技术总结
本发明属于材料制备技术领域，公开了一种高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料及其制备方法，所述高浓度钼掺杂三氧化钨光催化纳米材料按照质量份数计，由三氧化钨8～12份、钼酸钠6～7份、石墨2～4份、去离子水23～30份、盐酸8～11份、硝酸4～5份、乙二醇5～8份组成。本发明制备的高浓度钼掺杂三氧化钨为光催化纳米材料，可降低原三氧化钨材料中的电子空穴复合率，能增强其在光催化反应中对太阳光谱的吸收宽度，提高光催化反应对太阳光的利用率，并提高光催化降解有机物的效率。同时，本发明通过改变催化剂的结构提高其光催化性能，钼负载中孔三氧化钨能够用有效的利用可见光，拓展了三氧化钨的光响应范围。氧化钨的光响应范围。氧化钨的光响应范围。
技术研发人员：赵田 董茗 邹敏敏 汤松凡 宋丽娟
受保护的技术使用者：湖南工业大学
技术研发日：2020.12.22
技术公布日：2021/4/13