接触式清洗装置的制作方法

文档序号:23577837发布日期:2021-01-08 12:51阅读:78来源:国知局
接触式清洗装置的制作方法

本申请涉及一种接触式清洗装置。



背景技术:

对于接触式清洗装置,有抹布喷水、旋转刷冲洗等多种形式。它们的基本问题是:清洗装置在清洗过程中,清洗作业面如抹布/刷头等,不能在清洗作业(清洗物件表面)的同时,自身也得到清洗水清洗,同时清洗水又不会到处溅射、流淌出接触式清洗装置、污染环境。

在水洗清洗作业面、与清洗水不漏出接触式清洗装置之间,往往只能兼顾一头:

要么可以用清洗水清洗物件表面和清洗作业面,比如冲洗式旋转刷头,物件表面与抹布/刷头同时得到水洗,但清洗水会随意流淌到物件表面或流淌在环境中,不仅不环保,还在对清洗场合不允许清洗水到处流淌的地方存在使用限制,比如拖地机器人拖地、小区停车位洗车等;

要么清洗作业面只得到润湿,这时,湿润抹布/刷头的水是不会到处溅射、流淌,但抹布/刷头只是得到润湿而已,并没有得到清洗水的清洗,即在清洗作业过程中,物件表面的污垢会一直附着在抹布/刷头表面,直至清洗完毕,比如喷水式抹布类型的接触式清洗装置。这样,在抹布等清洗作业面不足以附着污垢后,物件表面的干净程度就会下降,还会产生花斑或污迹,以及需要不断更换抹布、或在接触式清洗装置外搓洗抹布,给实际使用带来不便。

本申请将解决这一问题。



技术实现要素:

本申请的目的在于克服上述现有技术的不足,提供了一种接触式清洗装置,其旨在解决擦洗物件表面及水洗清洗作业面、与清洗水不漏出接触式清洗装置之间只能兼顾一头的问题,以及在对清洗场合不允许清洗水到处流淌的地方存在使用限制的问题。

本申请是这样实现的:

一种接触式清洗装置,包括封围机构以及至少一个清洗滚柱;

所述清洗滚柱能够绕其中心轴线旋转,并在旋转过程中使其外柱面依次经清洗位置及自洗位置;

所述清洗滚柱处于所述清洗位置的外柱面用于直接或间接擦洗物件表面;

所述封围机构与所述清洗滚柱在所述自洗位置共同形成封闭式自洗腔,所述清洗滚柱处于所述自洗位置的外柱面为所述封闭式自洗腔的局部清洗滚柱构造面,并得到所述封闭式自洗腔内清洗水自洗,所述清洗滚柱处于所述自洗位置的外柱面在进入和移出所述自洗位置时,受到排水挤压,且防止所述封闭式自洗腔内的清洗水外漏。

其中,本申请涉及的所述封闭式自洗腔的封闭形式,是防止所述封闭式自洗腔内清洗水漏淌出本清洗装置的唯一途径,即,在所述封闭式自洗腔外,不存在这样一种外壳,把所述封闭式自洗腔、所述封围机构、及所述清洗滚柱包裹在内,以阻止、或回收从所述封闭式自洗腔内漏淌出的清洗水。

在具体使用过程中,清洗滚柱旋转,并在旋转过程中依次经清洗位置及自洗位置,且清洗滚柱不断绕其中心轴线旋转,其中,清洗滚柱会在清洗位置处对物件表面进行清洗作业,此清洗作业过程中,物件表面的污垢会附着到清洗滚柱处于清洗位置的外柱面上,这些附着到清洗滚柱的外柱面上的污垢会随着清洗滚柱的旋转移动至自洗位置,而清洗滚柱附着有污垢的外柱面移动至自洗位置处时,由于在具体使用过程中,会在封闭式自洗腔内放置清洗水,或循环清洗水,封闭式自洗腔内的清洗水会对清洗滚柱附着有污垢的外柱面进行清洁自洗,如擦洗刷洗、压力冲洗、超声脱污等,如此,且清洗滚柱处于自洗位置处的外柱面在进入和移出自洗位置时,在封围机构的相互作用下,受到排水挤压,其中,采用挤压方式,能够让清洗滚柱的外柱面的大部分水分挤出,以让清洗滚柱的外柱面在受到挤压情况下基本不流淌出水分,如此,可保持清洗滚柱的外柱面走至清洗位置时保持湿润且不淌水。

