一种新型结构的溅盘式再分布器的制作方法

文档序号:5052238阅读:248来源:国知局
专利名称:一种新型结构的溅盘式再分布器的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种再分布器装置,具体涉及一种新型结构的溅盘式再分布器。
背景技术
现有的溅盘式再分布器的结构是由气体上升管、上升管盖板、导流槽、分布溅盘 构成。再分布器与塔板为现场装配,通过将上升管与塔板焊接来固定再分布器。上升管与 塔板之间采用双面焊,塔板下面开45度V形坡口,下面为V形坡口对接焊接,上面为焊脚高 度为8的角焊接。由此产生3个问题1)为了保证气体均勻分布,每个再分布器上升管盖板开口方向是不一样的,但现 场只能用肉眼来观测,因此保证不了图纸要求;2)由于塔内空间所限,下面的V形坡口对接焊接很难完成,所以现场常常忽略下 面的V形坡口对接焊接,造成焊接不牢固;3)由于现场只能用肉眼来观测,再分布器的水平度很难保证,而水平度对喷洒均 勻性影响又很大,因而影响了再分布器的功能。
发明内容本实用新型的目的是开发出一种既安装方便,又能保证气体均勻分布、液体喷洒 均勻的新型结构的溅盘式再分布器。为实现上述目的,本实用新型通过以下技术方案实现一种新型结构的溅盘式再分布器,包括上升管盖板、导流槽、气体上升管、分布溅 盘,其特征在于,在气体上升管的轴向设置有定位环,定位环设置在塔板上面。沿气体上升管的圆周方向还设置有挡块,挡块沿圆周均勻分布,一块挡块设置在 塔板的槽内。与现有技术相比,本实用新型的优点是1)定位环设置在塔板上面,可保证再分布器的水平度,只在上面进行单面焊接,方 便安装;2)沿气体上升管的圆周方向还设置有挡块,挡块沿圆周均勻分布,一块挡块设置 在塔板的槽内,保证周向定位,确保上升管盖板开口方向。

图1是本实用新型的结构示意图;图2是本实用新型定位环及挡块的结构示意图;图中1_上升管盖板、2-导流槽、3-气体上升管、4-分布溅盘、5-定位环、6-挡块、 7-挡块具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步描述见图1、图2,一种新型结构的溅盘式再分布器,包括上升管盖板1、导流槽2、气体 上升管3、分布溅盘4、定位环5、挡块6、挡块7,0 360的定位环5放在开孔为0 350的塔板 上,保证了再分布器的水平度及喷洒均勻性,并且容易将再分布器固定在塔板上及施焊。在 上升管盖板1开口方向的反方向增加挡块7,并且在与挡块7相隔120°方向增加2个挡块 6,挡块6和挡块7保证了再分布器与塔板开孔同心;把挡块7卡在塔板的槽内,只要塔板的 开槽是变化的,就保证了每个再分布器上升管盖板开口方向是不一样的,从而保证了气体 的均勻分布。
权利要求一种新型结构的溅盘式再分布器,包括上升管盖板、导流槽、气体上升管、分布溅盘,其特征在于,在气体上升管的轴向设置有定位环,定位环设置在塔板上面。
2.根据权利要求1所述的一种新型结构的溅盘式再分布器,其特征在于,沿气体上升 管的圆周方向还设置有挡块,挡块沿圆周均勻分布,一块挡块设置在塔板的槽内。
专利摘要本实用新型涉及一种再分布器装置,具体涉及一种新型结构的溅盘式再分布器,包括上升管盖板、导流槽、气体上升管、分布溅盘,其特征在于,在气体上升管的轴向设置有定位环,定位环设置在塔板上面。沿气体上升管的圆周方向还设置有挡块,挡块沿圆周均匀分布,其中一个挡块设置在塔板的槽里。与现有技术相比,本实用新型的优点是1)定位环设置在塔板上面,可保证再分布器的水平度,只在上面进行单面焊接,使得安装方便;2)沿气体上升管的圆周方向还设置有挡块,挡块沿圆周均匀分布,挡块设置在塔板的槽内,保证周向定位,确保上升管盖板开口方向。
文档编号B01D53/18GK201603412SQ200920351640
公开日2010年10月13日 申请日期2009年12月29日 优先权日2009年12月29日
发明者于涛, 盛云彩, 苑松柏 申请人:中冶焦耐(大连)工程技术有限公司;中冶焦耐工程技术有限公司
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