一种综合电镀废水中重金属去除的处理方法_2

文档序号:9680210阅读:来源:国知局
移至絮凝池中,加入絮凝剂聚丙烯酰胺14.4mg,充 分搅拌进行絮凝,搅拌过程中调节体系的pH值至6,通过调节pH值目的是为了控制浸出量, 防止重金属铜、铬和镍的释放,提高重金属的去除率,调好之后,再搅拌5分钟,然后,再静置 沉淀,过滤除去沉淀物,得到去除重金属铜、铬和镍后的电镀废水,然后,调pH值至中性后再 排放。经过测定,排放的废水中重金属的总去除率能够达到97%。
[0023] 实施例3
[0024] 根据实际需要,选用某电镀公司的综合电镀废水,该综合电镀废水中含有铜、铬和 镍重金属,更具体的说,该综合电镀废水中含有铜离子以及其与m)TA、氨和柠檬酸形成的配 合物、铬离子以及其与EDTA、氨和柠檬酸形成的配合物和镍离子以及其与EDTA、氨和柠檬酸 形成的配合物,通过测定,该废水的pH值为2.5,加入氢氧化钠溶液,调节体系的pH值至3.5, 再选取10L上述的综合电镀废水投入反应池中,然后,在10L综合电镀废水中加入重金属离 子捕集剂哌嗪-双-二硫代氨基甲酸盐l〇mg,控制温度在25°C条件下进行充分反应15分钟后 使电镀废水中相应的重金属铜、铬和镍均与重金属离子捕集剂哌嗪-双-二硫代氨基甲酸盐 形成螯合物;然后,再将废水转移至絮凝池中,加入絮凝剂聚丙烯酰胺l〇mg,充分搅拌进行 絮凝,搅拌过程中调节体系的pH值至5.0,通过调节pH值目的是为了控制浸出量,防止重金 属铜、铬和镍的释放,提高重金属的去除率,调好之后,再搅拌5分钟,然后,再静置沉淀,过 滤除去沉淀物,得到去除重金属铜、铬和镍后的电镀废水,然后,调pH值至中性后再排放。经 过测定,排放的废水中重金属的总去除率能够达到96%。
[0025] 实施例4
[0026] 根据实际需要,选用某电镀公司的综合电镀废水,该综合电镀废水中含有铜、铬和 镍重金属,更具体的说,该综合电镀废水中含有铜离子以及其与m)TA、氨和柠檬酸形成的配 合物、铬离子以及其与EDTA、氨和柠檬酸形成的配合物和镍离子以及其与EDTA、氨和柠檬酸 形成的配合物,通过测定,该废水的pH值为6.0,选取10L上述的综合电镀废水投入反应池 中,然后,在10L综合电镀废水中加入重金属离子捕集剂哌嗪-双-二硫代氨基甲酸盐10mg, 且所述重金属离子捕集剂中还混有二氧化硅、蒙脱土和季铵盐木质素,且重金属离子捕集 剂:二氧化硅:蒙脱土 :季铵盐木质素的质量比为1: 〇. 20:0.06:0.05,控制温度在25°C条件 下进行充分反应15分钟后使电镀废水中相应的重金属铜、铬和镍均与重金属离子捕集剂哌 嗪-双-二硫代氨基甲酸盐形成螯合物;然后,再将废水转移至絮凝池中,加入絮凝剂聚丙烯 酰胺12mg,充分搅拌进行絮凝,搅拌过程中调节体系的pH值至6.0,通过调节pH值目的是为 了控制浸出量,防止重金属铜、铬和镍的释放,提高重金属的去除率,调好之后,再搅拌5分 钟,然后,再静置沉淀,过滤除去沉淀物,得到去除重金属铜、铬和镍后的电镀废水,然后,调 pH值至中性后再排放。经过测定,排放的废水中重金属的总去除率能够达到99.5%。
[0027] 实施例5
[0028]根据实际需要,选用某电镀公司的综合电镀废水,该综合电镀废水中含有铜、铬和 镍重金属,更具体的说,该综合电镀废水中含有铜离子以及其与m)TA、氨和柠檬酸形成的配 合物、铬离子以及其与EDTA、氨和柠檬酸形成的配合物和镍离子以及其与EDTA、氨和柠檬酸 形成的配合物,通过测定,该废水的pH值为6.0,选取10L上述的综合电镀废水投入反应池 中,然后,在10L综合电镀废水中加入重金属离子捕集剂四亚乙基五胺二硫代氨基甲酸盐 l〇mg,且所述重金属离子捕集剂四亚乙基五胺二硫代氨基甲酸盐中还混有二氧化硅、蒙脱 土和季铵盐木质素,且重金属离子捕集剂四亚乙基五胺二硫代氨基甲酸盐:二氧化硅:蒙脱 土 :季铵盐木质素的质量比为1:0.2:0.06:0.05,控制温度在20°C条件下进行充分反应10分 钟后使电镀废水中相应的重金属铜、铬和镍均与重金属离子捕集剂四亚乙基五胺二硫代氨 基甲酸盐形成螯合物;然后,再将废水转移至絮凝池中,加入絮凝剂三氯化铁12mg,充分搅 拌进行絮凝,搅拌过程中调节体系的pH值至6.0,通过调节pH值目的是为了控制浸出量,防 止重金属铜、铬和镍的释放,提高重金属的去除率,调好之后,再搅拌5分钟,然后,再静置沉 淀,过滤除去沉淀物,得到去除重金属铜、铬和镍后的电镀废水,然后,调pH值至中性后再排 放。经过测定,排放的废水中重金属的总去除率能够达到99.6%。
[0029] 实施例6
[0030]本实施例的具体处理方法同实施例5-致,区别仅在于重金属离子捕集剂四亚乙 基五胺二硫代氨基甲酸盐:二氧化硅:蒙脱土 :季铵盐木质素的质量比为1:0.23:0.055: 0.06。对最终排放的废水进行测定,排放的废水中重金属的总去除率能够达到99.5%。 [0031] 实施例7