基于本申请的结构设计,首先,根据上述使用过程说明可知,该接触式清洗装置能够连续、轮回地利用清洗滚柱的外柱面对物件表面清洗,且在清洗作业过程中清洗水不会溅射、不会流淌,且也不会漏到环境中,如此,解决了在擦洗物件表面及水洗清洗滚柱外柱面、与清洗水不漏出接触式清洗装置之间,只能兼顾一头的问题,做到连续不断地水洗清洗滚柱的外柱面,连续不断地拧干清洗滚柱的外柱面,连续不断地用洗干净了的清洗滚柱的外柱面清洗物件表面,可有效避免在物件表面留下花斑或污迹,其次,由于是封闭式自洗腔,如此,物件表面即能水平且朝上设置,或是竖直设置,也可以是水平且朝下设置,接触式清洗装置在任何摆放状态均不淌水、不漏水,都可以正常使用。

在具体应用过程中,本申请能以较少的清洗水清洗相对较脏的物件表面,不仅环保,还为不在水源旁实施清洗工作带来方便,如停车位自行洗车;为不易频繁更换抹布又要大面积清洗的工作带来方便,如拖地机器人;以及为不允许清洗水到处流淌的场合实施清洗工作带来方便,如地板、墙面、内外窗玻璃清洗等。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例一提供的接触式清洗装置的结构示意图;

图2是本申请实施例一提供的接触式清洗装置的清洗滚柱一种抹布包裹方式结构示意图;

图3是本申请实施例一提供的接触式清洗装置的清洗滚柱另一种抹布包裹方式结构示意图;

图4是本申请实施例一提供的接触式清洗装置的清洗滚柱在间接清洗作业时抹布与清洗滚柱之间的三种连接关系图;

图5是本申请实施例二提供的接触式清洗装置的结构示意图;

图6是本申请实施例二提供的接触式清洗装置的清洗滚柱之间、清洗滚柱以及围合滚柱之间在使用状态下的配合关系图;

图7是本申请实施例四提供的接触式清洗装置的结构示意图,图中未示出封围构件;

图8是本申请实施例五提供的接触式清洗装置的分解图,图中未示出封围构件;

图9是本申请实施例五提供的接触式清洗装置的清洗滚柱构造面和围合滚柱构造面的示意图;

图10是图8的进一步分解图;

图11是本申请实施例五提供的接触式清洗装置的结构示意图;

图12是本申请实施例六提供的接触式清洗装置的结构示意图;

图13是本申请实施例七提供的接触式清洗装置的结构示意图。

附图标号说明:

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。

本申请提供一种接触式清洗装置,用于对物件表面进行清洁。

具体地,该接触式清洗装置包括封围机构100以及至少一个清洗滚柱200,其中,清洗滚柱200可以是圆柱,也可以是圆台等形状;通常,清洗滚柱200的轴向尺寸大于其平均径向尺寸,在清洗物件表面时更有效。

清洗滚柱200能够绕其中心轴线旋转,并在旋转过程中依次经清洗位置及自洗位置。

清洗滚柱200处于清洗位置的外柱面用于直接或间接抵接物件表面,具体地,清洗滚柱200的外柱面可以是本身就带有能够清洁物件表面的清洁物料,如抹布600、刷毛,此时,清洗滚柱200是直接抵接物件表面;清洗滚柱200的外柱面也可以是本身不带有能够清洁物件表面的清洁物料,在具体使用过程中,才将清洁物料连接到清洗滚柱200的外柱面上,此时,清洁物料为消耗件。

封围机构100与清洗滚柱200在自洗位置形成封闭式自洗腔,清洗滚柱200处于自洗位置的外柱面为封闭式自洗腔101的局部构造面,以及,在此构造面上,历经自洗位置,成为自洗面,获得封闭式自洗腔101内清洗水自洗,清洗滚柱200处于自洗位置的外柱面在进入和移出自洗位置时,受到排水挤压,且防止封闭式自洗腔101内的清洗水外漏。在此需要说明的是,清洗滚柱200处于自洗位置的外柱面在进入和移出自洗位置时,可在封围机构100的相互作用下受到排水挤压,也可以是在另一个清洗滚柱200的相互作用下受到排水挤压。

