一种多次搅拌的油墨原料混合装置的制作方法

本实用新型涉及油墨搅拌技术领域，尤其涉及一种多次搅拌的油墨原料混合装置。

背景技术：

发光指示牌在生产时需要在板材上涂覆发光油墨，油墨在生产过程中为了保证油墨混合均匀，需要使用搅拌装置对油墨进行搅拌操作。传统的搅拌装置，无法对油墨进行充分的搅拌，容易出现由于搅拌不均匀而导致的油墨色彩不纯，降低了生产质量，增加了不合格产品占有的比例，增加成本的同时给使用者带来不便。

技术实现要素：

基于背景技术中存在的技术问题，本实用新型提出了一种多次搅拌的油墨原料混合装置

本实用新型提出的一种多次搅拌的油墨原料混合装置，包括搅拌罐，搅拌罐顶端设有预混合料斗，搅拌罐内部设有两个一级搅拌腔和一个二级搅拌腔，两个一级搅拌腔均通过第一导料管与预混合料斗连通，两个一级搅拌腔均通过第二导料管与二级搅拌腔连通，一级搅拌腔内设有一级搅拌装置，二级搅拌腔内设有多个并排布置的二级搅拌装置，二级搅拌腔底部设有出料口，出料口处设有活动门。

优选的，一级搅拌腔呈筒状，一级搅拌装置包括第一转轴和第一驱动机构，第一转轴设置在一级搅拌腔中心位置且第一转轴的中心轴线与一级搅拌腔的中心轴线重合，第一转轴外周分布有多个第一搅拌杆，第一驱动机构与第一转轴连接并驱动第一转轴转动。

优选的，二级搅拌装置包括第二转轴和第二驱动机构，第二转轴的中心轴线垂直于第一转轴的中心轴线，第二转轴外周分布有多个第二搅拌杆，第二驱动机构与第二转轴连接并驱动第二转轴转动。

优选的，预混合料斗内设有预混合搅拌装置。

优选的，预混合搅拌装置包括第三转轴和第三驱动机构，第三转轴竖直设置，第三转轴外周分布有多个第三搅拌杆，第三驱动机构与第三转轴连接并驱动第三转轴转动。

优选的，一级搅拌腔内壁上分布有多个沿其轴向布置的扰流杆。

本实用新型提出的一种多次搅拌的油墨原料混合装置，在工作时，先将待混合的原料依次加入预混合料斗内进行预混合，预混合后的混合料从第一导料管进入两个一级搅拌腔内，一级搅拌装置对混合料进行第一次搅拌，经过第一次搅拌后的混合料从第二导料管进入二级搅拌腔内，混合料在二级搅拌腔内经二级搅拌装置进行第二次搅拌，最后从出料口进行出料。本实用新型通过设置预混合料斗对多种原料进行预混合，在通过两个一级搅拌装置分别对预混合后的混合料进行第一次搅拌，最后由二级搅拌装置对第一次搅拌后的混合料进行最终混合，能够对原料进行充分搅拌，使得原料混合均匀。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种多次搅拌的油墨原料混合装置的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，图1为本实用新型提出的一种多次搅拌的油墨原料混合装置的结构示意图。

参照图1，本实用新型提出一种多次搅拌的油墨原料混合装置，包括搅拌罐1，其中：

搅拌罐1顶端设有预混合料斗2，搅拌罐1内部设有两个一级搅拌腔3和一个二级搅拌腔4。两个一级搅拌腔3均通过第一导料管5与预混合料斗2连通，两个一级搅拌腔3均通过第二导料管6与二级搅拌腔4连通。

一级搅拌腔3呈筒状，一级搅拌腔3内壁上分布有多个沿其轴向布置的扰流杆15，一级搅拌腔3内设有一级搅拌装置，一级搅拌装置包括第一转轴9和第一驱动机构，第一转轴9设置在一级搅拌腔3中心位置且第一转轴9的中心轴线与一级搅拌腔3的中心轴线重合，第一转轴9外周分布有多个第一搅拌杆10，第一驱动机构与第一转轴9连接并驱动第一转轴9转动。

二级搅拌腔4内设有多个并排布置的二级搅拌装置，二级搅拌装置包括第二转轴11和第二驱动机构16，第二转轴11的中心轴线垂直于第一转轴9的中心轴线，第二转轴11外周分布有多个第二搅拌杆12，第二驱动机构16与第二转轴11连接并驱动第二转轴11转动。二级搅拌腔4底部设有出料口7，出料口7处设有活动门8。

本实用新型在工作时，先将待混合的原料依次加入预混合料斗2内进行预混合，预混合后的混合料从第一导料管5进入两个一级搅拌腔3内，一级搅拌装置对混合料进行第一次搅拌，经过第一次搅拌后的混合料从第二导料管6进入二级搅拌腔4内，混合料在二级搅拌腔4内经二级搅拌装置进行第二次搅拌，最后从出料口7进行出料。本实用新型通过设置预混合料斗2对多种原料进行预混合，在通过两个一级搅拌装置分别对预混合后的混合料进行第一次搅拌，最后由二级搅拌装置对第一次搅拌后的混合料进行最终混合，能够对原料进行充分搅拌，使得原料混合均匀。

在具体实施例中，为了提高混合效果，在预混合料斗2内设有预混合搅拌装置，预混合搅拌装置包括第三转轴13和第三驱动机构17，第三转轴13竖直设置，第三转轴13外周分布有多个第三搅拌杆14，第三驱动机构17与第三转轴13连接并驱动第三转轴13转动。在多种原料加入预混合料斗后，通过预混合搅拌装置对多种原料进行预搅拌。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。