药液清洗槽体内放入柠檬酸液体，通过循环泵流经硅片清洗装置各部分和管路，通过柠檬酸的螯合作用与al(oh)4^-、fe(oh)4^-、zn(oh)3^-结合形成稳定络合物，然后打开排液阀，清洗冲走络合物。能够有效清除过滤器底座存在的死角，保证硅片清洗装置内部清洁度，提高硅片清洗质量。

本发明的技术方案是：硅片清洗装置，包括药液槽，循环泵和过滤器；

所述药液清洗槽的出口管路连接至循环泵的进口管路，循环泵的出口管路连接至过滤器的进口管路，所述过滤器的出口管路连接至药液清洗槽的进口管路；

所述过滤器底部设置有排液管路，所述辅助排液管路上设置有排液阀。

进一步的，所述底部设置有两条排液管路，所述两条排液管路上分别设置有一个排液阀。

本发明还提供降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，定期打开排液阀，排空过滤器中残留的积液，之后关闭排液阀；

然后向药液清洗槽体内放入柠檬酸液体，通过循环泵流经硅片清洗装置各装置和管路，通过柠檬酸的螯合作用与al(oh)4^-、fe(oh)4^-、zn(oh)3^-结合形成稳定络合物，然后打开排液阀，清洗冲走络合物。

进一步的，所述定期为20-40天一次。

进一步的，降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，具体步骤如下：

步骤一、纯水循环冲洗药液清洗槽，然后通过药液清洗槽底部的主排液管路排空清洗槽，再打开过滤器底部的辅助排液管路上的排液阀，排空过滤器中残留的积液，然后关闭排液阀；

步骤二、向药液清洗槽中放入柠檬酸液体，启动循环泵，使得柠檬酸液体在药液槽、循环泵、过滤器和各路循环管路中循环流动；

步骤三、再次通过药液清洗槽底部的主排液管路排空清洗槽，然后打开过滤器底部的辅助排液管路上的排液阀，排空过滤器中残留的液体，然后关闭排液阀；

步骤四、再次纯水冲洗药液清洗槽，然后通过主排液管路排空清洗槽中残留的积液。

进一步的，步骤一中纯水循环冲洗药液清洗槽多次。

进一步的，步骤四中再次纯水冲洗药液清洗槽多次。

进一步的，步骤二中，向药液清洗槽中放入柠檬酸液体，启动循环泵，使得柠檬酸液体在药液槽、循环泵、过滤器和各路循环管路中循环流动10-20分钟。

本发明的有益效果是：提供一种硅片清洗装置及降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，定期打开排液阀，排空过滤器中残留的积液，之后关闭排液阀；然后向药液清洗槽体内放入柠檬酸液体，通过循环泵流经硅片清洗装置各部分和管路，通过柠檬酸的螯合作用与al(oh)4^-、fe(oh)4^-、zn(oh)3^-结合形成稳定络合物，然后打开排液阀，清洗冲走络合物。能够有效清除过滤器底座存在的死角，保证硅片清洗装置内部清洁度，提高硅片清洗质量。且能延长过滤器的过滤芯使用寿命，降低成本。

附图说明

图1为硅片清洗装置的结构示意图；

图2为过滤器的结构示意图。

图中：1为药液槽，2为循环泵，3为过滤器，4为排气管，5为辅助排液管路，6为排液阀，7为过滤器的进口管路，8为过滤器的出口管路。

具体实施方式

下面结合附图对本发明做进一步的说明。

如图1所示，硅片清洗装置包括药液槽1，循环泵2和过滤器3。

所述药液清洗槽1的出口管路连接至循环泵2的进口管路，循环泵2的出口管路连接至过滤器3的进口管路7，所述过滤器3的出口管路8连接至药液清洗槽1的进口管路。

如图2所示，所述过滤器3底部设置有辅助排液管路5，所述辅助排液管路上设置有排液阀6。优选的，所述底部设置有两条辅助排液管路5，所述两条辅助排液管路5上分别设置有一个排液阀6。

由于过滤器结构问题，底座部分有积液现象存在，随着过滤器使用时间的推移，积蓄的金属离子也越来越多，会影响硅片的清洁程度。

本实施例提供降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，每月一次的频度定期打开排液阀，排空过滤器中残留的积液，之后关闭排液阀；然后向药液清洗槽体内放入柠檬酸液体，通过循环泵流经硅片清洗装置各装置和管路，通过柠檬酸的螯合作用与al(oh)4^-、fe(oh)4^-、zn(oh)3^-结合形成稳定络合物，然后打开排液阀，清洗冲走络合物。能够有效清除过滤器底座存在的死角，保证硅片清洗装置内部清洁度，提高硅片清洗质量。且能延长过滤器的过滤芯使用寿命，降低成本。

具体步骤如下：

步骤一、纯水循环冲洗药液清洗槽3次，然后通过药液清洗槽底部的主排液管路排空清洗槽，再打开过滤器底部的辅助排液管路上的排液阀，排空过滤器中残留的积液，然后关闭排液阀；

步骤二、向药液清洗槽中放入柠檬酸液体，启动循环泵，使得柠檬酸液体在药液槽、循环泵、过滤器和各路循环管路中循环流动；

步骤三、再次通过药液清洗槽底部的主排液管路排空清洗槽，然后打开过滤器底部的辅助排液管路上的排液阀，排空过滤器中残留的液体，然后关闭排液阀；

步骤四、再次纯水冲洗药液清洗槽3次，然后通过主排液管路排空清洗槽中残留的积液。

进一步的，步骤四中，再次纯水冲洗药液清洗槽，然后打开过滤器底部的辅助排液管路上的排液阀，排空过滤器中残留的积液，然后关闭排液阀；循环多次。排液阀关闭时，要轻轻拧紧阀门，如果过度拧紧阀门，会造成先端磨损，可能会引起漏液。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。