1.一种用于将第一种流和第二种流引入到工艺液体的流中的方法，所述方法包括以下步骤：
a. 形成一对或多对喷射混合器（12、14），每一对混合器包括前一混合器（12）和后一混合器（14），每一对混合器中的所述后一混合器（14）定位在工艺管路的壁上，定位的位置从具有所述前一混合器（12）且沿所述工艺管路（20）的轴线延伸的平面偏离最多20度，
b. 利用所述前一混合器（12）将所述第一种流与引入液体一起作为一个或多个第一射流喷射到在所述工艺管路（20）中行进的所述工艺液体中，
c. 执行基本上垂直于所述工艺液体的流动方向的所述喷射，每一第一射流形成混合场，每一混合场包括所述工艺管路（20）中的两股逆旋涡流，
d. 利用所述后一混合器（14）将所述第二种流作为一个或多个第二射流喷射到所述工艺液体中，所述第二种流的所述喷射基本上垂直于所述工艺液体的流动方向且在所述逆旋涡流之间，用于加强通过每一第一射流形成的所述混合场。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述多对混合器（12、14）基本上均匀地分布在所述工艺管路（20）的圆周上。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过将电清洁设备（30）布置在所述工艺管路（20）的内侧来防止与所述流一起引入的所述至少一种化学制品或所述至少一种化学制品的反应产物沉淀或紧固到所述工艺管路（20）的表面或定位在所述工艺管路（20）中的所述结构的表面上。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，产生出具有用于形成所述沉淀的pH值缺点的层的电场借助于所述清洁设备（30）形成在所述工艺管路（20）的内侧。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述工艺管路（20）内侧布置电场或磁场来防止携带在所述工艺液体中或形成在所述工艺液体中的材料附接或紧固到所述工艺管路的表面（20）上或定位在所述工艺管路中的结构的表面（20）上。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过用一种材料制成所述结构或用所述材料包覆所述结构来防止与所述流一起引入的所述至少一种化学制品或所述至少一种化学制品的反应产物沉淀或紧固到所述工艺管路（20）的表面或定位在所述工艺管路（20）中的所述结构的表面上，所述化学制品或所述反应产物不会附接到或紧固到所述材料上。
7.一种用于执行前述权利要求中的任一项所述的方法的设备，所述设备包括传送所述工艺液体的工艺管路（20）、多个第一喷射混合器（12）和多个第二喷射混合器（14），所述多个第一喷射混合器（12）相对于所述工艺液体的流动方向基本上垂直地引入和混合所述第一种流到所述工艺管路（20）中，所述多个第二喷射混合器（14）布置在所述多个第一喷射混合器（12）下游且与所述多个第一喷射混合器（12）相距一距离，所述多个第二喷射混合器（14）用于相对于所述工艺液体的流动方向基本上垂直地引入和混合第二种流，所述多个第一和第二喷射混合器附接到所述工艺管路（20）的壁上，其特征在于，每一第一和第二喷射混合器（12、14）形成一对喷射混合器，并且所述喷射混合器对（12、14）中的引入所述第二种流的喷射混合器（14）布置在一位置，所述位置在所述工艺管路（20）的圆周上从一直线偏离最多20度，所述直线平行于所述工艺管路的轴线，并且穿过引入所述第一种流的所述喷射混合器（12）。
8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述混合器对（12、14）基本上均匀地分布在所述工艺管路（20）的圆周上。
9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述喷射混合器对（12、14）由前一混合器（12）和后一混合器（14）形成，所述喷射混合器对（12、14）中的后一混合器（14）定位在假想的扇形区A中的所述工艺管路（20）的轴线上，所述扇形区A的角为最多40度，且所述喷射混合器对的所述第一混合器（12）定位在所述扇形区A的直径上。
10.根据权利要求7至权利要求9中任一项所述的设备，其特征在于，所述混合器对的混合器之间的所述距离为从0.05米至2米，优选为从0.05至1米。
11.根据权利要求7至权利要求9中任一项所述的设备，其特征在于，所述距离为用所述工艺液体的流速计算的对应于小于1秒的距离。
12.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，工艺管路清洁设备（30）布置在所述工艺管路（20）的内侧。
13.根据权利要求12所述的设备，其特征在于，所述清洁设备（30）包括基本上在中心布置在所述工艺管路（20）内侧的电极杆（36）、布置在所述工艺管路的表面上的至少一个电极（42），以及包括电压源的控制系统（40）。
14.根据权利要求12所述的设备，其特征在于，所述清洁设备（30）还包括用于监测所述工艺管路中的反应的过程的测量传感器（44）。
15.根据权利要求12所述的设备，其特征在于，所述清洁设备为围绕所述反应器（20）布置的永磁铁或电磁铁（50）。
16.根据权利要求15所述的设备，其特征在于，围绕所述工艺管路（20）布置的所述电磁铁（50）包括围绕所述工艺管路（20）卷绕的导体（52）和与所述导体（52）相连的控制系统（54）。
17.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，由所述工艺液体携带、引入所述工艺液体中或形成在所述工艺液体中的化学制品不能附接到制成所述工艺管路（20）或所述工艺管路（20）内侧的所述结构的材料上或不能附接到包覆所述工艺管路（20）或所述工艺管路（20）内侧的所述结构的材料上。