一种含氰电镀废水处理系统的制作方法

文档序号:10843782阅读:782来源:国知局
一种含氰电镀废水处理系统的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种含氰电镀废水处理系统,包括依次布置且依次连通的调节池(1)、破氰池一(2)、破氰池二(3)、高效气浮装置(4)、污泥池(12)、板框压滤机(13)和固废处理装置(14),在高效气浮装置(4)后面还依次布置且依次连通有含铜废水调节池(5)、一级反应池(6)、二级反应池(7)、中间水池(8)、TMF系统(9)、RO系统(10)和回用水池(11),所述电镀污泥处理装置为回转窑固废焚烧系统。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:结构简单、废水全部处理回用并且电镀污泥处理彻底。
【专利说明】
一种含氰电镀废水处理系统
技术领域
[0001]本实用新型涉及电镀废水处理领域,具体是一种含氰电镀废水处理系统。
【背景技术】
[0002]电镀工厂(或车间)排出的废水和废液,如电镀前处理废水、镀件漂洗水、废槽液、设备冷却水和冲洗地面水等,其水质因生产工艺而异,电镀废水的水质复杂、成分不易控制。废水中的金属离子有的以简单的阳离子形态存在,有的以酸根阴离子形式存在。有的电镀废水含铬,有的含镍、含铜、含氰、含酸、含碱及氰化物等。电镀废水多有毒,危害较大。如氰可引起人畜急性中毒,致死,低浓度长期作用也能造成慢性中毒。六价铬可引起肺癌、肠胃道疾病和贫血,并会在骨、脾和肝脏内蓄积。因此,电镀废水必须严格控制,妥善处理,一旦处理不彻底将对环境以及人们的身体健康造成严重的危害。
[0003]电镀企业的排放废水中,含氰废水来自所有有氰电镀工艺,这类废水中含有较高氰化物,并含一定铜、锌离子,一般在破氰预处理后,再与其他废水合并处理。随着环保部门对电镀企业废水排放要求越来越高,很多地方政府环保部门要求提高电镀废水的回用率。但是,目前绝大多数电镀企业的废水回用率很低,同时对于电镀污泥的处置没有做到彻底处理,仅仅作为危险固体废弃物委托第三方定期托运并处理。电镀污泥在现场贮存和运输过程中存在一定安全隐患。