在具体使用过程中,清洗滚柱200绕其中心轴线旋转,并在旋转过程中依次经清洗位置及自洗位置,且清洗滚柱200不断绕其中心轴线旋转,其中,清洗滚柱200会在清洗位置处对物件表面进行清洗作业,此清洗作业过程中,物件表面的污垢会附着到清洗滚柱200处于清洗位置的外柱面上,这些附着到清洗滚柱200的外柱面上的污垢会随着清洗滚柱200的旋转移动至自洗位置,而在清洗滚柱200附着有污垢的外柱面移动至自洗位置处时,由于在具体使用过程中,会在封闭式自洗腔101内放置清洗水,或循环清洗水,封闭式自洗腔101内的清洗水会对清洗滚柱200附着有污垢的外柱面进行清洁自洗,如擦洗刷洗、压力冲洗、超声脱污等,如此,且在清洗滚柱200处于自洗位置处的外柱面在进入和移出自洗位置时,在封围机构100的相互作用下或在另一个清洗滚柱200的相互作用下,受到排水挤压,其中,采用挤压方式,能够让清洗滚柱200的外柱面的大部分水分挤出,以让清洗滚柱200的外柱面在受到挤压情况下基本不流淌出水分,如此,可保持清洗滚柱200的外柱面走至清洗位置时保持湿润且不淌水。

基于本申请的结构设计,首先,根据上述使用过程说明可知,该接触式清洗装置能够连续、轮回地利用清洗滚柱200的外柱面对物件表面清洗,且在清洗作业过程中清洗水不会溅射、不会流淌,且也不会漏到环境中,如此,解决了在擦洗物件表面及水洗清洗滚柱200外柱面、与清洗水不漏出接触式清洗装置之间,只能兼顾一头的问题,做到连续不断地水洗清洗滚柱200的外柱面,连续不断地拧干清洗滚柱200的外柱面,连续不断地用洗干净了的清洗滚柱200的外柱面清洗物件表面,可有效避免在物件表面留下花斑或污迹,其次,由于是封闭式自洗腔101,如此,物件表面即能水平且朝上设置,或是竖直设置,也可以是水平且朝下设置,接触式清洗装置在任何摆放状态均不淌水、不漏水,都可以正常使用。

在具体应用过程中,本申请能以较少的清洗水清洗相对较脏的物件表面,不仅环保,还为不在水源旁实施清洗工作带来方便,如停车位自行洗车;为不易频繁更换抹布600又要大面积清洗的工作带来方便,如拖地机器人;以及为不允许清洗水到处流淌的场合实施清洗工作带来方便,如地板、墙面、内外窗玻璃清洗等。

在此需要说明的是,在具体实施例中,封围机构100与清洗滚柱200相接处会设有密封结构来实现密封连接,其中,实现密封的方式根据连接处的具体结构形状选择即可;物件表面可以是平面,也可以是异型面。

以下举例说明可以实现的实施方式:

实施例一

请参阅图1,在本实施例在前述结构的基础上,清洗滚柱200设有一个。

在本实施例中,封围机构100包括封围结构110,封围结构110包括封围构件111以及两个挡板112;封围构件111和清洗滚柱200均位于两挡板112之间。

在此需要说明的是,在上述间接擦洗情况下,抹布600可附着于清洗滚柱200外柱面上,请参阅图2、图3,分别显示了两种抹布600在清洗滚柱200两端的收口、锁定方式。

其中,当清洗滚柱200两端采用连体密封件310时,如图所示,包裹并贴附在清洗滚柱200外柱面上的抹布600在清洗滚柱200两端的收口,可以通过设置在清洗滚柱200两端的凹陷、以及与之匹配的堵盖330,将抹布600两端锁紧在清洗滚柱200上,使得包裹并贴附在连体密封件310端面上的抹布600与该连体密封件310的端面一起,共同参与挡板112之间的密封;同理,当抹布600厚度适当,以及连体密封件310足够柔软时,夹持在挡板112与连体密封件310端面中的抹布600,可参与密封不漏水。

而当清洗滚柱200两端采用分体密封件320时,如图3所示,包裹并贴附在清洗滚柱200外柱面上的抹布600,可以通过呈环形的分体密封件320中孔,适当拉紧抹布600两端,并以环形分体式密封件沿清洗滚柱200两端柱面为界面,压紧收口,使抹布600包裹并贴附在清洗滚柱200外柱面上平顺不起皱,同时,剪掉被环形分体式密封件压紧贴合后,在清洗滚柱200两端多余的抹布600作为清洗滚柱200两端收口,即此时的环形分体式密封件320还承担了抹布600的收口锁扣的工作(清洗滚柱200两端面与挡板112并不直接接触,因此,在两端面上留有少量多余抹布600端头,不影响密封)。

