1.一种光催化涂料研磨分散装置，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)内部设置有分散机构(2)，所述分散机构(2)底部设置有缓冲机构(5)，所述箱体(1)内部设置有盒体(6)，所述盒体(6)与箱体(1)内壁底部固定连接，所述盒体(6)顶部为开口设置，所述盒体(6)内部设置有研磨机构(7)；
所述研磨机构(7)包括转盘(701)、固定套(702)、电机二(703)、连接杆一(704)、凸块(705)、横板(706)、斜板(707)、连接杆二(708)和滑槽(709)，所述转盘(701)设置在盒体(6)内部，所述转盘(701)为水平设置，所述固定套(702)安装在转盘(701)底部中轴处，所述电机二(703)设置箱体(1)底部中轴处，所述连接杆一(704)安装在电机二(703)输出端，所述连接杆一(704)位于盒体(6)内部，所述凸块(705)连接在转盘(701)顶部中轴处，所述转盘(701)顶部为弧形设置，所述横板(706)、斜板(707)、连接杆二(708)和滑槽(709)的数量均为两个，两个所述横板(706)均分别均分别设置在转盘(701)顶部两端，两个所述横板(706)均为水平设置，两个所述斜板(707)均分别安装在两个横板(706)顶部，两个所述连接杆二(708)均分别安装在两个横板(706)相互远离的一端，两个所述滑槽(709)均分别设置在盒体(6)内壁左右两侧。
2.根据权利要求1所述的一种光催化涂料研磨分散装置，其特征在于：所述箱体(1)顶部中轴处开设有进料口(4)，所述箱体(1)顶部固定连接有挡套(3)，所述挡套(3)的外径大于进料口(4)的直径。
3.根据权利要求1所述的一种光催化涂料研磨分散装置，其特征在于：所述连接杆一(704)的形状与固定套(702)的内部形状相适配，所述连接杆一(704)贯穿固定套(702)且延伸至固定套(702)内部。
4.根据权利要求1所述的一种光催化涂料研磨分散装置，其特征在于：两个所述斜板(707)分别远离两个横板(706)的一端均为向外的倾斜设置。
5.根据权利要求1所述的一种光催化涂料研磨分散装置，其特征在于：两个所述连接杆二(708)均分别贯穿两个滑槽(709)且延伸至两个滑槽(709)内部与两个滑槽(709)内壁接触。
6.根据权利要求1所述的一种光催化涂料研磨分散装置，其特征在于：两个所述横板(706)顶部均固定连接有拉环(8)，两个所述拉环(8)相互靠近的一侧均设置有配重块(10)，两个所述配重块(10)均分别设置在两个横板(706)上，两个所述配重块(10)左右两端均设置有竖杆(9)，四个所述竖杆(9)均分别贯穿两个配重块(10)且延伸至两个配重块(10)外部与两个横板(706)固定连接。
7.根据权利要求1所述的一种光催化涂料研磨分散装置，其特征在于：所述分散机构(2)包括转杆(201)、固定环(202)、旋转齿(203)和电机一(204)，所述转杆(201)设置在箱体(1)内部上端，所述转杆(201)为水平设置，所述电机一(204)设置箱体(1)右上端，所述转杆(201)左侧通过轴承与箱体(1)内壁转动连接，所述转杆(201)右侧与电机一(204)输出端固定连接，所述固定环(202)的数量为四个，四个所述固定环(202)均分别固定套设在转杆(201)外表面，所述旋转齿(203)的数量为八个，八个所述旋转齿(203)均分别固定连接在四个转杆(201)的上下两端。
8.根据权利要求1所述的一种光催化涂料研磨分散装置，其特征在于：所述缓冲机构(5)包括缓冲板(501)、隔板(502)、弹簧(503)、固定座(504)、弧形杆(505)和弧形套(506)，所述缓冲板(501)、隔板(502)、弹簧(503)、固定座(504)、弧形杆(505)和弧形套(506)的数量均为两个，两个所述缓冲板(501)均分别通过转轴与箱体(1)内壁转动连接，两个所述隔板(502)均分别固定连接在两个缓冲板(501)顶部，两个所述弹簧(503)均分别设置在两个缓冲板(501)下方，两个所述弹簧(503)均分别与缓冲板(501)底部固定连接，两个所述固定座(504)均分别设置箱体(1)侧壁左右两端，两个所述弧形杆(505)均分别安装在两个固定座(504)相互远离的一端，两个所述弧形套(506)均分别设置在两个缓冲板(501)底部，两个所述弧形套(506)的形状均分别与两个弧形杆(505)的形状相适配，两个所述弧形杆(505)均分别贯穿两个弧形套(506)且延伸至两个弧形套(506)内部。