1.硅片清洗装置，其特征在于：包括药液槽(1)，循环泵(2)和过滤器(3)；
所述药液清洗槽(1)的出口管路连接至循环泵(2)的进口管路，循环泵(2)的出口管路连接至过滤器(3)的进口管路(7)，所述过滤器(3)的出口管路(8)连接至药液清洗槽(1)的进口管路；
所述过滤器(3)底部设置有辅助排液管路(5)，所述辅助排液管路上设置有排液阀(6)。
2.根据权利要求1所述的一种降低过滤器累积污染的方法，其特征在于：所述底部设置有两条辅助排液管路(5)，所述两条辅助排液管路(5)上分别设置有一个排液阀(6)。
3.降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，其特征在于：定期打开排液阀，排空过滤器中残留的积液，之后关闭排液阀；
然后向药液清洗槽体内放入柠檬酸液体，通过循环泵流经硅片清洗装置各装置和管路，通过柠檬酸的螯合作用与al(oh)4-、fe(oh)4-、zn(oh)3-结合形成稳定络合物，然后打开排液阀，清洗冲走络合物。
4.根据权利要求3所述的降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，其特征在于：所述定期为20-40天一次。
5.根据权利要求3所述的降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，其特征在于：具体步骤如下：
步骤一、纯水循环冲洗药液清洗槽，然后通过药液清洗槽底部的主排液管路排空清洗槽，再打开过滤器底部的辅助排液管路上的排液阀，排空过滤器中残留的积液，然后关闭排液阀；
步骤二、向药液清洗槽中放入柠檬酸液体，启动循环泵，使得柠檬酸液体在药液槽、循环泵、过滤器和各路循环管路中循环流动；
步骤三、再次通过药液清洗槽底部的主排液管路排空清洗槽，然后打开过滤器底部的辅助排液管路上的排液阀，排空过滤器中残留的液体，然后关闭排液阀；
步骤四、再次纯水冲洗药液清洗槽，然后通过主排液管路排空清洗槽中残留的积液。
6.根据权利要求5所述的降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，其特征在于：步骤一中纯水循环冲洗药液清洗槽多次。
7.根据权利要求5所述的降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，其特征在于：步骤四中再次纯水冲洗药液清洗槽多次。
8.根据权利要求5所述的降低硅片清洗装置中过滤器累积污染的方法，其特征在于：步骤二中，向药液清洗槽中放入柠檬酸液体，启动循环泵，使得柠檬酸液体在药液槽、循环泵、过滤器和各路循环管路中循环流动10-20分钟。