当有清洗绕带1111作为柔性件包裹在清洗滚柱200外柱面时,抹布600可附着于清洗绕带1111外柱面上,具体地,如图4中a所示,当抹布600足够薄,局部可相互重叠,不影响清洗滚柱200分别与封围机构100之间的压紧贴合与封闭,如图4中b所示抹布600刚好环绕清洗滚柱200一周,如图4中c所示,抹布600刚好环绕清洗滚柱200一周,且抹布600两端嵌入到清洗滚柱200内被压紧锁住。

实施例二

请参阅图5,本实施例与实施例一(结构如图1所示)的区别在于,清洗滚柱200至少设有两个,各清洗滚柱200依次设置,其中,至少有两个相邻的清洗滚柱200之间留有围合间隙;封围机构100包括封围结构110(图中仅示出局部)以及至少一个围合滚柱120,围合滚柱120的中心轴线与清洗滚柱200的中心轴线平行;围合间隙至少设有一个围合滚柱120,其中,如图5所示,围合间隙可以仅设有一个围合滚柱120,也可以设有两个及以上的围合滚柱120;封围机构100、各围合滚柱120和各清洗滚柱200共同形成封闭式自洗腔101。基于此,通过增加清洗滚柱200的数量,可增强接触式清洗装置单位时间内的清洁能力。

在本实施例中,清洗滚柱200设有两个,围合滚柱120设有一个。

在其他实施例中,两清洗滚柱200之间可以不间隔,即直接接触,具体地,清洗滚柱200至少设有两个,各清洗滚柱200依次设置,其中,至少有两个相邻的清洗滚柱200相抵接。其中,通过增加清洗滚柱200的数量,可增强接触式清洗装置单位时间内的清洁能力。

在此需要说明的是,清洗滚柱200处于自洗位置的外柱面在历经自洗位置的过程中,清洗滚柱200处于自洗位置的外柱面与挤压清洗滚柱200的外表面的挤压面之间至少其中之一侧表面为柔性材料制成,也即是在两清洗滚柱200之间、在清洗滚柱200与围合滚柱120之间、在清洗滚柱200与封围机构100之间,两两压紧的贴合面中,至少一侧表面为柔性材料制成,包括在清洗滚柱200外柱面上附着有抹布600等,其中,在两清洗滚柱200之间、在清洗滚柱200与围合滚柱120之间,在使用状态下的典型配合关系如图6所示,围合滚柱120(清洗滚柱200)紧贴于清洗滚柱200上,清洗滚柱200的外柱面受到围合滚柱120的挤压,会产生一定的形变,清洗滚柱200与围合滚柱120之间的接触为面接触,此接触面起到重要的密封作用,能够在接触式清洗装置使用过程中,避免因两两刚性接触、或出现抖动等情况导致清洗滚柱200与围合滚柱120之间跳开而漏水;进一步地,在两清洗滚柱200之间、在清洗滚柱200与围合滚柱120之间、在清洗滚柱200与封围机构100之间(如上述实施例一),两两压紧贴合的外表面中,至少一侧为柔性表面。

实施例三

本实施例与实施例二(结构如图5所示)的区别在于,至少有两个相邻的清洗滚柱200相抵接,也即是在本实施例中,有一部分两个相邻的清洗滚柱200直接相抵接,也有一部分两个相邻的清洗滚柱200并不直接相抵接,而是两者留有间隙。

实施例四

请参阅图7,本实施例与实施例二(结构如图5所示)的区别在于,围合滚柱120设有两个。

实施例五

请参阅图8和图10,在本实施例与实施例二(结构如图5所示)的区别在于,围合滚柱120设有三个;封围结构110包括封围构件111以及两个挡板112;封围构件111和清洗滚柱200均位于两挡板112之间;封围构件111、清洗滚柱200和两挡板112共同围合形成封闭式自洗腔101。该结构简单、稳定、可靠,便于实现,在具体实施例中,只需使封围构件111、清洗滚柱200和两挡板112之间的相接处实现密封即可,其中,实现密封的方式根据连接处的具体结构形状,采用本领域的常规技术手段选择即可。