【发明内容】

[0004]本实用新型的目的在于提供一种结构简单、废水全部处理回用并且电镀污泥处理彻底的含氰电镀废水处理系统。为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
[0005]—种含氰电镀废水处理系统,包括依次布置且依次连通的调节池(I)、破氰池一
(2)、破氰池二 (3)、高效气浮装置(4)、污泥池(12)、板框压滤机(13)和固废处理装置(14),在高效气浮装置(4)后面还依次布置且依次连通有含铜废水调节池(5)、一级反应池(6)、二级反应池(7)、中间水池(8)、TMF系统(9)、R0系统(10)和回用水池(11),所述固废处理装置为回转窑固废焚烧系统。
[0006]含氰废水中主要污染物包括氰化物、锌、铜等污染物以及少量有机污染物等。含铜废水中含铜及一些焦磷酸络合物等。为便于处理同时降低工程造价,本实用新型将含氰废水进行两级破氰后经过高效气浮装置进行泥水分离,与含铜废水在含铜废水调节池中混合后合并处理,经过一级反应池和二级反应池的处理,一级反应池、二级反应池产生的沉淀与高效气浮装置产生的气浮沉淀通过栗打入污泥池,然后通过高压栗将电镀污泥打入板框压滤机中,经过压缩处理后的电镀污泥通过固废处理装置即回转窑固废焚烧系统充分燃烧最终无害化处理。本实用新型简化了含氰废水和含铜废水的处理工艺,降低了废水处理的整体成本和工程造价,并且本实用新型的含氰废水经TMF系统和RO系统处理后实现100%回用。
[0007]传统的RO膜过滤系统预处理工艺中,一般采取砂滤-保安过滤器-超滤等一系列工艺,操作较繁琐,反洗频繁。针对电镀废水,由于有机物的分子量较小,而且无微生物存在,传统的一整套预处理系统对COD和较小粒径的胶体去除效果不明显,各工艺的功能不能得以体现。
[0008]本实用新型中的TMF系统即管式微滤膜,是一种有效的固液分离技术,具有多种可选膜孔径(0.5μηι、0.Ιμπι和0.05μηι),过滤精度达到超滤级别。TMF运行方式为低压错流方式,由于膜管内的流速可达3-4m/sec,污染物很难在膜表面堆积,膜污染现象较轻。TMF膜具有代替传统沉淀池,同时也能获得极佳的透过水性能的膜过滤装置。在浊度方面,TMF膜出水远远优于砂滤器的出水,而接近超滤产水的浊度。
[0009]本实用新型中的RO系统即膜法除盐系统,是利用半渗透膜为过滤介质,使盐溶液在加压条件下,溶剂水透过膜渗出,形成透过液;溶质由于无法透过膜而形成浓缩液,实现溶质盐和溶剂水的分离,达到脱盐的目的。RO系统承担了主要的脱盐作用,主要去除水中溶解盐类及脱色,同时去除一些有机大分子,前阶段未去除的小颗粒等。标准反渗透膜对水中的溶解性离子可以达到99%以上的截留率,对多价离子、有机物等的截留则更为彻底。反渗透系统对废水脱盐处理的脱盐率一般达95%以上,对C0D、B0D去除率在85%以上,产水水质稳定可靠。废水经过反渗透膜过滤出水浊度、C0D、SS、金属离子含量等指标极低,可直接回用。本实用新型的RO系统包括加还原剂装置、阻垢剂加药装置、高压栗、反渗透装置等。阻垢剂加药系统是在反渗透进水中加入阻垢剂,防止反渗透浓水中碳酸钙、碳酸镁、硫酸钙等难溶盐浓缩后析出结垢,堵塞反渗透膜。
[0010]作为本实用新型进一步的方案:所述RO系统采用的RO膜为卷式膜结构。通过改进的卷制工艺,提高膜组件的膜有效面积,提高单根膜组件的产水量,减少人为影响。
[0011]作为本实用新型再进一步的方案:所述RO系统的进水隔网选用厚度34mil的膜元件。由于进水中含有胶体、大分子有机物的污染物流入膜元件中,容易造成了进水流道的堵塞,从而使系统压差上升、性能下降。选用进水隔网厚度更宽的34mil膜元件,有利于防止流道的阻塞,降低膜元件的污染。
[0012]本实用新型的含氰电镀废水处理系统,还包括各处理单元间用于输送废水的管路以及提升栗、各处理单元间的流量计和控制阀。
[0013]与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:结构简单、废水全部处理回用并且电镀污泥处理彻底。
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型的结构示意图。
[0015]图中序号分别为:调节池1、破氰池一2、破氰池二3、高效气浮装置4、含铜废水调节池5、一级反应池6、二级反应池7、中间水池8、TMF系统9、RO系统10、回用水池11、污泥池12、板框压滤机13、固废处理装置14。
【具体实施方式】
[0016]下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0017]请参阅图1,本实用新型实施例中,一种含氰电镀废水处理系统,包括依次布置且依次连通的调节池(1)、破氰池一 (2)、破氰池二 (3)、高效气浮装置(4)、污泥池(12)、板框压滤机(13)和固废处理装置(14),在高效气浮装置(4)后面还依次布置且依次连通有含铜废水调节池(5)、一级反应池(6)、二级反应池(7)、中间水池(8)、TMF系统(9)、R0系统(10)和回用水池(11),所述固废处理装置为回转窑固废焚烧系统。所述RO系统采用的RO膜为卷式膜结构,RO系统的进水隔网选用厚度34mil的膜元件。
[0018]具体的处理过程中,含氰废水从电镀车间的集水井通过提升栗进入废水调节池,经破氰池一、破氰池二的两级次氯酸钠彻底破氰后,经过高效气浮装置进行泥水分离后,与含铜废水一起在含铜废水调节池内混合充分,然后进入一级反应池、二级反应池处理,两个反应池的沉淀与高效气浮装置的沉淀通过栗打入污泥池,然后通过高压栗将电镀污泥打入板框压滤机中,经过压缩处理后的电镀污泥通过固废处理装置即回转窑固废焚烧系统充分燃烧最终无害化处理。二级反应池上清液经提升栗打入中间水池,调节水量,根据实际需要,将中间水池的水通过栗打入TMF系统,去除水中细小颗粒、胶体、悬浮颗粒、色度、浊度、细菌、大分子有机物后,再经增压栗增压进入RO系统进行回用处理,处理后淡水进入回用水池,最终回用至电镀车间。RO系统承担了主要的脱盐作用,主要去除水中溶解盐类及脱色,同时去除一些有机大分子,前阶段未去除的小颗粒等。RO系统包括加还原剂装置、阻垢剂加药装置、高压栗、反渗透装置等。阻垢剂加药系统是在反渗透进水中加入阻垢剂,防止反渗透浓水中碳酸钙、碳酸镁、硫酸钙等难溶盐浓缩后析出结垢,堵塞反渗透膜。
[0019]本实用新型的含氰电镀废水处理系统,还包括各处理单元间用于输送废水的管路以及提升栗、各处理单元间的流量计和控制阀。
[0020]对于本领域技术人员而言,上述仅为本实用新型的【具体实施方式】,但本实用新型的设计构思并不局限于此。凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动形成的技术方案,均应落入本实用新型保护范围之内。
【主权项】
1.一种含氰电镀废水处理系统,包括依次布置且依次连通的调节池(I)、破氰池一 (2)、破氰池二 (3)、高效气浮装置(4)、污泥池(12)、板框压滤机(13)和固废处理装置(14),其特征在于,在高效气浮装置(4)后面还依次布置且依次连通有含铜废水调节池(5)、一级反应池(6)、二级反应池(7)、中间水池(8)、TMF系统(9)、R0系统(10)和回用水池(11),所述固废处理装置为回转窑固废焚烧系统。2.根据权利要求1所述的一种含氰电镀废水处理系统,其特征在于,所述RO系统采用的RO膜为卷式膜结构。3.根据权利要求1所述的一种含氰电镀废水处理系统,其特征在于,所述RO系统的进水隔网选用厚度34mil的膜元件。4.根据权利要求1?3任一项所述的含氰电镀废水处理系统,其特征在于:所述的处理系统还包括各处理单元间用于输送废水的管路以及提升栗。5.根据权利要求1?3任一项所述的含氰电镀废水处理系统,其特征在于:所述的处理系统还包括各处理单元间的流量计和控制阀。
【文档编号】C02F9/04GK205528096SQ201620003582
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年1月5日
【发明人】不公告发明人
【申请人】黄荣波
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