[0032 ]根据实际需要,选用某电镀公司的综合电镀废水,该综合电镀废水中含有铜、铬和 镍重金属,更具体的说,该综合电镀废水中含有铜离子以及其与m)TA、氨和柠檬酸形成的配 合物、铬离子以及其与EDTA、氨和柠檬酸形成的配合物和镍离子以及其与EDTA、氨和柠檬酸 形成的配合物,通过测定,该废水的pH值为6.5,再选取10L上述的综合电镀废水投入反应池 中,然后,在10L综合电镀废水中加入DTCR重金属捕集剂10mg,DTCR重金属捕集剂的分子量 为50万~60万,控制温度在30°C条件下进行充分反应12分钟后使电镀废水中相应的重金属 铜、铬和镍均与DTCR重金属捕集剂形成螯合物;然后,再将废水转移至絮凝池中,加入絮凝 剂聚丙烯酰胺llmg,充分搅拌进行絮凝,搅拌过程中调节体系的pH值至8.0,通过调节pH值 目的是为了控制浸出量,防止重金属铜、铬和镍的释放,提高重金属的去除率,调好之后,再 搅拌5分钟,然后,再静置沉淀,过滤除去沉淀物,得到去除重金属铜、铬和镍后的电镀废水, 然后,调pH值至中性后再排放。经过测定,排放的废水中重金属的总去除率能够达到 95.2%〇
[0033]本发明中所描述的具体实施例仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领 域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替 代,但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
[0034]尽管对本发明已作出了详细的说明并引证了一些具体实施例,但是对本领域熟练 技术人员来说,只要不离开本发明的精神和范围可作各种变化或修正是显然的。
【主权项】
1. 一种综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,该方法包括以下步骤: A、 在综合电镀废水中加入重金属离子捕集剂,调节废水的pH值至3-7,然后,再控制温 度在20°C~30°C的条件下进行充分反应后使电镀废水中的重金属与重金属离子捕集剂形 成螯合物;所述综合电镀废水中含有铜、铬和镍重金属; B、 再加入絮凝剂进行絮凝,絮凝过程中保持体系的pH值为3-7,再静置沉淀后,过滤除 去沉淀物,得到去除铜离子后的电镀废水,然后,调pH值至中性后再排放。2. 根据权利要求1所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,步骤A中 所述重金属离子捕集剂为DTCR重金属捕集剂。3. 根据权利要求2所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,所述DTCR 重金属捕集剂选自哌嗪-双-二硫代氨基甲酸盐或四亚乙基五胺二硫代氨基甲酸盐。4. 根据权利要求1或2或3所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,所 述重金属离子捕集剂中还混有二氧化硅、蒙脱土和季铵盐木质素。5. 根据权利要求4所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,所述重金 属离子捕集剂:二氧化硅:蒙脱土 :季铵盐木质素的质量比为1:0.20~0.25:0.05~0.06: 0.05 ~0.06。6. 根据权利要求1或2或3所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,步 骤B中所述pH值为5~6。7. 根据权利要求2或3所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,所述 DTCR重金属捕集剂的用量为9·Omg/L~12mg/L。8. 根据权利要求1或2或3所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,步 骤B中所述絮凝剂为三氯化铁或聚丙烯酰胺。9. 根据权利要求2或3所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,所述 DTCR重金属捕集剂与絮凝剂的质量比为1:1.0~1.2。10. 根据权利要1所述综合电镀废水中重金属去除的处理方法,其特征在于,步骤A中所 述反应的时间为5~20分钟。
【专利摘要】本发明涉及一种综合电镀废水中重金属去除的处理方法,属于工业废水处理技术领域。为了解决的问题是如何实现综合电镀废水中的重金属,且使整体重金属的去除率较好的效果。提供一种综合电镀废水中重金属去除的处理方法,该方法包括在综合电镀废水中加入重金属离子捕集剂,调节废水的pH值至3-7,然后,再控制温度在20℃~30℃的条件下进行充分反应后使电镀废水中的重金属与重金属离子捕集剂形成螯合物;所述综合电镀废水中含有铜、铬和镍重金属;再加入絮凝剂进行絮凝,絮凝过程中保持体系的pH值为3-7,再静置沉淀后,过滤除去沉淀物,得到去除铜离子后的电镀废水,然后,调pH值至中性后再排放。本发有的方法能够实现较好的重金属去除率的效果,综合废水中重金属的总去除率能够达到96%以上。
【IPC分类】C02F103/16, C02F9/04
【公开号】CN105439314
【申请号】CN201510783857
【发明人】赵杰
【申请人】台州学院
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2015年11月16日
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