请参阅图8,其结构显示了其中的一种密封形式,在清洗滚柱200、围合滚柱120的两端设置有密封件,根据实际需要,可分为与清洗滚柱200、围合滚柱120外柱面连体的连体密封件310以及分体的分体密封件320(在本实施例中,如图所示,清洗滚柱200、围合滚柱120的两端其中一端设置有连体密封件310,另一端设置有分体密封件320;在其他实施例中,清洗滚柱200、围合滚柱120的两端可以是均设置有连体密封件310,也可以是均设置有分体密封件320),挡板112上的阴影部分为光滑(台)面,与连体密封件310或分体密封件320压紧、接触实现密封,当在封闭式自洗腔101中放置有清洗水时,密封件与光滑面之间既能滑动又能密封,可实现清洗滚柱200、围合滚柱120的旋转并密封;反之,也可以把光滑面设置在清洗滚柱200、围合滚柱120的两端,把密封件设置在挡板112阴影部位,同理可实现密封。其中,光滑面为一凸起台面,只设置在封闭式自洗腔101围界的扇形处,这样,在每一轮旋转中,清洗滚柱200或围合滚柱120两端的密封件,只需要在构建封闭式自洗腔101、处于封闭式自洗腔101围界扇形区时才参与密封,在离开封闭式自洗腔101围界扇形区后,密封件与光滑面脱开接触,这样设置,既提高了密封件的使用寿命,又有效降低了清洗滚柱200或围合滚柱120的旋转阻力。

请参阅图9,清洗滚柱200处于自洗位置的外柱面为封闭式自洗腔101的清洗滚柱构造面201,以及围合滚柱120外柱面为封闭式自洗腔101的围合滚柱构造面121,共同参与构建封闭式自洗腔101。其中,在清洗滚柱构造面201上的虚线框格部位,即可设置为清洗滚柱200外柱面在封闭式自洗腔101内的自洗区域。

请参阅图8、图10和图11,在本实施例中,封围机构设有压紧调节机构500,压紧调节机构500用于调整清洗滚柱200处于自洗位置的外柱面移出封闭式自洗腔101时所受到的挤压力。如此,可实现对清洗滚柱200处于自洗位置的外柱面在进入和移出自洗位置时,在围合滚柱120的外柱面受到排水挤压的挤压力可调、可控。

具体地,清洗滚柱200设有两个,清洗滚柱200的柱端具有轴承590,压紧调节机构500包括第一径向锁环510、第二径向锁环520、第一压紧力弹簧530、第二压紧力弹簧540、压紧力扳手550以及压紧力调节螺栓560;第一径向锁环510与第一压紧力弹簧530之间,通过第一锁扣581旋转90度,锁上而连接,再通过第一锁扣581旋转90度,解锁而脱开,使得第一径向锁环510脱开对应的清洗滚柱200的轴承590,以装入、或取出对应的清洗滚柱200,如图10所示;同理,第二径向锁环520与第二压紧力弹簧540之间,通过第二锁扣582旋转90度,锁上而连接,再通过第二锁扣582旋转90度,解锁而脱开,使得第二径向锁环520脱开对应的清洗滚柱200的轴承590,以装入、或取出对应的清洗滚柱200;

第一径向锁环510的一端铰支在挡板112上,且转动轴线与清洗滚柱200的中心轴线平行,第一径向锁环510的中部压紧对应的清洗滚柱200的轴承590,第一径向锁环510的另一端与其中一个第一压紧力弹簧530的一端之间,通过第一锁扣581的90度旋转、与其连接、或脱开;

第二径向锁环520的一端铰支在挡板112上,且转动轴线与清洗滚柱200的中心轴线平行,第二径向锁环520的中部压紧另一侧的清洗滚柱200的轴承590,第二径向锁环520的另一端与另一第二压紧力弹簧540的一端之间,通过第二锁扣582的90度旋转、与其连接、或脱开;

第一压紧力弹簧530的另一端连接于压紧力扳手550;

第二压紧力弹簧540的另一端连接于压紧力扳手550;

压紧力扳手550与压紧力调节螺栓560螺纹连接,其中,通过旋转压紧力调节螺栓560,可以调整压紧力扳手550与第一径向锁环510之间的距离以及调整压紧力扳手550与第二径向锁环520之间的距离。

压紧力调节螺栓560的下端与转向件570相连,当压紧力调节螺栓560旋转时,可以升高、或降低压紧力扳手550,从而调整压紧力扳手550与第一径向锁环510之间的距离以及调整压紧力扳手550与第二径向锁环520之间的距离。

通过压紧力调节螺栓560及转向件570,压紧力扳手550铰支在挡板112上,其上端,可以向外转离挡板112;当压紧力扳手550上端向内贴向挡板112而竖直时,第一压紧力弹簧530以及第二压紧力弹簧540处于长距状态,弹簧力向上提升第一径向锁环510以及二径向锁环,使得两清洗滚柱200的轴承590向其两侧围合滚柱120方向挤压,将清洗滚柱200压紧贴合在围合滚柱120上;当压紧力扳手550上端向外扳离挡板112而向外倾斜时,第一压紧力弹簧530以及第二压紧力弹簧540处于短距状态而松弛,第一锁扣581以及第二锁扣582可以旋转一个90度,使得第一压紧力弹簧530以及第二压紧力弹簧540脱开第一径向锁环510以及第二径向锁环520,分别装入、或取出清洗滚柱200。

同时,从图10中可以看到,清洗滚柱200很容易被装入、取出,很容易在装入后与围合滚柱112压紧贴合封闭,构建封闭式自洗腔101;以及,在取出后,很容易更换分体密封件320以及抹布600(如果有),并在清洗滚柱200的装入位置,即两围合滚柱112之间,留出上下穿透的间隙,很容易冲洗本接触式清洗装置内部残留的污垢。

在具体使用过程中,可通过旋转压紧力调节螺栓560来调整压紧力扳手550与第一径向锁环510之间的距离以及调整压紧力扳手550与第二径向锁环520之间的距离,从而改变第一压紧力弹簧530以及第二压紧力弹簧540弹簧力,调节第一径向锁环510以及第二径向锁环520与围合滚柱120之间的压紧力。如此,在清洗滚柱200与围合滚柱120之间,总找得到这样一种压紧力,使得压紧挤压面拧干清洗滚柱200上的水分,或拧干清洗滚柱200上抹布600的水分,湿润且不淌水。

同理,通过合理变换,压紧调节机构500适用于本申请的其他实施例,包括实施例一。

实施例六

请参阅图12,本实施例与实施例二(结构如图5所示)的区别在于,封围机构100包括封围结构110,封围结构110包括封围构件111以及两个挡板112;封围构件111和清洗滚柱200均位于两挡板112之间;封围构件111、清洗滚柱200和两挡板112共同围合形成封闭式自洗腔101。

在本实施例中,封围构件111包括封围绕带1111和至少两个内置封围滚柱1112,各内置封围滚柱1112的外柱面抵接清洗滚柱200的内环带面,并共同张紧封围绕带1111,内置封围滚柱1112的中心轴线与清洗滚柱200的中心轴线平行。具体地,内置封围滚柱1112设有两个。

在本实施例中,封围构件111还可以包括若干个外置封围滚柱1113,可调整封闭式自洗腔101的空间布局,各外置封围滚柱1113的外柱面抵接清洗滚柱200的外柱面,并与各内置封围滚柱1112共同张紧封围绕带1111,外置封围滚柱1113的中心轴线与清洗滚柱200的中心轴线平行。

具体地,外置封围滚柱1113设有一个,亦可视情设置若干个。

实施例七

请参阅图13,本实施例与实施例二(结构如图5所示)的区别在于,封围机构100包括封围结构110,封围结构110包括至少一个封合滚柱130以及两个围板(图中未示出),封合滚柱130的中心轴线与清洗滚柱200的中心轴线平行;

封合滚柱130和清洗滚柱200至少其中之一设有两个;

各清洗滚柱200、各封合滚柱130以及两个围板共同围合形成密封式自洗腔。

该结构有利于提高封围机构100自身的密封性,提高密封可靠性。

请参阅图13,在本实施例中,封合滚柱130设有三个,清洗滚柱200设有两个。

请参阅图13,在本实施例中,两清洗滚柱200之间留有间隙,封围机构100还包括一个围合滚柱120,围合滚柱120的中心轴线与清洗滚柱200的中心轴线平行,围合滚柱120设置于间隙。其中,间隙可以仅设置一个围合滚柱120,如图13所示,还可以设置两个及以上的围合滚柱120。

各清洗滚柱200、各封合滚柱130、两个围板以及各维护滚柱至少共同形成封闭式自洗腔101。

以上仅为本申请的较佳实施例而已,并不用以限制本申请,凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换或改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

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